Forno tubolare
Forno a Tubo in Quarzo a Doppia Zona con Diametro 80mm, Temperatura Massima 1200°C, Miscelatore Gas a 3 Canali e Sistema a Pompa a Vuoto
Numero articolo: TU-42
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Panoramica del Prodotto
Questo forno a tubo diviso ad alte prestazioni a doppia zona rappresenta una soluzione versatile per la ricerca avanzata nella scienza dei materiali e per la R&S industriale. Integrando un sistema di distribuzione gas multicanale con capacità di alto vuoto, questo sistema fornisce l'ambiente controllato necessario per la Deposizione Chimica da Vapore (CVD), il Trasporto Chimico da Vapore (CVT) e vari processi di ricottura ad alta temperatura. L'attrezzatura è progettata per ricercatori che richiedono un controllo assoluto sui gradienti termici e sulla composizione atmosferica, garantendo risultati ripetibili nello sviluppo di materiali di nuova generazione come i dicalcogenuri dei metalli di transizione e i semiconduttori a film sottile.
Il valore fondamentale di questa unità risiede nella sua architettura a doppia zona, che consente di creare precisi gradienti di temperatura attraverso un tubo in quarzo ad alta purezza. Questa funzionalità è essenziale per i processi in cui la sublimazione del precursore e la deposizione sul substrato devono avvenire a temperature distinte e controllate in modo indipendente. I settori target includono la produzione di semiconduttori, la ricerca in nanotecnologia e la metallurgia avanzata. Il design a forno diviso facilita il raffreddamento rapido e un facile accesso alla camera di processo, riducendo significativamente i tempi di inattività tra le sessioni sperimentali e aumentando la produttività in ambienti di laboratorio intensivi.
L'affidabilità è progettata in ogni componente di questo sistema di trattamento termico. Dal rivestimento in acciaio a doppio strato con raffreddamento a ventola integrato ai controller PID di precisione, l'attrezzatura è costruita per resistere al funzionamento continuo in condizioni impegnative. L'inclusione di un manometro per vuoto anti-corrosione garantisce che, anche quando si lavora con gas aggressivi, il sistema mantenga un monitoraggio accurato della pressione senza degrado del sensore. Questa unità offre le prestazioni robuste e la conformità alla sicurezza richieste negli ambienti di laboratorio moderni, fornendo agli utenti la fiducia necessaria per eseguire complessi profili termici con una supervisione minima.
Caratteristiche Principali
- Riscaldamento a Doppia Zona Indipendente: Il forno presenta due zone di riscaldamento separate, ciascuna di 200 mm di lunghezza, fornendo un'area di riscaldamento totale di 400 mm. Ciò consente di creare precisi gradienti di temperatura o una grande zona a temperatura costante fino a 250 mm quando entrambe le zone sono sincronizzate, offrendo una flessibilità senza pari per il Trasporto Chimico da Vapore (CVT).
- Controllo di Temperatura PID di Precisione: Dotato di due controller PID avanzati, il sistema offre 30 segmenti programmabili per una gestione meticolosa delle velocità di riscaldamento, raffreddamento e dei tempi di permanenza. L'accuratezza è mantenuta entro ±1°C, garantendo un'elevata stabilità di processo per la crescita di materiali sensibili.
- Stazione di Miscelazione Gas a 3 Canali Integrata: È incluso un sistema professionale di distribuzione gas, con tre misuratori di portata indipendenti e un serbatoio di miscelazione. Ciò consente la miscelazione precisa di vari gas di processo, permettendo reazioni CVD complesse e il controllo atmosferico all'interno della camera di reazione in quarzo.
- Integrazione a Vuoto ad Alte Prestazioni: Il sistema include una pompa a vuoto a palette rotative a doppio stadio da 156 L/m, capace di raggiungere livelli di vuoto fino a 10^-2 torr. Il sistema a vuoto è protetto con flange e valvole in acciaio inossidabile KF25 di alta qualità per garantire l'integrità del vuoto a lungo termine e tassi di perdita inferiori a 5 m-torr/min.
