Forno per pressatura a caldo sottovuoto
Forno di pressatura a caldo sotto vuoto da 3 tonnellate
Numero articolo: TU-VH05
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Panoramica del prodotto
Questo forno di pressatura a caldo sotto vuoto è progettato per la sinterizzazione ad alta temperatura in atmosfera e pressione controllate con precisione, garantendo un'eccezionale densificazione del materiale per la ricerca e la produzione su piccola scala. Il suo design completamente integrato combina una camera ad alto vuoto, un sistema di riscaldamento in grafite e una pressurizzazione servo-elettrica in un'unica unità compatta, semplificando l'installazione e il funzionamento.
Ideale per laboratori universitari e centri di ricerca e sviluppo industriali, il sistema processa ceramiche avanzate, compositi a matrice metallica e nuovi nanomateriali. La camera di caricamento laterale e il controllo PLC touchscreen consentono cambi di lotto rapidi e una gestione riproducibile delle ricette, rendendolo un cavallo di battaglia affidabile per i processi termici più impegnativi.
Costruito con componenti resistenti e un telaio robusto, questo apparecchio mantiene prestazioni costanti per migliaia di cicli. L'azionamento servo di precisione elimina i picchi di pressione e i problemi di manutenzione delle presse idrauliche tradizionali, garantendo un'applicazione della forza pulita, stabile e precisa anche per i campioni più sensibili.
Caratteristiche principali
- Pressurizzazione servo-elettrica: Un cilindro elettrico servo di alta precisione fornisce una forza di pressatura da 1 a 3 tonnellate con una fluttuazione di soli ±100 N e una precisione di spostamento ≤0,01 mm, consentendo un controllo a livello di chilogrammo ideale per test delicati su piccoli campioni.
- Capacità ad alta temperatura: Gli elementi riscaldanti in grafite raggiungono una temperatura massima di esercizio di 2000 °C (intervallo utilizzabile da temperatura ambiente a 1900 °C), supportando la sinterizzazione di ceramiche a temperatura ultra-elevata, metalli refrattari e cermet.
- Automazione avanzata: Un controller PLC touchscreen consente la modifica, l'archiviazione, il richiamo, il caricamento e il download online delle ricette. Il controllo della temperatura a una zona tramite termocoppia tungsteno-renio mantiene una precisione di ±1 °C per tutto il processo.
- Design compatto e mobile: Il forno integrato è dotato di ruote incorporate, che facilitano il riposizionamento all'interno del laboratorio. Una porta laterale offre un comodo accesso per il carico e lo scarico dei campioni.
- Ambiente pulito ad alto vuoto: Un vuoto finale a freddo di 6,67 × 10⁻³ Pa (dopo la cottura) garantisce un'atmosfera priva di ossigeno. La lavorazione può essere eseguita sotto vuoto o con una leggera pressione positiva di gas inerte (≤0,03 MPa) per prevenire l'ossidazione.
- Zona calda di precisione: L'area riscaldata di 100 × 100 × 100 mm dispone di uno spazio per il test dei campioni sopra la zona di lavoro, massimizzando il volume utilizzabile mantenendo l'uniformità della temperatura.
- Potenza di riscaldamento nominale: ≤15 kW da un'alimentazione standard trifase a 380 V/50 Hz, che bilancia il riscaldamento rapido con l'efficienza energetica.
