Forno a vuoto
Forno a vuoto verticale 1100°C ad alta temperatura con camera in quarzo da 8 pollici e sistema a flangia raffreddata ad acqua
Numero articolo: TU-QF02
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Panoramica del prodotto
Questo sistema sigillato sottovuoto verticale ad alta temperatura rappresenta l'apice del trattamento termico per la scienza dei materiali e la ricerca sui semiconduttori. Progettata per facilitare processi precisi di ricottura e calcinazione, questa unità presenta un orientamento verticale specializzato che ottimizza lo spazio fornendo al contempo un ambiente termico uniforme per substrati di dimensioni maggiori. L'attrezzatura è costruita attorno a una camera in quarzo per impieghi gravosi in grado di raggiungere temperature operative fino a 1100°C a pressione ambiente, rendendola uno strumento essenziale per i laboratori focalizzati sullo sviluppo di materiali ad alta purezza e componenti elettronici avanzati.
Il sistema è progettato specificamente per ospitare wafer a semiconduttori fino a 8 pollici di diametro, offrendo una piattaforma versatile sia per la lavorazione in ambiente sottovuoto che per esperimenti in atmosfera gassosa controllata. Integrando una sofisticata flangia di tenuta in acciaio inossidabile con raffreddamento ad acqua integrato, il sistema mantiene l'integrità strutturale e la longevità della tenuta anche durante cicli prolungati ad alte temperature. Questa attrezzatura è la scelta preferita per i centri di ricerca e sviluppo industriali e le istituzioni accademiche che richiedono una soluzione di trattamento termico affidabile, ripetibile e ad alta capacità per substrati delicati.
Costruita per garantire affidabilità in condizioni industriali impegnative, questa unità di trattamento termico utilizza filo di resistenza di alta qualità e materiali refrattari avanzati per garantire prestazioni costanti. Ogni componente, dal controller digitale certificato NRTL al meccanismo di tenuta con doppio O-ring in silicone, è selezionato per fornire ai team di approvvigionamento e agli ingegneri responsabili la certezza della stabilità operativa a lungo termine del sistema. Questa unità offre la robustezza richiesta per ambienti di ricerca attivi 24 ore su 24, 7 giorni su 7, dove la precisione e il tempo di attività sono metriche critiche per il successo.
Caratteristiche principali
- Camera in quarzo ad alta capacità: Il sistema presenta un tubo in quarzo GE214 di grande diametro con un diametro esterno di 8 pollici, specificamente dimensionato per lavorare wafer a semiconduttori e campioni di materiale in grandi lotti con chiarezza e purezza senza pari.
- Avanzata flangia di tenuta raffreddata ad acqua: Una camicia di raffreddamento ad acqua integrata protegge il gruppo di tenuta sottovuoto dal degrado termico, consentendo alla flangia in acciaio inossidabile di mantenere una tenuta ermetica a temperature superiori a 1100°C senza fondere gli O-ring in silicone.
- Controllo della temperatura PID di precisione: Il controller digitale certificato NRTL offre 30 segmenti programmabili per rampe, raffreddamento e mantenimento, garantendo una precisione di ±1°C per i profili termici sensibili richiesti nella fabbricazione di semiconduttori.
- Prestazioni di vuoto superiori: Progettata per funzionare perfettamente con stazioni di pompaggio ad alto vuoto, questa unità può raggiungere livelli di vuoto fino a 10^-5 Torr utilizzando una turbopompa, essenziale per attività di calcinazione e ricottura sensibili all'ossigeno.
- Design robusto dell'elemento riscaldante: Utilizzando filo di resistenza Ni-Cr-Al di alta qualità, il sistema fornisce velocità di riscaldamento rapide fino a 20°C al minuto mantenendo un'eccellente durata attraverso cicli termici ripetitivi.
- Sicurezza e allarmi integrati: L'attrezzatura include allarmi integrati per sovratemperatura e guasto della termocoppia, fornendo una protezione automatizzata sia per il forno che per i materiali di valore lavorati all'interno.
- Gestione flessibile dell'atmosfera: Dotato di valvole a spillo ad alta precisione e molteplici porte di ingresso/uscita gas, il sistema consente l'introduzione precisa di gas inerti o reattivi durante il processo di riscaldamento.
- Opzioni di monitoraggio scalabili: L'unità include un manometro meccanico per vuoto come standard, con opzioni per manometri digitali indipendenti dal gas e porte di comunicazione PC per la registrazione dei dati in tempo reale e il monitoraggio remoto.
