Forno tubolare
Forno tubolare apribile verticale 0-1700°C Sistema di laboratorio ad alta temperatura per CVD e trattamento termico sotto vuoto
Numero articolo: TU-21
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Panoramica del prodotto
Questa apparecchiatura sperimentale ad alta temperatura rappresenta l'apice dell'ingegneria termica, progettata specificamente per la ricerca, lo sviluppo e la convalida dei processi dei materiali più rigorosi. Integrando riscaldamento ad alta temperatura, sofisticato controllo vuoto-atmosfera e capacità di trattamento termico rapido, l'apparecchiatura funge da piattaforma versatile per gli ambienti di laboratorio più esigenti. La struttura apribile verticale è progettata per offrire la massima accessibilità e flessibilità, consentendo ai ricercatori di passare senza soluzione di continuità dalla sinterizzazione base dei materiali alla deposizione chimica da vapore (CVD) complessa o alla ricottura sotto vuoto. Costruito con robustezza industriale, questa unità fornisce la precisione richiesta dai scienziati dei materiali in laboratori universitari, centri di R&D di semiconduttori e produzione aerospaziale. Riflette un impegno per l'eccellenza ingegneristica, garantendo che ogni ciclo termico sia coerente, ripetibile e sicuro, anche quando funziona a temperature fino a 1700℃ in alto vuoto o atmosfere di gas specializzate.
Caratteristiche chiave
- Architettura apribile verticale: Il corpo del forno è progettato per separarsi verticalmente, fornendo accesso a 180 gradi al tubo di reazione per facilitare il caricamento, la manutenzione e l'integrazione di sensori di monitoraggio interni o moduli di tempra.
- Riscaldamento di precisione a tre zone: La programmazione avanzata a più stadi tramite regolazione indipendente di tre zone di temperatura separate garantisce un'ampia regione di temperatura costante con compensazione termica ottimizzata per un'uniformità di ±1,5℃.
- Isolamento in allumina ad alta purezza: La camera utilizza fibra policristallina di allumina ad alta purezza di grado 1700, un materiale selezionato per la sua capacità termica eccezionalmente bassa e la superiore resistenza agli shock termici, garantendo riscaldamento rapido ed efficienza energetica.
- Elementi riscaldanti MoSi2 avanzati: Dotato di barre di silicio molibdeno ad alta densità, il sistema di riscaldamento è in grado di funzionare continuamente a temperature estreme, con aggiornamenti opzionali disponibili per ambienti che richiedono fino a 1800℃.
- Sistema integrato di raffreddamento rapido: Un sistema di circolazione di raffreddamento ad aria integrato e flange di raffreddamento ad acqua opzionali facilitano un calo termico ad alta velocità, consentendo ai campioni di sottoporsi a trattamento di tempra in 10 secondi per studi di cambiamento di fase.
- Sigillatura sotto vuoto sofisticata: L'apparecchiatura è dotata di un doppio sistema di tenuta in gomma fluorurata di tipo O e flange raffreddate ad acqua, raggiungendo un tasso di perdita di vuoto ≤5×10⁻⁴ Pa·m³/s se abbinato a unità di pompa molecolare ad alte prestazioni.
- Logica di controllo PID intelligente: Utilizzando strumentazione premium giapponese Shimaden o europea Continental, il sistema supporta la programmazione a 50 segmenti, la comunicazione RS485 e l'archiviazione di più profili di processo preimpostati.
- Suite di gestione atmosferica: Un sistema a doppio misuratore di portata massica con elettrovalvole ad alta precisione e regolatori di pressione consente l'introduzione controllata di gas inerti o reattivi, idrogeno compreso.
- Blocchi di sicurezza completi: Il sistema è protetto da più strati di sicurezza, tra cui spegnimento automatico per sovratemperatura, allarmi per termocoppia rotta, monitoraggio della pressione dell'acqua e valvole di sfogo di emergenza.
