Forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C con doppi tubi e flange per processi PECVD

Panoramica del prodotto

Questo sistema a forno a doppio scorrimento ad alta temperatura rappresenta una soluzione sofisticata per la deposizione chimica da vapore potenziata da plasma (PECVD) e l'elaborazione termica rapida. Integrando due unità di riscaldamento indipendenti su una guida di scorrimento progettata con precisione, l'attrezzatura consente un controllo senza precedenti sui gradienti termici e sulle velocità di transizione. È specificamente progettato per soddisfare le rigorose esigenze dei ricercatori di scienza dei materiali che richiedono reazioni in fase vapore precise e deposizione di film sottili di alta qualità attraverso zone termiche variabili.

Utilizzato principalmente nella fabbricazione di semiconduttori, nella sintesi di nanomateriali e nella ricerca sui rivestimenti avanzati, questo sistema eccelle in ambienti in cui il riscaldamento e il raffreddamento rapidi sono fondamentali per ottenere fasi materiali specifiche. La configurazione a doppio forno consente la separazione fisica delle zone di evaporazione del precursore e di deposizione del substrato, un requisito chiave per la crescita di materiali complessi come perovskiti o cristalli 2D. I settori target includono l'aerospaziale, l'accumulo di energia e l'optoelettronica, dove la purezza del materiale e l'integrità strutturale sono fondamentali per lo sviluppo di tecnologie di prossima generazione.

Costruita per un'affidabilità di livello industriale, l'unità utilizza quarzo ad alta purezza e isolamento termico avanzato per mantenere un'eccezionale stabilità termica. Il robusto meccanismo di scorrimento e la sorgente di plasma RF integrata assicurano che l'attrezzatura funzioni in modo coerente durante cicli operativi continui ed esigenti. Questo sistema fornisce una piattaforma stabile e ripetibile per la sintesi ad alta temperatura, offrendo ai laboratori industriali e accademici la sicurezza di eseguire protocolli sperimentali complessi senza compromettere la precisione o la sicurezza.

Caratteristiche principali

• Sistema dinamico di scorrimento a doppio forno: L'attrezzatura è dotata di due forni indipendenti montati su una guida di scorrimento in acciaio cromato da 1200 mm. Ciò consente di spostare manualmente le camere di riscaldamento fino a 400 mm, permettendo agli utenti di passare dalle zone di evaporazione della sorgente a quelle di deposizione o di ottenere un rapido spegnimento termico allontanando la fonte di calore dal campione.
• Integrazione plasma RF ad alte prestazioni: Dotato di un generatore RF da 13,56 MHz e 300W con adattamento automatico, questo sistema consente la deposizione chimica da vapore potenziata da plasma. La sorgente di plasma consente la crescita del film a temperature significativamente più basse rispetto al CVD tradizionale, preservando l'integrità dei substrati sensibili.
• Capacità di elaborazione termica rapida (RTP): Preriscaldando un forno e facendolo scorrere sulla zona di elaborazione, il sistema può raggiungere velocità di riscaldamento e raffreddamento estreme (fino a 15°C/sec in intervalli specifici), consentendo lo studio della cinetica ad alta temperatura e dei processi di ricottura rapida.
• Regolazione PID della temperatura di precisione: Ogni unità del forno è controllata da un controller automatico PID dedicato dotato di 30 segmenti programmabili. Ciò garantisce una precisione della zona a temperatura costante di ±1°C, fornendo la coerenza richiesta per la deposizione chimica da vapore sensibile.
• Sicurezza e durata avanzate: I forni utilizzano una struttura in acciaio a doppio strato con raffreddamento ad aria per mantenere bassa la temperatura della superficie esterna. Gli allarmi di sovratemperatura integrati e i sistemi di protezione consentono un funzionamento sicuro e incustodito durante lunghi cicli di deposizione.
• Ambiente materiale ad alta purezza: Il sistema include un tubo in quarzo fuso ad alta purezza con diametro esterno di 50 mm e flange a vuoto in acciaio inossidabile. Questa configurazione garantisce un ambiente pulito e a tenuta di vuoto adatto alla sintesi di materiali ad alta purezza e alla lavorazione a bassa pressione.
• Controllo versatile del gradiente termico: Il design a doppia zona consente il riscaldamento indipendente di precursori e substrati. Questo è fondamentale per i materiali con diverse pressioni di vapore, garantendo l'equilibrio stechiometrico nella zona di reazione.
• Opzioni di espansione modulare: Il sistema è progettato per crescere con le esigenze di ricerca, supportando guide di scorrimento motorizzate opzionali, sistemi di miscelazione del gas multicanale e moduli di controllo basati su PC per la registrazione automatica dei dati e la gestione del profilo.

Applicazioni

Specifiche tecniche

Perché scegliere TU-RT11

• Versatilità avanzata a doppia zona: A differenza dei forni a tubo standard, il design a doppio scorrimento del TU-RT11 consente una complessa elaborazione termica multistadio e una gestione indipendente dei precursori, fondamentale per la scienza dei materiali moderna.
• Agilità termica superiore: La capacità di raggiungere velocità di raffreddamento e riscaldamento fino a 15°C/sec fornisce ai ricercatori uno strumento in grado di simulare ambienti industriali di elaborazione termica rapida (RTP) e spegnimento.
• Ingegneria di precisione: Con l'adattamento RF automatico e una precisione della temperatura di ±1°C, questo sistema elimina le variabili nella PECVD, assicurando che la deposizione di film sottili sia ripetibile e della massima qualità.
• Conformità e sicurezza complete: Ogni unità è certificata CE e costruita con strutture di sicurezza a doppio strato, garantendo un ambiente di laboratorio sicuro anche durante operazioni RF ad alta temperatura e alta potenza.
• Soluzioni personalizzabili: Dai tubi in lega per applicazioni ad alta pressione allo scorrimento motorizzato e all'erogazione di gas multicanale, offriamo un'ampia personalizzazione per adattare l'attrezzatura ai tuoi specifici obiettivi di ricerca.

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