Forno tubolare a vuoto a doppia zona ad alta temperatura per ricerca sui materiali e processi CVD

Forno tubolare

Forno tubolare a vuoto a doppia zona ad alta temperatura per ricerca sui materiali e processi CVD

Numero articolo: TU-GS03

Temperatura operativa massima: Zona 1: 1700°C / Zona 2: 1400°C Precisione del controllo della temperatura: ±1°C (PID programmabile a 30 segmenti) Grado di vuoto finale: Fino a 10-3 Pa (sistema a pompa molecolare)
Qualità Assicurata Fast Delivery Global Support

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Panoramica del prodotto

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Questo forno tubolare a vuoto a doppia zona ad alta temperatura rappresenta un vertice dell’ingegneria termica ed è progettato per facilitare la ricerca sofisticata nella scienza dei materiali e la R&S industriale. Integrando due zone di riscaldamento distinte all’interno di un singolo tubo orizzontale, il sistema consente la creazione di gradienti di temperatura complessi o il mantenimento simultaneo di due ambienti termici separati. Questa doppia capacità è essenziale per la deposizione chimica da fase vapore (CVD), la sinterizzazione in atmosfera controllata e cicli complessi di ricottura in cui precisione e flessibilità sono fondamentali. L’apparecchiatura è costruita con particolare attenzione all’efficienza termica elevata e a un campo di temperatura in equilibrio, garantendo che ogni campione subisca un processo coerente e ripetibile.

Progettata per ambienti di laboratorio esigenti, l’unità utilizza una combinazione di elementi riscaldanti avanzati, in particolare barre in disiliciuro di molibdeno (MoSi2) e carburo di silicio (SiC), per raggiungere temperature elevate con eccezionale stabilità. La struttura a doppio guscio riduce al minimo la dispersione di calore verso l’ambiente esterno, mantenendo bassa la temperatura superficiale per la sicurezza dell’operatore e migliorando l’efficienza energetica. I settori di applicazione includono la produzione di semiconduttori, la ceramica avanzata, la metallurgia aerospaziale e gli istituti di ricerca universitari. Questo sistema è progettato per fornire un servizio affidabile durante un funzionamento continuo ad alta temperatura, offrendo ai ricercatori la fiducia necessaria per eseguire esperimenti di lunga durata senza guasti hardware.

Questa apparecchiatura non è soltanto un forno, ma una soluzione completa per il trattamento termico. Con controllo software integrato, gestione sofisticata del vuoto e funzioni di sicurezza multilivello, fornisce una piattaforma robusta per la sintesi moderna dei materiali. Sia che si eseguano ricotture in vuoto o processi di riduzione ad alta temperatura, l’unità mantiene una stretta aderenza ai profili termici impostati. L’integrazione di isolamento in fibra policristallina di allumina ad alta purezza garantisce una rapida risposta termica e resistenza agli shock termici, posizionando questo forno come risorsa fondamentale per i laboratori che richiedono elevata produttività e precisione senza compromessi nei protocolli di trattamento termico.

Caratteristiche principali

  • Controllo indipendente a doppia zona: Questo sistema presenta due zone di riscaldamento separate che possono essere controllate in modo indipendente. Ciò consente agli utenti di impostare temperature distinte in ciascuna zona, facilitando esperimenti complessi con gradienti termici o fornendo una zona a temperatura costante più ampia e stabile quando sincronizzate.
  • Elementi riscaldanti ibridi avanzati: La prima zona utilizza barre premium in disiliciuro di molibdeno (MoSi2) di grado 1800, mentre la seconda zona integra robuste barre in carburo di silicio (SiC). Questo approccio ibrido ottimizza il profilo di riscaldamento e la longevità del forno su un ampio spettro di temperatura.
  • Gestione precisa della temperatura PID: Dotato di strumenti digitali avanzati, il forno offre un controllo programmabile a 30 segmenti. Presenta una regolazione PID intelligente con un’accuratezza di ±1°C, garantendo che anche i processi industriali più sensibili rimangano entro tolleranze rigorose.
  • Tenuta del vuoto ad alte prestazioni: Il tubo del forno è fissato con flange in acciaio inossidabile dotate di doppi O-ring in silicone. Questo design retrattile e facile da rimuovere assicura un’eccezionale tenuta all’aria, in grado di mantenere il livello di vuoto per 12 ore senza perdita di pressione misurabile.
  • Tecnologia di isolamento superiore: La camera è realizzata in fibra policristallina di allumina di alta qualità. Questo materiale è scelto per l’elevata riflettività, la bassa conducibilità termica e la resistenza alla polverizzazione, con conseguente campo di temperatura bilanciato e consumo energetico significativamente ridotto.
  • Integrazione software completa: Un’interfaccia di comunicazione 485 integrata consente il funzionamento remoto tramite computer. Il software incluso permette il monitoraggio in tempo reale di PV (Process Value) e SV (Set Value), la registrazione dei dati e la generazione di curve termiche per una documentazione meticolosa dei parametri sperimentali.
  • Protezione di sicurezza multilivello: L’unità include un sistema di protezione con coperchio aperto che interrompe automaticamente l’alimentazione quando il forno viene aperto, oltre a protezione contro le dispersioni e allarmi di sovratemperatura che disconnettono il circuito principale se la temperatura supera i 1200°C o viene rilevato un guasto della termocoppia.
  • Interfaccia di alimentazione gas personalizzabile: Le flange in acciaio inossidabile sono dotate di valvole a spillo di precisione e manometri. Gli utenti possono integrare facilmente rotametri o controllori digitali di flusso massico per un controllo preciso dell’atmosfera durante sinterizzazione o test di riduzione.
  • Robusto sistema di supporto delle flange: Una staffa flangiata dedicata sostiene l’insieme, eliminando efficacemente lo stress meccanico sul tubo in corindone. Questo dettaglio ingegneristico estende significativamente la vita utile del tubo prevenendo fratture causate dal peso delle flange.
  • Cicli termici rapidi: Con un tasso di riscaldamento fino a 20°C al minuto (10°C/min consigliati), l’apparecchiatura consente avvio e raffreddamento rapidi, aumentando la produttività del laboratorio e permettendo una rapida esplorazione delle proprietà termiche dei materiali.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio principale
Deposizione chimica da fase vapore (CVD) Utilizzato per la crescita di film sottili e nanotubi di alta qualità sotto flusso di gas controllato e in vuoto. L’ambiente ad alta purezza e il controllo della temperatura a doppia zona garantiscono una deposizione uniforme del film.
Ricottura sotto vuoto Rilascio delle tensioni in metalli e leghe in vuoto per prevenire l’ossidazione e migliorare le proprietà meccaniche. La tenuta superiore preserva l’integrità del materiale e previene la contaminazione superficiale.
Sinterizzazione in atmosfera Consolidamento ad alta temperatura di polveri ceramiche o metalliche in gas inerti o riducenti. I campi di temperatura in equilibrio portano a una densità maggiore e a una microstruttura più uniforme.
Sintesi dei materiali Scoperta di nuovi composti tramite cicli termici precisi e gestione delle reazioni. La programmazione a 30 segmenti consente protocolli di reazione complessi e multistadio.
Processi di degasaggio Rimozione di componenti volatili o gas intrappolati dai materiali ad alta temperatura e sotto vuoto. L’elevata capacità di vuoto (10-3 Pa) garantisce una rimozione completa delle impurità.
Test di riduzione Test dei materiali in un ambiente di idrogeno o monossido di carbonio per osservare i cambiamenti chimici. Le valvole di sicurezza integrate e le interfacce per il flusso massico consentono una gestione sicura e precisa dei gas.
R&S aerospaziale Test di rivestimenti e componenti resistenti alle alte temperature per l’hardware aerospaziale. Prestazioni affidabili a temperature fino a 1700°C simulano condizioni di volo estreme.

