Forno a tubo ad alta temperatura 1700°C con sistema di pompa turbomolecolare ad alto vuoto e miscelatore di gas con controller di flusso di massa multicanale

Forno tubolare

Forno a tubo ad alta temperatura 1700°C con sistema di pompa turbomolecolare ad alto vuoto e miscelatore di gas con controller di flusso di massa multicanale

Numero articolo: TU-83

Temperatura massima di riscaldamento: 1700°C (1600°C continuo) Capacità di vuoto: Pressione finale <1E-8 mbar (pompa Pfeiffer) Sistema di controllo del gas: MFC digitale a 2-4 canali con touchscreen
Qualità Assicurata Fast Delivery Global Support

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Panoramica del prodotto

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Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni è progettato per la scienza dei materiali avanzata e per applicazioni di ricerca industriale che richiedono temperature estreme e condizioni atmosferiche ultra-pure. Integrando un forno a tubo in allumina da 1700°C con una stazione di vuoto turbomolecolare ad alte prestazioni e un modulo di erogazione gas a flusso di massa di precisione, l'apparecchiatura fornisce una soluzione "chiavi in mano" per complessi processi di deposizione chimica da vapore (CVD), diffusione e sinterizzazione. Il design robusto garantisce ai ricercatori risultati altamente ripetibili, mantenendo l'integrità di campioni sensibili sotto un livello di vuoto fino a 10^-5 Torr.

Destinata alla produzione di semiconduttori, allo sviluppo aerospaziale e all'ingegneria delle ceramiche avanzate, questa unità colma il divario tra la sperimentazione di laboratorio e la produzione pilota. La sua architettura versatile consente il controllo preciso di molteplici specie gassose, rendendola uno strumento essenziale per la creazione di film sottili, nanofili e complessi materiali 2D. L'intero assemblaggio è montato su un carrello mobile per carichi pesanti, che consente un facile spostamento e una perfetta integrazione in camere bianche o spazi di laboratorio esistenti senza la necessità di complesse installazioni permanenti.

L'affidabilità è al centro del design di questo forno. Utilizzando elementi riscaldanti in disiliciuro di molibdeno (MoSi2) di alta qualità e una camera refrattaria in allumina ad alta purezza, il sistema è costruito per resistere ai rigorosi cicli termici richiesti dalla R&S industriale. L'inclusione di un involucro in acciaio a doppio strato con raffreddamento a ventola integrato garantisce che le temperature superficiali esterne rimangano sicure per gli operatori anche durante le operazioni ad alta temperatura. Questa enfasi sulla sicurezza, combinata con il controllo PID ad alta precisione e componenti per il vuoto di ingegneria tedesca, fornisce la coerenza operativa a lungo termine richiesta dai team di approvvigionamento professionali e dai ricercatori principali.

Caratteristiche principali

  • Eccezionale gamma termica: Questo sistema raggiunge una temperatura di riscaldamento massima di 1650°C con una temperatura di lavoro continua di 1600°C, alimentato da otto elementi riscaldanti in MoSi2 di alta qualità posizionati specificamente per un'ottimale uniformità termica.
  • Integrazione alto vuoto: Dotato di una pompa turbomolecolare Pfeiffer originale, il sistema raggiunge una pressione finale di <1E-7 mbar, facilitando un ambiente privo di ossigeno critico per la sintesi di materiali ad alta purezza e processi sensibili alla contaminazione.
  • Controllo preciso del flusso di massa: La stazione di miscelazione gas integrata dispone da 2 a 4 canali di controller di flusso di massa digitali (MFC), consentendo l'erogazione esatta di gas di processo come azoto, elio o idrogeno con elevata ripetibilità e supervisione tramite touchscreen digitale.
  • Logica di controllo PID avanzata: Il controller di temperatura utilizza un sistema di resistori a limitazione di corrente con accensione ad angolo di fase e 30 segmenti programmabili, mantenendo una precisione di ±1°C lungo l'intera rampa di riscaldamento.
  • Ingegneria della camera robusta: Il forno utilizza un tubo di processo in allumina ad alta purezza con diametro esterno di 60 mm e una camera refrattaria in allumina ad alta purezza per ridurre al minimo la perdita termica e prevenire la contaminazione chimica incrociata durante i cicli ad alto calore.
  • Gestione intelligente del vuoto: La stazione ad alto vuoto è dotata di un funzionamento a pulsante singolo per la pompa a membrana e la turbopompa, con velocità di rotazione controllate dal sistema che si regolano automaticamente in base al livello di vuoto e ai tassi di perdita.
  • Protocolli di sicurezza avanzati: Un meccanismo di autoprotezione integrato monitora le condizioni di surriscaldamento e sovracorrente, rallentando o arrestando automaticamente la turbina se i tassi di perdita superano le soglie operative di sicurezza per evitare danni alla pompa.
  • Opzioni di interfaccia flessibili: Il sistema include una porta di comunicazione RS485 ed è compatibile con kit software avanzati per il controllo remoto da PC, integrazione LabVIEW e registrazione dati completa per audit di controllo qualità.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio principale
Deposizione chimica da vapore (CVD) Sintesi di film sottili e nanomateriali come grafene o nanotubi di carbonio utilizzando precursori gassosi controllati. Il controllo stechiometrico preciso dei rapporti dei gas garantisce l'uniformità del film e strutture reticolari di alta qualità.
Doping di semiconduttori Introduzione di impurità nei wafer di semiconduttori ad alte temperature per modificare le proprietà elettriche. L'integrità dell'alto vuoto previene l'ossidazione o la contaminazione indesiderata del substrato semiconduttore.
Sinterizzazione di ceramiche Consolidamento di compatti di polvere ceramica in componenti strutturali densi e ad alta resistenza a temperature fino a 1600°C. Le zone termiche stabili e i tubi in allumina ad alta purezza impediscono alle impurità di indebolire la matrice ceramica.
Test di leghe aerospaziali Sottoporre leghe avanzate a ambienti termici estremi sotto vuoto per simulare condizioni di alta quota o spaziali. La rampa di temperatura accurata e la stabilità del vuoto imitano gli ambienti difficili incontrati nel volo orbitale.
Metallurgia delle polveri Trattamento termico di polveri metalliche per creare parti complesse tramite legame allo stato solido senza raggiungere il punto di fusione. L'ambiente sotto vuoto elimina i gas atmosferici che causano fragilità o ossidazione superficiale nei metalli reattivi.
Ricottura di ottiche Rilascio di tensioni interne in vetri ottici speciali o cristalli attraverso fasi di raffreddamento lento e controllato. Il controller PID programmabile a 30 fasi consente velocità di raffreddamento estremamente finemente regolate per prevenire shock termici.

