Forno di pressatura a riscaldamento ultrarapido ad alta temperatura 2900°C max 100 kgf Sistema di lavorazione termica rapida

Forno RTP

Forno di pressatura a riscaldamento ultrarapido ad alta temperatura 2900°C max 100 kgf Sistema di lavorazione termica rapida

Numero articolo: TU-RT19

Temperatura massima: 2900 °C Velocità di riscaldamento: 180 °C/s Forza di pressione: 100 kgf
Qualità Assicurata Fast Delivery Global Support

Spedizione: Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Panoramica del prodotto

Product image 2

Product image 3

Questo sistema di lavorazione termica ad alte prestazioni rappresenta l'avanguardia della tecnologia di sinterizzazione rapida, progettato specificamente per laboratori e impianti industriali che richiedono capacità di temperature estreme e cicli termici ultrarapidi. Integrando una temperatura massima di esercizio di 2900°C con un sofisticato meccanismo di pressatura, l'apparecchiatura offre una piattaforma robusta per la ricerca sui materiali consolidati. Questa unità rappresenta un'alternativa ad alta efficienza e conveniente ai tradizionali sistemi di Spark Plasma Sintering (SPS) per campioni di piccola scala, consentendo sperimentazioni rapide senza i costi generali di installazioni industriali più grandi.

I principali casi d'uso di questa apparecchiatura ruotano attorno alla scienza dei materiali avanzata, inclusi lo sviluppo di ceramiche tecniche, leghe refrattarie e materiali compositi. Il sistema è progettato per eccellere in ambienti di R&D impegnativi, dove il controllo preciso delle velocità di riscaldamento e della pressione meccanica è fondamentale per ottenere microstrutture e proprietà dei materiali desiderate. L'ambiente ad alto vuoto garantisce che anche i materiali più reattivi possano essere processati senza ossidazione o contaminazione, rendendolo un punto fermo per la ricerca nel settore aerospaziale, dei semiconduttori e dell'energia.

L'affidabilità è al centro del design di questo sistema. Dotato di una camera a vuoto in acciaio inossidabile a doppio strato con camicia di raffreddamento ad acqua integrata, l'apparecchiatura mantiene l'integrità strutturale e la sicurezza dell'utente anche durante un funzionamento prolungato a temperature estreme. L'inclusione di pirometria a infrarossi tedesca ad alta precisione e controller PID programmabili garantisce che ogni ciclo sia ripetibile e coerente. Questa unità è costruita per resistere alle sollecitazioni della lavorazione termica rapida, offrendo ai ricercatori la fiducia necessaria per spingersi oltre i confini della fisica dei materiali con risultati prevedibili e di alta qualità.