- Controllo di precisione della pressione: Il display digitale della pressione, la regolazione automatica e le funzioni di mantenimento automatico mantengono la forza target con una deviazione minima. La corsa della pressione va da 0 a 100 mm con visualizzazione digitale.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio principale |
|---|---|---|
| Sinterizzazione di ceramiche avanzate | Densificazione di nitruro di silicio, carburo di silicio, allumina e zirconia per cuscinetti, utensili da taglio e armature ad alte prestazioni | Densità vicino a quella teorica con microstruttura a grana fine |
| Compositi a matrice metallica | Consolidamento di Al-SiC, Cu-W e altri MMC per la gestione termica e componenti aerospaziali | La pressione uniforme elimina la porosità senza rottura delle fibre |
| Consolidamento di nanomateriali | Sinterizzazione di nanopolveri (ad esempio nanoceramiche, compositi a nanotubi di carbonio) in campioni bulk mantenendo la nanostruttura | Il controllo a bassa pressione e alta precisione previene la crescita dei grani |
| Produzione di target per sputtering | Fabbricazione di target densi e omogenei ITO, AZO e ceramici per la deposizione di film sottili | L'alto vuoto e l'atmosfera pulita producono target stechiometrici e ad alta purezza |
| Lavorazione di biomateriali | Pressatura a caldo di idrossiapatite, biovetro e altre bioceramiche per impianti e scaffold | L'ambiente privo di contaminazioni soddisfa gli standard biomedici |
| Ricerca e sviluppo | Sviluppo di materiali per usi generali ad alta temperatura e alta pressione in laboratori universitari e nazionali | La gestione flessibile delle ricette e le piccole dimensioni dei campioni riducono tempi e costi di sviluppo |
Specifiche tecniche
| Parametro | Specificazione |
|---|---|
| Modello | TU-VH05 |
| Alimentazione | Trifase 380 V ±10 %, 50 Hz |
| Potenza di riscaldamento nominale | ≤15 kW |
| Temperatura massima di esercizio | 2000 °C (utilizzabile: da temperatura ambiente a 1900 °C) |
| Dimensioni zona calda (L×P×A) | 100 × 100 × 100 mm (con spazio superiore per test campioni) |
| Dimensioni camera sotto vuoto (L×P×A) | 400 × 400 × 400 mm |
| Zone di controllo temperatura | 1 |
| Metodo di controllo temperatura | Termocoppia tungsteno-renio |
| Precisione di controllo temperatura | ±1 °C |
| Vuoto finale (a freddo, dopo cottura) | 6.67 × 10⁻³ Pa (forno vuoto) |
| Atmosfera di lavorazione | Gas inerte (Ar, N₂) |
| Pressione massima gas | ≤0,03 MPa (micropositiva) |
| Forza di pressatura massima | 1 – 3 tonnellate (display digitale, autoregolazione, mantenimento automatico) |
| Fluttuazione pressione | ≤±100 N |
| Precisione spostamento | ≤0,01 mm |
| Corsa pressione | 0 – 100 mm (display digitale) |
| Metodo di pressurizzazione | Cilindro elettrico servo |
Perché scegliere questo prodotto
- Precisione di pressione superiore – L'azionamento servo-elettrico sostituisce l'idraulica convenzionale, eliminando perdite di olio e deriva della pressione. Mantiene la forza entro ±100 N, garantendo una densificazione ripetibile ciclo dopo ciclo.
- Prestazioni termiche eccezionali – Un elemento riscaldante in grafite in grado di raggiungere 2000 °C con una precisione di controllo di ±1 °C garantisce una sinterizzazione uniforme, anche per materiali refrattari. Il design robusto della zona calda resiste a migliaia di cicli ad alta temperatura.
- Ambiente di lavorazione pulito – Un sistema ad alto vuoto (6,67 × 10⁻³ Pa) combinato con la capacità di utilizzo di gas inerti previene le contaminazioni, ottenendo prodotti di alta purezza essenziali per ceramiche avanzate e materiali elettronici.
- Automazione incentrata sull'utente – Il PLC con touchscreen semplifica il funzionamento con una gestione delle ricette e una registrazione dei dati intuitive, riducendo gli errori dell'operatore e i tempi di formazione, consentendo al contempo una documentazione tracciabile del processo.
- Ingombro adatto al laboratorio – Autonomo e dotato di ruote, questa unità si muove facilmente e si installa ovunque sia disponibile un'alimentazione trifase standard, riducendo al minimo le modifiche alla struttura.
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