Specifiche tecniche

Specifiche principali del forno (TU-83)

Parametro Dettaglio tecnico
Elementi riscaldanti 8 pz in disiliciuro di molibdeno (MoSi2) grado 1800°C
Temperatura massima 1650°C
Temperatura di lavoro continua 1600°C
Tubo di processo standard Allumina ad alta purezza, 60mm D.E. x 1000mm L
Lunghezza zona riscaldata 457 mm (18")
Zona a temperatura costante 150 mm (6") con precisione ±1°C
Velocità di riscaldamento ≤ 5°C/min
Precisione temperatura ±1°C
Tipo di termocoppia Tipo B (Platino-Rodio)
Consumo energetico 6.0 kW
Tensione in ingresso AC 208-240V monofase, 50/60Hz
Dimensioni forno 550 x 380 x 520 mm

Specifiche della stazione ad alto vuoto

Parametro Dettaglio tecnico
Produttore pompa Pfeiffer Vacuum (Germania)
Velocità di pompaggio (Azoto) 33 L/s
Pressione finale <1E-8 mbar (stato senza perdite)
Campo di lavoro Da 1000 mbar a <1E-7 mbar
Interfaccia di controllo LCD digitale con funzionalità di avvio/arresto a pulsante singolo
Sistemi di protezione Autoprotezione da surriscaldamento e sovracorrente
Dimensioni carrello 600(L) x 600(P) x 700(A) mm
Vacuometro Sensore digitale con monitoraggio della pressione in tempo reale

Sistema di controllo gas a flusso di massa (MFC)

Parametro Dettaglio tecnico
Numero di canali 2 canali (standard), fino a 4 canali (opzionale)
Materiale valvola Acciaio inossidabile 316
Dimensioni serbatoio di miscelazione Φ80 x 120 mm
Limite portata < 200 SCCM (configurazione standard)
Interfaccia di controllo Touchscreen a colori da 6" con modalità commutabile da PC remoto
Valvole di sicurezza Valvole a spillo di precisione e manometri meccanici inclusi

Perché scegliere questo sistema ad alta temperatura

Questa soluzione integrata rappresenta un investimento significativo nella capacità di laboratorio, offrendo un livello di precisione e affidabilità che i componenti autonomi non possono eguagliare. Alloggiando il forno, la stazione del vuoto e l'unità di miscelazione del gas in un'unica piattaforma mobile ingegnerizzata, il sistema elimina la complessa risoluzione dei problemi spesso associata alle configurazioni multi-fornitore. L'uso di componenti premium, come la pompa turbomolecolare tedesca Pfeiffer e gli elementi in MoSi2 di alta qualità, garantisce che il sistema mantenga la coerenza operativa per anni di utilizzo intensivo in ambienti di R&S industriali.

Inoltre, il sistema è progettato pensando alla scalabilità e alla personalizzazione. Che tu richieda canali gas aggiuntivi per CVD complessi a precursori multipli o controller di temperatura aggiornati di Eurotherm per la compatibilità con LabVIEW, questa architettura si adatta alle tue specifiche esigenze di ricerca. Il design certificato CE e l'opzione per la certificazione NRTL/UL/CSA forniscono ai team di approvvigionamento la certezza che questa apparecchiatura soddisfi i più elevati standard internazionali di sicurezza e qualità. Questo non è solo un forno, ma un ambiente di trattamento termico completo progettato per le sfide più impegnative della scienza dei materiali.

Contatta oggi stesso il nostro team di vendita tecnica per un preventivo dettagliato o per discutere una configurazione personalizzata su misura per le tue specifiche esigenze di ricerca.

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