Forno PECVD compatto auto-scorrevole Max 1200°C con tubo da 2 pollici e pompa per vuoto

Panoramica del prodotto

Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni è una soluzione compatta di deposizione chimica da fase vapore assistita da plasma (PECVD), progettata specificamente per la ricerca su materiali avanzati e lo sviluppo di film sottili. Integrando un potente generatore di plasma RF con un forno a tubo diviso di precisione, l'apparecchiatura consente ai ricercatori di ottenere una qualità del film superiore a temperature significativamente più basse rispetto ai processi CVD convenzionali. Il valore aggiunto principale risiede nel suo esclusivo meccanismo scorrevole, che consente di spostare rapidamente la zona di riscaldamento nella posizione del campione, facilitando un'esposizione istantanea alle alte temperature e cicli di raffreddamento accelerati per un controllo senza precedenti della microstruttura e della formazione di fase.

Progettato principalmente per la R&S di laboratorio e la scienza dei materiali industriali, il sistema è ideale per la deposizione di una varietà di film, inclusi ossidi di silicio, nitriti e silicio amorfo. La sua versatilità lo rende un elemento fondamentale per i laboratori specializzati in semiconduttori, fotovoltaico e nanotecnologie. L'ingombro compatto consente una perfetta integrazione negli ambienti di laboratorio esistenti senza sacrificare le capacità di alto vuoto e alta temperatura richieste per la sintesi di materiali di livello professionale.

L'affidabilità è al centro del design di questa unità. Costruito con componenti di grado industriale, incluso un robusto generatore RF da 13,56 MHz e tubi di lavorazione in quarzo ad alta purezza, il sistema offre prestazioni costanti anche in cicli di lavoro impegnativi. L'integrazione di flange ad alto vuoto e di una pompa per vuoto a doppio stadio garantisce un ambiente pulito e controllato per i processi sensibili di deposizione chimica da fase vapore, offrendo ai ricercatori la fiducia necessaria per eseguire protocolli sperimentali complessi e multistep con precisione ripetibile.

Caratteristiche principali

• Meccanismo auto-scorrevole integrato: Il forno è montato su un sistema di guide di precisione per impieghi gravosi, che consente la rapida traslazione della zona di riscaldamento. Questa soluzione ingegneristica permette il riscaldamento e il raffreddamento istantanei del campione, aspetto fondamentale per controllare la crescita dei grani e il raffreddamento brusco di fasi metastabili.
• Generazione di plasma RF ad alta efficienza: Dotato di un generatore RF da 300 W funzionante a 13,56 MHz, il sistema genera una scarica di plasma stabile. Ciò consente alle reazioni chimiche di avvenire a temperature del substrato ridotte, proteggendo i materiali sensibili al calore e diminuendo lo stress termico nei film depositati.
• Gestione precisa della temperatura: L'apparecchiatura utilizza un sistema di riscaldamento da 300 watt controllato da un controller PID digitale programmabile a 30 segmenti. Ciò garantisce una precisione di ±1°C e consente l'esecuzione automatica di profili termici complessi, incluse le fasi di salita, mantenimento e raffreddamento.
• Integrità del vuoto superiore: Dotato di flange per vuoto in acciaio inox 304 con guarnizioni a doppio O-ring, il sistema raggiunge un livello di alto vuoto di 3 x 10E-3 torr. L'inclusione di un vacuometro digitale Pirani e di valvole a spillo di alta qualità consente un controllo meticoloso dell'atmosfera di processo.
• Design a forno diviso: Il corpo del forno è progettato come unità a cerniera divisa, che facilita il facile caricamento e scaricamento dei campioni, la rapida sostituzione del tubo di processo e un raffreddamento naturale più rapido quando il meccanismo scorrevole non è in uso.
• Controllo della stechiometria migliorato: Manipolando la potenza del plasma, le portate dei gas e la pressione, gli utenti possono esercitare un controllo preciso sulla composizione chimica e sulle tensioni del film dei materiali depositati, rendendolo uno strumento altamente flessibile per applicazioni di rivestimento specializzate.
• Sicurezza e conformità robuste: Il sistema è certificato CE e incorpora funzionalità protettive come un eliminatore di nebbia d'olio per la pompa per vuoto e opzioni per il monitoraggio dell'ossigeno per prevenire l'ossidazione indesiderata durante cicli di deposizione sensibili.

Applicazioni

Specifiche tecniche

Perché scegliere questo sistema PECVD

• Versatilità termica impareggiabile: La combinazione di una guida auto-scorrevole e della deposizione assistita da plasma consente una finestra sperimentale più ampia rispetto ai forni standard, supportando sia il trattamento termico rapido sia le reazioni chimiche a bassa temperatura.
• Ingegneria di precisione: Ogni componente, dal generatore RF da 13,56 MHz all'assieme del vuoto in acciaio inox, è selezionato per la sua capacità di mantenere rigorose tolleranze industriali durante il funzionamento a lungo termine.
• Integrazione completa: Questo sistema arriva come soluzione completa, comprensiva di forno, generatore di plasma, pompa per vuoto e hardware di monitoraggio, riducendo i tempi di installazione e garantendo la compatibilità dei componenti.
• Scalabile e personalizzabile: Con opzioni per stazioni di miscelazione gas multicanale, sistemi di vaporizzazione di liquidi e controllo software avanzato, l'unità può essere adattata per soddisfare specifici budget di ricerca e requisiti tecnici.
• Affidabilità comprovata: Costruita per superare gli standard di laboratorio, questa apparecchiatura è supportata da una rete di assistenza globale e da un impegno per la produzione di alta qualità, garantendo la protezione del vostro investimento in R&S.

Contattate oggi stesso il nostro team di vendita tecnica per richiedere un preventivo o per discutere di come possiamo personalizzare questo sistema PECVD in base alle vostre specifiche esigenze di deposizione di film sottili.