Caratteristiche principali

  • Cicli termici ultrarapidi: In grado di raggiungere velocità di riscaldamento fino a 180°C/s, il sistema consente processi di sinterizzazione flash che minimizzano la crescita dei grani e preservano le caratteristiche uniche dei materiali spesso perse nei forni tradizionali più lenti.
  • Intervallo di temperatura estremo: Progettato per raggiungere una temperatura di picco di 2900°C, questa apparecchiatura consente la lavorazione di materiali ad alto punto di fusione, inclusi tungsteno, molibdeno e ceramiche avanzate al carburo.
  • Pressatura del materiale integrata: Un'asta di pressatura a vite con tenuta a soffietto applica una forza da 10 a 100 kgf direttamente al campione, facilitando la consolidazione delle polveri in componenti ad alta densità sotto vuoto.
  • Integrità dell'alto vuoto: La camera in acciaio inossidabile (SS304) è costruita per raggiungere livelli di vuoto finale superiori a 1e-6 torr, essenziali per la lavorazione di materiali ad alta purezza e per prevenire il degrado di riscaldatori in grafite o tungsteno.
  • Monitoraggio preciso senza contatto: Un avanzato pirometro digitale IR di fabbricazione tedesca fornisce feedback di temperatura in tempo reale attraverso una finestra di osservazione dedicata, garantendo un'accuratezza entro ±0.5% a temperature fino a 3000°C.
  • Configurazioni di riscaldamento versatili: Sono forniti riscaldatori standard in lamina di grafite per campioni fino a Ø 50 mm, con elementi riscaldanti opzionali in tungsteno e riscaldatori speciali per crogioli disponibili per soddisfare specifiche esigenze dei materiali.
  • Progettazione robusta della camera: La camera a vuoto con camicia raffreddata ad acqua garantisce che l'esterno rimanga sicuro al tatto mentre protegge i componenti interni dall'intensa radiazione termica delle operazioni a 2900°C.
  • Controllo PID programmabile: La modalità di riscaldamento automatizzata dispone di 30 segmenti programmabili, consentendo profili termici complessi e cicli di salita/mantenimento precisi con un'accuratezza di ± 3 °C.
  • Raffreddamento critico per la sicurezza: Il sistema è progettato per essere utilizzato con refrigeratori a ricircolo ad alta capacità, proteggendo i passaggi elettrici in rame e le guarnizioni del vuoto dallo stress termico durante i cicli ad alta potenza.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio principale
Sinterizzazione flash Consolidamento rapido di polveri ceramiche mediante velocità di riscaldamento ultrarapide per prevenire la crescita eccessiva dei grani. Controllo superiore della microstruttura e densità.
Metallurgia refrattaria Lavorazione di leghe di tungsteno, tantalio e renio a temperature superiori a 2500°C. Consente la fabbricazione di componenti aerospaziali ad alta purezza.
Ceramiche tecniche Sintesi di Carburo di Silicio (SiC) e Carburo di Boro (B4C) sotto pressione controllata. Maggiore durezza meccanica e resistenza agli shock termici.
R&D sui semiconduttori Ricottura termica rapida e attivazione dei dopanti per materiali elettronici ad alta potenza. Profili termici precisi per proprietà elettriche ottimizzate.
Consolidamento dei compositi Fabbricazione di compositi Carbonio-Carbonio (C/C) e Compositi a matrice metallica (MMC). Migliore adesione interfacciale tramite cicli di pressatura rapidi.
Sintesi dei materiali Reazioni ad alta temperatura per la scoperta di nuovi materiali superconduttivi o termoelettrici. Accelera i cicli di R&D grazie a riscaldamento e raffreddamento rapidi.

Specifiche tecniche

Sistema elettrico e di alimentazione

Parametro Specifiche per TU-RT19
Tensione di ingresso 480 o 400 VAC, 50/60Hz, 3 fasi
Consumo totale di potenza 30 KW
Tensione di uscita < 30 VDC
Corrente di uscita < 1700 A

Prestazioni termiche

Caratteristica Dettagli delle specifiche
Temperatura massima 2900 °C
Velocità di riscaldamento < 180 °C/ s
Misurazione della temperatura Pirometro digitale IR (Germania)
Intervallo del pirometro 1000 °C - 3000 °C
Accuratezza ± (0.5% F.S. + 2 °C)
Ripetibilità ± 0.3% F.S.
Controllo PID 30 segmenti programmabili, accuratezza ± 3 °C

Ciclo di lavoro operativo (stabilità termica)

Temperatura (°C) Durata massima (minuti)
2900 < 1
2800 < 5
2700 < 10
2600 < 20
2500 < 30
2400 < 40
2300 < 60
2000 < 120
< 2000 Funzionamento continuo

Specifiche meccaniche e di pressatura

Componente Specifiche per TU-RT19
Forza di pressatura 10 - 100 kgf
Metodo di azionamento Asta a vite con tenuta a soffietto (standard manuale; motorizzato opzionale)
Accuratezza della pressione ± 1 kg (con compensazione PID motorizzata opzionale)
Dimensione campione (standard) Ø 50 × 1 mm (riscaldatore a lamina di grafite)
Dimensione campione (matrice/crogiolo) Ø 33 × 5 mm (riscaldatore opzionale con matrice in grafite)
Piastre di supporto Piastre di supporto per pressatura in ceramica incluse

