Forno tubolare apribile verticale 0-1700°C Sistema di laboratorio ad alta temperatura per CVD e trattamento termico sotto vuoto

Forno tubolare

Forno tubolare apribile verticale 0-1700°C Sistema di laboratorio ad alta temperatura per CVD e trattamento termico sotto vuoto

Numero articolo: TU-21

Temperatura massima: 1700°C Uniformità della temperatura: ±1,5°C Livello di vuoto finale: 5×10⁻⁴ Pa
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Panoramica del prodotto

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Questa apparecchiatura sperimentale ad alta temperatura rappresenta l'apice dell'ingegneria termica, progettata specificamente per la ricerca, lo sviluppo e la convalida dei processi dei materiali più rigorosi. Integrando riscaldamento ad alta temperatura, sofisticato controllo vuoto-atmosfera e capacità di trattamento termico rapido, l'apparecchiatura funge da piattaforma versatile per gli ambienti di laboratorio più esigenti. La struttura apribile verticale è progettata per offrire la massima accessibilità e flessibilità, consentendo ai ricercatori di passare senza soluzione di continuità dalla sinterizzazione base dei materiali alla deposizione chimica da vapore (CVD) complessa o alla ricottura sotto vuoto. Costruito con robustezza industriale, questa unità fornisce la precisione richiesta dai scienziati dei materiali in laboratori universitari, centri di R&D di semiconduttori e produzione aerospaziale. Riflette un impegno per l'eccellenza ingegneristica, garantendo che ogni ciclo termico sia coerente, ripetibile e sicuro, anche quando funziona a temperature fino a 1700℃ in alto vuoto o atmosfere di gas specializzate.

Caratteristiche chiave

  • Architettura apribile verticale: Il corpo del forno è progettato per separarsi verticalmente, fornendo accesso a 180 gradi al tubo di reazione per facilitare il caricamento, la manutenzione e l'integrazione di sensori di monitoraggio interni o moduli di tempra.
  • Riscaldamento di precisione a tre zone: La programmazione avanzata a più stadi tramite regolazione indipendente di tre zone di temperatura separate garantisce un'ampia regione di temperatura costante con compensazione termica ottimizzata per un'uniformità di ±1,5℃.
  • Isolamento in allumina ad alta purezza: La camera utilizza fibra policristallina di allumina ad alta purezza di grado 1700, un materiale selezionato per la sua capacità termica eccezionalmente bassa e la superiore resistenza agli shock termici, garantendo riscaldamento rapido ed efficienza energetica.
  • Elementi riscaldanti MoSi2 avanzati: Dotato di barre di silicio molibdeno ad alta densità, il sistema di riscaldamento è in grado di funzionare continuamente a temperature estreme, con aggiornamenti opzionali disponibili per ambienti che richiedono fino a 1800℃.
  • Sistema integrato di raffreddamento rapido: Un sistema di circolazione di raffreddamento ad aria integrato e flange di raffreddamento ad acqua opzionali facilitano un calo termico ad alta velocità, consentendo ai campioni di sottoporsi a trattamento di tempra in 10 secondi per studi di cambiamento di fase.
  • Sigillatura sotto vuoto sofisticata: L'apparecchiatura è dotata di un doppio sistema di tenuta in gomma fluorurata di tipo O e flange raffreddate ad acqua, raggiungendo un tasso di perdita di vuoto ≤5×10⁻⁴ Pa·m³/s se abbinato a unità di pompa molecolare ad alte prestazioni.
  • Logica di controllo PID intelligente: Utilizzando strumentazione premium giapponese Shimaden o europea Continental, il sistema supporta la programmazione a 50 segmenti, la comunicazione RS485 e l'archiviazione di più profili di processo preimpostati.
  • Suite di gestione atmosferica: Un sistema a doppio misuratore di portata massica con elettrovalvole ad alta precisione e regolatori di pressione consente l'introduzione controllata di gas inerti o reattivi, idrogeno compreso.
  • Blocchi di sicurezza completi: Il sistema è protetto da più strati di sicurezza, tra cui spegnimento automatico per sovratemperatura, allarmi per termocoppia rotta, monitoraggio della pressione dell'acqua e valvole di sfogo di emergenza.
  • Compatibilità con espansione modulare: Progettata per la versatilità, la piattaforma supporta moduli esterni come portacampioni rotanti, termometri a infrarossi e analizzatori di gas per adattarsi ai requisiti di ricerca in evoluzione.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio chiave
CVD per semiconduttori Deposizione di film sottili e nanomateriali su substrati di silicio o zaffiro utilizzando precursori di vapore. Il controllo preciso del flusso di gas e della temperatura garantisce spessore uniforme del film e alta purezza.
Ceramiche aerospaziali Sinterizzazione ad alta temperatura e prove di stress di compositi a matrice ceramica (CMC) e componenti di turbine. L'orientamento verticale ospita parti strutturali lunghe mantenendo una stabilità termica estrema.
R&S di batterie al litio Calcinazione e sintesi di materiali catodici/anodici in atmosfere controllate di azoto o argon. L'elevata ripetibilità dei cicli termici porta a dati di prestazioni elettrochimiche coerenti.
Ricottura sotto vuoto Sollievo delle sollecitazioni e affinamento della struttura dei grani di metalli refrattari e leghe speciali in ambienti privi di ossigeno. Previene ossidazione e contaminazione, mantenendo l'integrità metallurgica del campione.
Tempra rapida Prova delle proprietà dei materiali dopo cali di temperatura improvvisi per simulare i processi di raffreddamento industriali. Consente lo studio di fasi di non equilibrio e lo sviluppo della microstruttura in pochi secondi.
Illuminazione a stato solido Sintesi di fosfori e cristalli ottici che richiedono ambienti termici ad alta purezza. La camera in allumina pulita previene la contaminazione incrociata dei droganti e garantisce un elevato rendimento di luminescenza.
Crescita di nanotubi di carbonio Crescita verticale di foreste di CNT e strutture di grafene tramite deposizione chimica da vapore. I gradienti termici ottimizzati nella zona di crescita forniscono allineamento e densità superiori.