- Manometro a Capacità Pirani Anti-Corrosione: A differenza dei manometri standard, questa unità utilizza un manometro a diaframma capacitivo rivestito in ceramica. Questo sensore specializzato è progettato per resistere alla corrosione da precursori chimici aggressivi, fornendo misurazioni del vuoto affidabili da 10^-5 a 1000 torr in ambienti di processo ostili.
- Sicurezza Avanzata e Raffreddamento: Il rivestimento in acciaio a doppio strato incorpora un sistema di raffreddamento ad aria automatico. Termostati integrati attivano le ventole interne se la temperatura del case supera i 55°C, garantendo che l'esterno rimanga sicuro al tatto proteggendo al contempo i componenti elettronici interni dallo stress termico.
- Camera di Processo in Quarzo ad Alta Purezza: Il sistema utilizza un tubo in quarzo fuso ad alta purezza da 80 mm OD. Questo materiale offre un'eccezionale resistenza agli shock termici e inerzia chimica, fornendo un ambiente trasparente che consente il monitoraggio visivo di campioni e precursori durante il trattamento termico.
- Automazione e Connettività: Una porta di comunicazione RS485 integrata consente la registrazione esterna dei dati. Il sistema è anche compatibile con software basato su LabView, consentendo il funzionamento remoto e la gestione delle ricette tramite PC per flussi di lavoro di ricerca altamente automatizzati.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio Chiave |
|---|---|---|
| Crescita CVD di Grafene | Deposizione da vapore di atomi di carbonio su fogli metallici in atmosfere gassose controllate. | La miscelazione gas ad alta purezza garantisce una crescita di strato singolo di alta qualità. |
| Sintesi di Nanonastri TMD | Controllo preciso sulla pressione di vapore del calcogeno per la crescita di Dicalcogenuri dei Metalli di Transizione. | Le zone indipendenti consentono temperature separate per sublimazione e deposizione. |
| Trasporto Chimico da Vapore (CVT) | Creazione di gradienti di temperatura per guidare la migrazione del vapore e la cristallizzazione di cristalli ad alta purezza. | Il controllo a doppia zona stabilisce il gradiente specifico necessario per la crescita dei cristalli. |
| Ricottura di Semiconduttori | Trattamento termico di wafer di silicio o semiconduttori composti sotto vuoto o in gas inerte. | Il manometro anti-corrosione consente l'uso di gas aggressivi per la pulizia o il drogaggio. |
| Sinterizzazione di Polveri | Consolidamento ad alta temperatura di polveri ceramiche o metalliche in atmosfera controllata. | Le zone a temperatura uniforme prevengono lo stress termico e garantiscono una densità costante. |
| Ricerca su Materiali 2D | Esplorazione di MoS2, WS2 e altri materiali stratificati tramite metodi in fase vapore. | Il design a forno diviso consente un raffreddamento rapido per bloccare le fasi di reazione. |
| Sviluppo di Fosfori | Sintesi di materiali luminescenti che richiedono profili specifici di atmosfera e temperatura. | La programmazione precisa a 30 segmenti replica ricette industriali complesse. |
Specifiche Tecniche
| Gruppo Parametri | Dettaglio Specifica | Valore per TU-42 |
|---|---|---|
| Costruzione Generale | Materiale del Rivestimento | Acciaio a doppio strato con ventole di raffreddamento ad aria |
| Termostato di Sicurezza | Le ventole di raffreddamento si attivano a temperatura case > 55°C | |
| Conformità | Certificato CE; componenti pronti per UL/CSA | |