Camera e ambiente di vuoto

Caratteristica Dettagli delle specifiche
Materiale della camera Acciaio inossidabile SS304 con camicia di raffreddamento ad acqua
Dimensioni della camera Ø 345 × Ø 315 × L 380 mm
Isolamento termico Set di feltro in grafite ad alta purezza
Finestra di osservazione Quarzo Ø 138 mm (anteriore) / Ø 35 mm (pirometro)
Livello di vuoto finale > 1e-6 torr
Prese di vuoto Porta del vuoto KF 40; ingresso/uscita gas da 1/4"
Misurazione del vuoto Vacuometro digitale incluso

Perché scegliere TU-RT19

  • Velocità ed economia senza pari: Questo sistema offre le velocità di riscaldamento estreme e la pressione necessarie per la sinterizzazione flash a una frazione del costo delle unità industriali di Spark Plasma Sintering, rendendolo l'investimento ideale per una ricerca e sviluppo sui materiali mirata.
  • Integrità superiore dei materiali: La combinazione di un ambiente ad alto vuoto (1e-6 torr) e di una costruzione in acciaio inossidabile raffreddata ad acqua garantisce che i processi termici rimangano puri e che i componenti dell'apparecchiatura siano protetti dal degrado.
  • Ingegneria di precisione: Dotato di un pirometro IR tedesco di livello mondiale e di un controller PID a 30 segmenti, il sistema offre la ripetibilità richiesta per pubblicazioni scientifiche di alto livello e controllo qualità industriale.
  • Capacità flessibile: Con supporto sia per riscaldatori in grafite che in tungsteno, oltre a opzioni di pressatura manuale o motorizzata, il forno può essere personalizzato per gestire un'ampia gamma di materiali, dalle leghe morbide alle ceramiche ultra-dure.
  • Affidabilità comprovata: Ogni unità è certificata CE e costruita secondo rigorosi standard industriali, garantendo una consistenza operativa a lungo termine anche quando opera ai limiti di 2900°C.

Il nostro team tecnico è pronto ad assisterti nella configurazione della soluzione ideale di riscaldamento e pressatura per le tue specifiche esigenze di ricerca. Contattaci oggi per una consulenza tecnica dettagliata o un preventivo competitivo.

Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Forno di pressatura termica ultrarapida Temperatura massima 2900°C Velocità di riscaldamento 200K al secondo Sistema di lavorazione rapida in atmosfera sotto vuoto

Forno di pressatura termica ultrarapida Temperatura massima 2900°C Velocità di riscaldamento 200K al secondo Sistema di lavorazione rapida in atmosfera sotto vuoto

Questo forno di pressatura termica ultrarapida da 2900°C raggiunge velocità di riscaldamento superiori a 200K/s per l'R&D avanzata. Dotato di controllo del vuoto di precisione e pressione a contrappeso integrata, il sistema offre soluzioni ad alte prestazioni per la ricerca sui materiali e le applicazioni di lavorazione termica rapida.

Pressa per pastiglie a riscaldamento ultrarapido ad alto vuoto 2500°C con sistema di caricamento automatico a 8 campioni

Pressa per pastiglie a riscaldamento ultrarapido ad alto vuoto 2500°C con sistema di caricamento automatico a 8 campioni

Ottieni un trattamento termico rapido con questa pressa per pastiglie ad alto vuoto da 2500°C, dotata di riscaldamento ultrarapido e sistema di caricamento automatico a 8 campioni. Ideale per la ricerca avanzata sui materiali, garantisce risultati di sinterizzazione precisi grazie alla movimentazione robotizzata ad alta velocità e alle prestazioni di automazione per i laboratori.