- Compatibilità con espansione modulare: Progettata per la versatilità, la piattaforma supporta moduli esterni come portacampioni rotanti, termometri a infrarossi e analizzatori di gas per adattarsi ai requisiti di ricerca in evoluzione.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| CVD per semiconduttori | Deposizione di film sottili e nanomateriali su substrati di silicio o zaffiro utilizzando precursori di vapore. | Il controllo preciso del flusso di gas e della temperatura garantisce spessore uniforme del film e alta purezza. |
| Ceramiche aerospaziali | Sinterizzazione ad alta temperatura e prove di stress di compositi a matrice ceramica (CMC) e componenti di turbine. | L'orientamento verticale ospita parti strutturali lunghe mantenendo una stabilità termica estrema. |
| R&S di batterie al litio | Calcinazione e sintesi di materiali catodici/anodici in atmosfere controllate di azoto o argon. | L'elevata ripetibilità dei cicli termici porta a dati di prestazioni elettrochimiche coerenti. |
| Ricottura sotto vuoto | Sollievo delle sollecitazioni e affinamento della struttura dei grani di metalli refrattari e leghe speciali in ambienti privi di ossigeno. | Previene ossidazione e contaminazione, mantenendo l'integrità metallurgica del campione. |
| Tempra rapida | Prova delle proprietà dei materiali dopo cali di temperatura improvvisi per simulare i processi di raffreddamento industriali. | Consente lo studio di fasi di non equilibrio e lo sviluppo della microstruttura in pochi secondi. |
| Illuminazione a stato solido | Sintesi di fosfori e cristalli ottici che richiedono ambienti termici ad alta purezza. | La camera in allumina pulita previene la contaminazione incrociata dei droganti e garantisce un elevato rendimento di luminescenza. |
| Crescita di nanotubi di carbonio | Crescita verticale di foreste di CNT e strutture di grafene tramite deposizione chimica da vapore. | I gradienti termici ottimizzati nella zona di crescita forniscono allineamento e densità superiori. |
Specifiche tecniche
| Categoria di parametro | Dettagli delle specifiche per TU-21 |
|---|---|
| Temperatura massima di esercizio | 1700℃ (Elementi riscaldanti MoSi2); Opzionale 1800℃ (Grafite/SiC) |
| Velocità di riscaldamento | Massima ≤15℃/min; Consigliata ≤10℃/min |
| Velocità di raffreddamento | Massima ≤10℃/min; Il modulo di tempra ottiene un calo in ≤10s |
| Uniformità di temperatura | ±1,5℃ (Entro la zona di temperatura costante di 150mm) |
| Controllo della temperatura | Giappone Shimaden FP93 / Continental 3504; 50 segmenti; Auto-regolazione PID |
| Materiale camera forno | Fibra policristallina di allumina ad alta purezza di grado 1700 |
| Dimensione standard del tubo | Tubo di corindone (Diametro esterno Φ60mm × Lunghezza 1200mm) |
| Opzioni di materiale del tubo | Quarzo, acciaio inossidabile o tubi refrattari personalizzati (Φ30-100mm) |
| Resistenza alla pressione | ≤ 0,1MPa (Vuoto/Pressione positiva) |
| Prestazioni di vuoto | Pompa meccanica: 5×10⁻² Pa; Pompa molecolare: 5×10⁻⁴ Pa |
| Interfaccia di tenuta | Doppio O in gomma fluorurata (nominale 250℃) + Flangia KF25 |
| Sistema di controllo del gas | Misuratore di portata massica a doppia via (0-500sccm); Precisione ±1% |
| Configurazione di alimentazione | Supporto per la personalizzazione della tensione 220V/380V |
| Progettazione strutturale | involucro verticale in acciaio inossidabile a doppio strato con raffreddamento ad aria integrato |
| Protezione di sicurezza | Spegnimento per sovratemperatura, accoppiamento rotto, allarmi pressione acqua/gas, interruttore differenziale |
| Dimensioni esterne | Ingombro verticale con ruote mobili e piedi di regolazione orizzontale |
Perché scegliere noi
- Affidabilità a lungo termine comprovata: Costruito con componenti di livello industriale e un involucro a doppio strato, questo forno è progettato per il funzionamento continuo in ambienti di ricerca ad alto rischio senza degrado delle prestazioni.
- Precisione termica eccezionale: La tecnologia di compensazione indipendente a tre zone fornisce un livello di uniformità e stabilità della temperatura fondamentale per il successo dei processi CVD e di sinterizzazione sensibili.
- Flessibilità modulare senza pari: Che tu richieda alto vuoto, circuiti di gas specializzati o portacampioni rotanti, questo sistema è progettato per crescere con le tue esigenze di ricerca grazie alla sua interfaccia modulare.
- Normative di sicurezza rigorose: Dalla gestione dell'idrogeno allo sfogo ad alta pressione, il sistema incorpora meccanismi di sicurezza ridondanti per proteggere il personale di laboratorio e i tuoi materiali di alto valore.
- Fabbricazione di precisione: Ogni unità subisce calibrazione rigorosa e prove di perdita di vuoto per garantire che soddisfi i nostri standard esigenti di robustezza industriale e eccellenza tecnica.
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