Specifiche tecniche

Parametro TU-GS03-60 TU-GS03-80
Dimensioni della camera (OD x lunghezza) Dia 60mm x 1200mm Dia 80mm x 1200mm
Potenza nominale 7 KW 7 KW
Tensione di ingresso 220V, monofase 220V, monofase
Temperatura massima di esercizio Zona 1: 1700°C / Zona 2: 1400°C Zona 1: 1700°C / Zona 2: 1400°C
Temp. costante nominale Zona 1: 1650°C / Zona 2: 1350°C Zona 1: 1650°C / Zona 2: 1350°C
Lunghezza di riscaldamento (Z1/Z2) 210mm / 210mm 210mm / 210mm
Zona a temp. costante 80mm / 80mm 80mm / 80mm
Elementi riscaldanti Z1: barra MoSi2 1800 / Z2: barra SiC Z1: barra MoSi2 1800 / Z2: barra SiC
Precisione della temperatura ± 1 ℃ ± 1 ℃
Velocità di riscaldamento ≤20 ℃/Min (consigliato 10 ℃) ≤20 ℃/Min (consigliato 10 ℃)
Tipo di termocoppia Zona 1: Tipo B / Zona 2: Tipo S Zona 1: Tipo B / Zona 2: Tipo S
Materiale della camera Fibra policristallina di allumina Fibra policristallina di allumina
Strumento di controllo Yu Electric PID a 30 segmenti Yu Electric PID a 30 segmenti
Opzioni di vuoto Standard: TW-1.5A / Alta: 2XZ-2 Standard: TW-1.5A / Alta: 2XZ-2
Livello di vuoto finale 10-1 Pa a 10-3 Pa (dipendente dal sistema) 10-1 Pa a 10-3 Pa (dipendente dal sistema)
Tipo di trigger Trigger a sfasamento Trigger a sfasamento
Controllo del tiristore 106/16E SEMIKRON 106/16E SEMIKRON
Temperatura superficiale ≤ 45°C ≤ 45°C
Connettività Interfaccia RS-485 (standard) Interfaccia RS-485 (standard)

Perché scegliere questo sistema a doppia zona

  • Versatilità termica senza pari: Combinando zone ad alta temperatura da 1700°C e 1400°C, questo forno consente reazioni a due stadi e sinterizzazione a gradiente che i forni a zona singola non possono raggiungere, offrendo un vantaggio significativo nella ricerca avanzata sui materiali.
  • Affidabilità di livello industriale: Dai tiristori SEMIKRON all’isolamento policristallino ad alta purezza, ogni componente è selezionato per la sua capacità di resistere a cicli di lavoro continui in ambienti di laboratorio professionali.
  • Integrità del vuoto progettata con precisione: La nostra tecnologia proprietaria di tenuta a doppio anello e le staffe flangiate in acciaio inossidabile garantiscono un ambiente a tenuta di vuoto che protegge i vostri campioni e assicura la purezza dei processi sensibili all’atmosfera.
  • Sicurezza e monitoraggio avanzati: Con software integrato per il monitoraggio in tempo reale e molteplici protocolli di arresto automatico, il vostro laboratorio può operare con la tranquillità che sia gli operatori sia gli esperimenti siano protetti.
  • Eccellenza comprovata delle prestazioni: I nostri sistemi sono scelti da importanti università globali e strutture di ricerca industriale per la loro costanza, efficienza energetica e durata nel tempo.

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