Forno a Tubo ad Alta Temperatura 1500°C con Flange Scorrevoli e OD 50mm per Processi Termici Rapidi, Riscaldamento e Raffreddamento Veloce

Forno a Tubo ad Alta Temperatura 1500°C con Flange Scorrevoli e OD 50mm per Processi Termici Rapidi, Riscaldamento e Raffreddamento Veloce

Ottieni processi termici rapidi con questo forno a tubo da 1500°C max dotato di flange scorrevoli manuali per riscaldamento e raffreddamento accelerati. Progettato per la ricerca in scienza dei materiali, questo sistema ad alta precisione offre prestazioni sottovuoto eccezionali e monitoraggio a doppio controllore per applicazioni di laboratorio impegnative.

Forno a pressa a caldo sottovuoto industriale e pressa sottovuoto riscaldata ad alta temperatura per la sinterizzazione di materiali avanzati

Forno a pressa a caldo sottovuoto industriale e pressa sottovuoto riscaldata ad alta temperatura per la sinterizzazione di materiali avanzati

Questo forno a pressa a caldo sottovuoto ad alte prestazioni fornisce calore e pressione uniassiale simultanei per la densificazione di materiali avanzati. Garantisce una crescita dei cristalli superiore, il trattamento termico dei metalli e la sinterizzazione della ceramica in condizioni di vuoto preciso o atmosfera controllata per la R&S industriale e la produzione.

Forno di pressatura a caldo per laminazione sotto vuoto ad alta temperatura per incollaggio wafer semiconduttori e lavorazione termica di compositi avanzati

Forno di pressatura a caldo per laminazione sotto vuoto ad alta temperatura per incollaggio wafer semiconduttori e lavorazione termica di compositi avanzati

Questa macchina avanzata di laminazione con pressatura a caldo sotto vuoto integra la precisione idraulica con ambienti termici controllati per materiali sensibili all'ossigeno. Progettata per l'incollaggio di wafer semiconduttori e la trasformazione di film sottili, garantisce eccezionale uniformità di pressione e accuratezza di temperatura per R&S e produzione industriale.

Forno a vuoto riscaldato a induzione per temperature ultra elevate con capacità di elettrolisi in sali fusi e controllo di precisione a 3000 gradi

Forno a vuoto riscaldato a induzione per temperature ultra elevate con capacità di elettrolisi in sali fusi e controllo di precisione a 3000 gradi

Forno a vuoto riscaldato a induzione con precisione a 3000ºC, progettato per grafitizzazione ad alta purezza e sinterizzazione ceramica. Questo versatile sistema termico presenta una tecnologia a induzione avanzata e capacità opzionali di elettrolisi in sali fusi per le applicazioni industriali di R&D e di scienza dei materiali più impegnative di oggi.

Forno a riscaldamento rapido a tre zone di temperatura 1500°C Sistema di trattamento termico di laboratorio ad alta precisione

Forno a riscaldamento rapido a tre zone di temperatura 1500°C Sistema di trattamento termico di laboratorio ad alta precisione

Il forno a riscaldamento rapido a tre zone di temperatura, progettato con precisione, offre prestazioni a 1500°C per la ricerca e sviluppo nella scienza dei materiali. Dotato di avanzate barre in carburo di silicio e connettività per computer, questo sistema garantisce un trattamento termico uniforme e un'affidabilità operativa a lungo termine per i laboratori industriali.

Forno a Carico Inferiore per Trattamento Termico Rapido RTP con Controllo dell'Atmosfera 1100C, Elevata Produttività, Velocità di Riscaldamento 50C al Secondo

Forno a Carico Inferiore per Trattamento Termico Rapido RTP con Controllo dell'Atmosfera 1100C, Elevata Produttività, Velocità di Riscaldamento 50C al Secondo

Massimizza l'efficienza della ricerca e sviluppo con questo forno RTP a carico inferiore da 1100°C, dotato di riscaldamento ultraveloce a 50°C/s e controllo dell'atmosfera. Questo sistema ad alta produttività si integra con bracci robotici per la catalisi automatizzata a singolo atomo e applicazioni precise di ricottura di wafer da 6 pollici.