| Alimentazione & Elettrico | Consumo di Potenza | 2.5 KW |
| Tensione di Ingresso | AC 208-240V Monofase, 50/60 Hz | |
| Prestazioni Termiche | Temperatura Massima | 1200 °C |
| Temperatura di Lavoro Continua | 1100 °C | |
| Velocità di Riscaldamento Max | ≤ 20 °C/min (≤ 5 °C/min sopra 1000°C) | |
| Accuratezza della Temperatura | +/- 1°C | |
| Elementi Riscaldanti | Lega Fe-Cr-Al drogata con Mo | |
| Zone di Riscaldamento | Lunghezza Zona Riscaldamento | Due Zone: 200 mm (8") ciascuna; totale 400 mm |
| Zona a Temp. Costante (Doppia) | 250 mm (10") a +/- 1°C (entrambe le zone sincronizzate) | |
| Zona a Temp. Costante (Singola) | 110 mm (4.3") a +/- 1°C (solo zona centrale) | |
| Tubo di Processo | Materiale del Tubo | Quarzo Fuso ad Alta Purezza |
| Dimensioni del Tubo | 80 mm OD x 72 mm ID x 1000 mm Lunghezza | |
| Sistema di Controllo | Tipo di Controller | Controller automatici PID doppi |
| Programmazione | 30 segmenti (Riscaldamento, Raffreddamento, Permanenza) | |
| Protezioni | Protezione da surriscaldamento e termocoppia rotta | |
| Comunicazione | Porta RS485 (compatibile con PC/LabView) | |
| Sistema a Vuoto | Tipo di Pompa a Vuoto | Pompa a palette rotative doppio stadio 156 L/m |
| Vuoto Massimo (Meccanico) | 10^-2 torr | |
| Manometro per Vuoto | Manometro a Diaframma Capacitivo Anti-Corrosione | |
| Gamma del Manometro | 10^-5 a 1000 torr | |
| Flangie di Tenuta | Acciaio Inossidabile KF25 con doppia valvola | |
| Tasso di Perdita | < 5 m-torr/min; < 2 torr in 24 ore | |
| Miscelazione Gas | Misuratori di Portata Gas | Tre misuratori di portata a lettura diretta (10-100, 16-160, 25-250 cc/min) |
| Hardware di Miscelazione | Serbatoio di miscelazione interno e quattro valvole di controllo in acciaio inossidabile | |
| Monitoraggio Pressione | Manometro di pressione integrato per il serbatoio di miscelazione |
Perché Sceglierci
- Superiore Versatilità Termica: La configurazione a doppia zona di questo sistema fornisce ai ricercatori la capacità essenziale di creare precisi gradienti termici, un requisito per il Trasporto Chimico da Vapore e la crescita di cristalli di alta qualità che i forni a zona singola non possono eguagliare.
- Affidabilità del Vuoto di Livello Industriale: Includendo come standard un manometro a capacità capacitivo anti-corrosione, questo forno garantisce longevità e accuratezza quando si maneggiano gas aggressivi, proteggendo il vostro investimento dai guasti del sensore comuni nei sistemi di fascia inferiore.
- Ingegnerizzazione dell'Atmosfera di Precisione: Il miscelatore gas a 3 canali integrato e la pompa a vuoto forniscono una soluzione completa e chiavi in mano per la ricerca CVD, eliminando la necessità di componenti di terze parti e garantendo una perfetta compatibilità tra distribuzione gas e trattamento termico.
- Sicurezza e Certificazione Collaudate: Con la certificazione CE e l'uso di componenti elettrici certificati UL/MET/CSA, questa attrezzatura soddisfa i rigorosi standard di sicurezza richiesti dai principali laboratori accademici e industriali di tutto il mondo.
- Ingegneria Robusta e Supporto: Costruito con un guscio a doppio strato raffreddato ad aria ed elementi in lega drogata con Mo ad alta efficienza, l'unità è progettata per anni di funzionamento costante. Forniamo un supporto tecnico completo e opzioni di personalizzazione per soddisfare le vostre specifiche esigenze di ricerca.
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