- Capacità di carico elevata: Progettata per supportare fino a 40 kg di peso del materiale, l'architettura della camera verticale è rinforzata per gestire carichi di campioni di grado industriale senza compromettere l'integrità strutturale.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Ricottura di wafer a semiconduttori | Lavorazione di wafer fino a 8 pollici per riparare i danni al reticolo dopo l'impianto ionico. | Il controllo preciso di ±1°C garantisce caratteristiche elettriche uniformi sulla superficie del wafer. |
| Calcinazione di materiali aerospaziali | Ossidazione ad alta temperatura e calcinazione di compositi a matrice ceramica sottovuoto. | Mantiene un'elevata purezza tramite ambienti privi di ossigeno, prevenendo la contaminazione di leghe critiche. |
| Ricerca sulla deposizione di film sottili | Preparazione di substrati e trattamento termico post-deposizione per celle solari avanzate. | L'ampia camera con diametro interno di 190 mm ospita più substrati contemporaneamente per test ad alto rendimento. |
| Ricerca e sviluppo di batterie a stato solido | Sinterizzazione di elettroliti ceramici e materiali anodici in atmosfere gassose controllate. | I sistemi di ingresso/uscita gas affidabili consentono un controllo preciso della composizione chimica durante la sinterizzazione. |
| Invecchiamento di componenti elettronici | Test di stress di sensori e moduli elettronici ad alta potenza in condizioni termiche estreme. | L'orientamento verticale consente configurazioni di fissaggio specializzate che riducono al minimo la deformazione dei componenti. |
| Degasaggio sottovuoto | Rimozione di gas intrappolati da vetri speciali o polveri metalliche prima della fusione. | L'elevata capacità di vuoto (10^-5 Torr) garantisce la completa rimozione dei volatili per una densità del materiale superiore. |
Specifiche tecniche
| Specifica | Dettagli per TU-QF02 |
|---|---|
| Tensione | Monofase 208 - 240 VAC / 50/60Hz |
| Potenza massima | 3 KW (interruttore da 25 A installato) |
| Temperatura di lavoro max. (Ambiente) | < 1100°C |
| Temperatura di lavoro max. (Vuoto) | < 1000°C |
| Temperatura max. opzionale | 1150°C (con tubo in quarzo GE214 potenziato) |
| Velocità di riscaldamento | Consigliata: 10°C/min; Max: < 20°C/min |
| Elementi riscaldanti | Filo di resistenza Ni-Cr-Al |
| Dimensioni tubo in quarzo | Ø200 × Ø190 × H425 mm |
| Capacità di carico massima | 40 Kg |
| Area di riscaldamento efficace | Ø240 × H245 mm |
| Gruppo flangia | Acciaio inossidabile con doppi O-ring in silicone ad alta temperatura e camicia di raffreddamento ad acqua |
| Gestione gas | Un ingresso gas da 1/4" e un'uscita con valvole a spillo |
| Porta per vuoto | Porta KF25 integrata per il collegamento della pompa |
| Livello di vuoto (Pompa meccanica) | 10^-2 Torr entro 30 minuti (senza blocco termico) |
| Livello di vuoto (Turbopompa) | 10^-5 Torr entro 30 minuti (a 900°C con blocco termico in quarzo) |
| Controller temperatura | Controller digitale PID a 30 segmenti, certificato NRTL |
| Precisione temperatura | ± 1 ºC (Standard); ± 0,1 ºC (Opzione Eurotherm) |
| Manometro per vuoto | Manometro meccanico (-0,1 a 0,15 Mpa); Manometro digitale opzionale |
| Conformità agli standard | Certificato CE (NRTL/CSA disponibile su richiesta) |
| Requisiti di raffreddamento | Flusso d'acqua di 16 L/min per la protezione della flangia |
| Comunicazione | Porta di comunicazione PC DB9 inclusa di default |
Perché scegliere TU-QF02
- Progettato con precisione per la scala: A differenza dei forni da laboratorio standard, questo sistema offre una massiccia zona di lavorazione da 8 pollici di diametro, consentendo il passaggio diretto dalla ricerca e sviluppo su piccoli campioni alla produzione su scala pilota senza modificare i parametri termici.
- Gestione termica superiore: L'integrazione di un sistema a flangia raffreddata ad acqua assicura che, anche alle temperature massime, l'integrità della tenuta rimanga inalterata, prolungando la vita dei materiali di consumo e riducendo significativamente i costi di manutenzione.
- Architettura del vuoto adattabile: Che tu richieda livelli di vuoto meccanico di base o ambienti ad alto vuoto tramite turbopompe molecolari, l'interfaccia KF25 flessibile del sistema e le valvole in acciaio inossidabile di alta qualità supportano le tue specifiche esigenze di processo.
- Sicurezza e affidabilità certificate: Con controller certificati NRTL e conformità CE, questa attrezzatura soddisfa i rigorosi standard di sicurezza e qualità richiesti dalla moderna produzione industriale e dalle strutture di ricerca ad alto rischio.
- Opzioni di controllo personalizzabili: Dai controller ad alta precisione Eurotherm alle stazioni di miscelazione gas digitali, forniamo la modularità hardware necessaria per adattare il sistema a protocolli di lavorazione dei materiali specializzati.
Il nostro team tecnico è pronto ad assisterti con una configurazione personalizzata o un preventivo formale per la tua struttura. Contattaci ora per discutere di come questo sistema a vuoto verticale possa migliorare le tue capacità di trattamento termico.
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