Forno a Caldo a Induzione Sotto Vuoto 600T ad Alta Pressione per Trattamenti Termici e Sinterizzazione di Materiali Avanzati

Forno a Caldo a Induzione Sotto Vuoto 600T ad Alta Pressione per Trattamenti Termici e Sinterizzazione di Materiali Avanzati

Questo forno a caldo a induzione sotto vuoto professionale da 600T offre un controllo preciso di temperatura e pressione per la sinterizzazione di ceramiche e compositi avanzati. Ottieni densità quasi teorica e strutture a grana fine nella R&S o nella produzione industriale con un'affidabilità assoluta del trattamento termico.

Forno Compatto a Carico dal Basso ad Alta Temperatura 1700°C Sistema Rapido di Riscaldamento e Raffreddamento Attrezzatura per Cicli Termici su Piccoli Campioni

Forno Compatto a Carico dal Basso ad Alta Temperatura 1700°C Sistema Rapido di Riscaldamento e Raffreddamento Attrezzatura per Cicli Termici su Piccoli Campioni

Questo forno compatto a carico dal basso da 1700°C presenta un sollevatore motorizzato per una rapida lavorazione dei campioni, un controllo PID di precisione e avanzati elementi riscaldanti in MoSi2, rendendolo la soluzione ideale per la ricerca sui materiali ad alta temperatura e rigorosi test di impatto a cicli termici per applicazioni di laboratorio industriale.

Forno per trattamento termico rapido (RTP) compatto a atmosfera controllata con tubo al quarzo da 4 pollici ID 1100°C

Forno per trattamento termico rapido (RTP) compatto a atmosfera controllata con tubo al quarzo da 4 pollici ID 1100°C

Migliora la ricerca sui semiconduttori con questo forno RTP compatto a atmosfera controllata. Dotato di un tubo al quarzo da 4 pollici e una capacità di 1100°C, offre un riscaldamento di 50°C/secondo per ricottura di precisione, CVD e lavorazione di materiali ad alto rendimento.

Forno a muffola a caricamento dal basso ad alta temperatura per trattamento termico rapido 1700°C, capacità 40L

Forno a muffola a caricamento dal basso ad alta temperatura per trattamento termico rapido 1700°C, capacità 40L

Il forno professionale a caricamento dal basso da 1700°C offre riscaldamento e raffreddamento rapidi per la ricerca avanzata sui materiali. Dotato di caricamento automatizzato e isolamento ad alta purezza, questo sistema garantisce un trattamento termico di precisione in laboratori industriali e strutture di ricerca esigenti in tutto il mondo. Qualità affidabile.

Forno a crogiolo verticale ad alta temperatura con camera di riscaldamento da 22L e temperatura massima di 1200°C

Forno a crogiolo verticale ad alta temperatura con camera di riscaldamento da 22L e temperatura massima di 1200°C

Forno a crogiolo verticale professionale da 1200°C dotato di una camera da 22L, controllo PID a 30 segmenti e protocolli di sicurezza avanzati. Perfetto per la sinterizzazione ad alta purezza, la ricottura dei metalli e la ricerca nella scienza dei materiali in ambienti di R&S industriale e di laboratorio esigenti.

Forno a tubo oscillante ad alta pressione da 1100°C con tubo di processo in superlega da 2 pollici per la sintesi di materiali

Forno a tubo oscillante ad alta pressione da 1100°C con tubo di processo in superlega da 2 pollici per la sintesi di materiali

Avanzato forno a tubo oscillante ad alta pressione da 1100°C dotato di un tubo di processo in superlega da 2 pollici per la sintesi ad alta temperatura sotto pressione. Progettato per la ricerca e sviluppo industriale, questo sistema offre un controllo termico preciso, un movimento oscillante automatizzato e una solida sicurezza per applicazioni complesse di lavorazione dei materiali.

