Forno a tubo di quarzo a grande diametro da 1100°C con zona di riscaldamento da 24 pollici e flange raffreddate ad acqua

Panoramica del prodotto

Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni è progettato per soddisfare le rigorose esigenze della ricerca nel campo della scienza dei materiali e della produzione pilota industriale. Dotato di un tubo di processo in quarzo con un diametro significativo di 8,5 pollici, l'apparecchiatura è progettata per processi di deposizione chimica da vapore (CVD) che coinvolgono campioni su larga scala o wafer semiconduttori. La sua architettura robusta e l'ampia zona di riscaldamento forniscono l'uniformità termica necessaria per complesse trasformazioni dei materiali, garantendo che ogni lotto soddisfi rigorosi standard di qualità.

Nel panorama della moderna ricerca e sviluppo, questo sistema funge da piattaforma versatile per la sintesi di materiali avanzati, inclusi nanomateriali e film sottili. Integrando una camera in quarzo ad alta purezza con elementi riscaldanti a controllo di precisione, l'unità mantiene un ambiente di qualità da camera bianca anche a temperature elevate. Ciò lo rende uno strumento indispensabile per i laboratori focalizzati su energia pulita, elettronica e componenti aerospaziali, dove il controllo della contaminazione è critico quanto la precisione della temperatura.

L'affidabilità è al centro del design di questa unità. Costruito con componenti di alta qualità di grado industriale e un involucro in acciaio a doppio strato, garantisce coerenza operativa in condizioni impegnative. Che si tratti di eseguire cicli continui di 24 ore per la sinterizzazione a lungo termine o cicli termici rapidi per test di stress, questa apparecchiatura fornisce la stabilità meccanica e termica richiesta per risultati scientifici riproducibili e flussi di lavoro industriali efficienti.

Caratteristiche principali

• Ampio tubo di processo in quarzo da 8,5 pollici: Il tubo in quarzo fuso ad alta purezza offre un volume di elaborazione massiccio adatto a grandi wafer o alla calcinazione di polveri ad alta capacità, garantendo la massima produttività negli ambienti di ricerca.
• Riscaldamento a resistenza avanzato in NiCrAl: Gli elementi in filo di NiCrAl ad alte prestazioni sono posizionati strategicamente per fornire un efficiente trasferimento di calore e una temperatura operativa massima di 1100°C con un'eccezionale longevità.
• Regolazione della temperatura PID di precisione: Il controller programmabile integrato consente fino a 30 segmenti distinti di riscaldamento e raffreddamento, fornendo un controllo granulare sul profilo termico per prevenire il superamento della temperatura e mantenere una precisione di ±1°C.
• Flange in acciaio inossidabile raffreddate ad acqua: Le flange incernierate ad alta integrità includono canali di raffreddamento ad acqua integrati, che proteggono le guarnizioni ermetiche durante le operazioni ad alta temperatura e garantiscono che i livelli di vuoto vengano mantenuti durante tutto il processo.
• Involucro in acciaio a doppio strato con raffreddamento a ventola: La struttura esterna del forno è progettata con un'intercapedine d'aria protettiva e ventole di raffreddamento attive, mantenendo la temperatura della superficie esterna al di sotto dei 70°C per la sicurezza dell'operatore e la durata dell'apparecchiatura.
• Isolamento fibroso in allumina ad alta purezza: L'uso di un isolamento fibroso in alluminosilicato di alta qualità massimizza la ritenzione termica e l'efficienza energetica, riducendo il consumo energetico e proteggendo i componenti interni dall'affaticamento termico.
• Sistema di monitoraggio a doppia termocoppia: Una configurazione a doppia termocoppia di tipo K fornisce canali separati per il controllo della temperatura e il monitoraggio della sicurezza, con un allarme di sovratemperatura e di rottura della termocoppia per un funzionamento a prova di guasto.
• Gestione versatile dell'atmosfera: Dotato di ingresso/uscita gas con tubo a compressione da 1/4" e porte per vuoto KF25, questo sistema consente un controllo preciso della pressione interna e della composizione dell'atmosfera durante il trattamento termico.

Applicazioni

Specifiche tecniche

Perché scegliere TU-28

Investire nel sistema TU-28 garantisce che il tuo laboratorio o impianto di produzione sia dotato di una soluzione termica che privilegia sia la precisione che la scalabilità. Questa unità è progettata specificamente per coloro che richiedono qualcosa di più di un semplice riscaldamento standard; è pensata per chi necessita di un ambiente controllato ad alta purezza per l'innovazione dei materiali su larga scala. Il tubo da 8,5 pollici di diametro offre un netto vantaggio competitivo, consentendo il passaggio dai test su piccola scala alla produzione pilota senza la necessità di più unità più piccole.

Il nostro impegno per l'eccellenza ingegneristica si riflette nelle caratteristiche di sicurezza e nella qualità costruttiva di questo sistema. Dalle flange raffreddate ad acqua che proteggono le delicate guarnizioni del vuoto all'involucro a doppio strato che garantisce un ambiente di laboratorio sicuro, ogni componente è scelto per la sua durata. Scegliendo questa apparecchiatura, benefici di una piattaforma collaudata utilizzata dai principali istituti di ricerca di tutto il mondo per la grafitizzazione, la CVD e la ricerca sui semiconduttori.

Oltre all'hardware, forniamo un supporto tecnico completo e una gamma di opzioni di personalizzazione per garantire che il forno si integri perfettamente nel tuo flusso di lavoro esistente. Che tu richieda un'integrazione avanzata LabVIEW per la registrazione automatizzata dei dati o modifiche specifiche alle flange per sistemi di erogazione del gas unici, il nostro team di ingegneri è pronto ad assisterti. Contattaci oggi per richiedere un preventivo o per discutere una soluzione termica personalizzata su misura per i tuoi specifici requisiti di processo.