Specifiche tecniche

Categoria di parametro Dettagli delle specifiche per TU-21
Temperatura massima di esercizio 1700℃ (Elementi riscaldanti MoSi2); Opzionale 1800℃ (Grafite/SiC)
Velocità di riscaldamento Massima ≤15℃/min; Consigliata ≤10℃/min
Velocità di raffreddamento Massima ≤10℃/min; Il modulo di tempra ottiene un calo in ≤10s
Uniformità di temperatura ±1,5℃ (Entro la zona di temperatura costante di 150mm)
Controllo della temperatura Giappone Shimaden FP93 / Continental 3504; 50 segmenti; Auto-regolazione PID
Materiale camera forno Fibra policristallina di allumina ad alta purezza di grado 1700
Dimensione standard del tubo Tubo di corindone (Diametro esterno Φ60mm × Lunghezza 1200mm)
Opzioni di materiale del tubo Quarzo, acciaio inossidabile o tubi refrattari personalizzati (Φ30-100mm)
Resistenza alla pressione ≤ 0,1MPa (Vuoto/Pressione positiva)
Prestazioni di vuoto Pompa meccanica: 5×10⁻² Pa; Pompa molecolare: 5×10⁻⁴ Pa
Interfaccia di tenuta Doppio O in gomma fluorurata (nominale 250℃) + Flangia KF25
Sistema di controllo del gas Misuratore di portata massica a doppia via (0-500sccm); Precisione ±1%
Configurazione di alimentazione Supporto per la personalizzazione della tensione 220V/380V
Progettazione strutturale involucro verticale in acciaio inossidabile a doppio strato con raffreddamento ad aria integrato
Protezione di sicurezza Spegnimento per sovratemperatura, accoppiamento rotto, allarmi pressione acqua/gas, interruttore differenziale
Dimensioni esterne Ingombro verticale con ruote mobili e piedi di regolazione orizzontale

Perché scegliere noi

  • Affidabilità a lungo termine comprovata: Costruito con componenti di livello industriale e un involucro a doppio strato, questo forno è progettato per il funzionamento continuo in ambienti di ricerca ad alto rischio senza degrado delle prestazioni.
  • Precisione termica eccezionale: La tecnologia di compensazione indipendente a tre zone fornisce un livello di uniformità e stabilità della temperatura fondamentale per il successo dei processi CVD e di sinterizzazione sensibili.
  • Flessibilità modulare senza pari: Che tu richieda alto vuoto, circuiti di gas specializzati o portacampioni rotanti, questo sistema è progettato per crescere con le tue esigenze di ricerca grazie alla sua interfaccia modulare.
  • Normative di sicurezza rigorose: Dalla gestione dell'idrogeno allo sfogo ad alta pressione, il sistema incorpora meccanismi di sicurezza ridondanti per proteggere il personale di laboratorio e i tuoi materiali di alto valore.
  • Fabbricazione di precisione: Ogni unità subisce calibrazione rigorosa e prove di perdita di vuoto per garantire che soddisfi i nostri standard esigenti di robustezza industriale e eccellenza tecnica.

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