Forno per trattamento termico rapido 950°C per rivestimento CSS di wafer da 12 pollici con supporto per substrato rotante

Forno per trattamento termico rapido 950°C per rivestimento CSS di wafer da 12 pollici con supporto per substrato rotante

Questo forno di precisione per trattamento termico rapido a 950°C è dotato di un supporto rotante per substrati da 12 pollici e riscaldamento IR a doppia zona. Progettato per il rivestimento avanzato di film CSS e la ricottura di semiconduttori, offre una deposizione uniforme di film sottili in condizioni di alto vuoto per la ricerca industriale.

Forno a muffola da banco ad alta temperatura 1700°C, camera da 10L, isolamento in fibra di allumina, elementi riscaldanti in MoSi2

Forno a muffola da banco ad alta temperatura 1700°C, camera da 10L, isolamento in fibra di allumina, elementi riscaldanti in MoSi2

Il forno a muffola da banco ad alta temperatura 1700°C offre un'eccezionale stabilità termica per la ricerca avanzata sui materiali, utilizzando elementi riscaldanti in MoSi2 di alta qualità e isolamento in fibra di allumina per garantire un trattamento termico preciso, uniforme ed energeticamente efficiente per applicazioni critiche di laboratorio e industriali. Progettazione di qualità esperta.

Mini Forno a Induzione ad Alta Temperatura 1600°C Sistema di Fusione Materiali da Laboratorio

Mini Forno a Induzione ad Alta Temperatura 1600°C Sistema di Fusione Materiali da Laboratorio

Mini forno a induzione ad alte prestazioni per la fusione rapida di materiali fino a 1600°C. Il design compatto si adatta alle camere di compensazione (antechamber) dei glovebox per attività di R&S specializzate. Il controllo PID avanzato e le velocità di riscaldamento rapide garantiscono un trattamento termico di precisione per laboratori di scienza dei materiali e metallurgia industriale.

Forno a muffola da banco ad alta temperatura 1500°C, camera in fibra di allumina da 3,6 L, controller programmabile per sinterizzazione, ricottura, carbonizzazione e sistema di trattamento termico

Forno a muffola da banco ad alta temperatura 1500°C, camera in fibra di allumina da 3,6 L, controller programmabile per sinterizzazione, ricottura, carbonizzazione e sistema di trattamento termico

Questo forno a muffola da banco di precisione da 1500°C presenta una camera in fibra di allumina da 3,6 L e un avanzato controllo PID per sinterizzazione e ricottura. I robusti elementi riscaldanti in SiC e l'interfaccia programmabile garantiscono un trattamento termico costante per applicazioni esigenti di ricerca sui materiali e di R&S industriale.

Forno a muffola da banco ad alta temperatura con finestra di osservazione in quarzo per termografia e analisi dei materiali

Forno a muffola da banco ad alta temperatura con finestra di osservazione in quarzo per termografia e analisi dei materiali

Ottieni una lavorazione termica precisa con questo forno a muffola da banco ad alta temperatura da 1700°C dotato di una finestra di osservazione in quarzo integrata. Questo sistema offre una superiore uniformità di temperatura, un controllo PID avanzato e robusti elementi riscaldanti in MoSi2 per la ricerca critica sui materiali e i trattamenti termici industriali.

Forno a muffola ad alta temperatura con camera in lega per applicazioni di debinding e sinterizzazione

Forno a muffola ad alta temperatura con camera in lega per applicazioni di debinding e sinterizzazione

Forno a muffola di precisione da 1100°C dotato di camera da 12x12x12 pollici e box in lega integrato per il debinding specializzato. Questo sistema industriale offre un'eccellente uniformità termica, gestione dei gas e controllo PID per la ricerca avanzata e processi affidabili.

Articoli correlati