Forno a tubo diviso compatto da 1200°C a doppia zona di riscaldamento con tubo opzionale da 1" - 2" e flange per vuoto

Forno tubolare

Forno a tubo diviso compatto da 1200°C a doppia zona di riscaldamento con tubo opzionale da 1" - 2" e flange per vuoto

Numero articolo: TU-29

Temperatura operativa massima: 1200°C Configurazione della zona di riscaldamento: Doppie zone indipendenti (200mm totali) Precisione del controllo della temperatura: ±1°C
Qualità Assicurata Fast Delivery Global Support

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Panoramica del prodotto

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Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni è una soluzione compatta da banco progettata per la ricerca avanzata sui materiali e il trattamento termico industriale. Caratterizzato da un esclusivo design a camera divisa, l'apparecchiatura consente ai ricercatori di accedere facilmente al tubo di processo, facilitando il rapido carico e scarico dei campioni e semplificando l'integrazione di complesse configurazioni sperimentali interne. La configurazione a doppia zona offre un'eccezionale flessibilità, consentendo la creazione di gradienti di temperatura precisi o di una zona a temperatura costante significativamente estesa, rendendolo uno strumento fondamentale per i moderni ambienti di laboratorio.

Ottimizzata per l'affidabilità, questa unità è ampiamente utilizzata nello sviluppo di semiconduttori, nella ricerca sulle batterie e negli studi metallurgici. Eccelle in applicazioni che richiedono atmosfere controllate o condizioni di vuoto, grazie alla sua robusta tecnologia di tenuta. Integrando un isolamento in fibra di allumina ad alta purezza ed elementi riscaldanti progettati con precisione, il sistema garantisce tempi di risposta termica rapidi e una superiore efficienza energetica, soddisfacendo le esigenze rigorose sia delle istituzioni accademiche che dei dipartimenti di ricerca e sviluppo del settore privato.

Progettata per resistere ai rigori del funzionamento continuo, questa apparecchiatura offre un ambiente termico stabile e ripetibile. La struttura in acciaio a doppio strato riduce al minimo le temperature della superficie esterna, garantendo la sicurezza dell'operatore e mantenendo la stabilità termica interna. Con le sue versatili opzioni di dimensioni del tubo e la sofisticata architettura di controllo, questo sistema fornisce la precisione e la durata richieste per processi sensibili di deposizione chimica da vapore (CVD), ricottura e operazioni di sinterizzazione in condizioni rigorose.

Caratteristiche principali

  • Controllo indipendente a doppia zona: Questo sistema dispone di due zone di riscaldamento separate, ciascuna gestita dal proprio controller PID di precisione. Ciò consente agli operatori di stabilire un gradiente di temperatura di 200°C o di mantenere una zona a temperatura uniforme di 100 mm, fornendo un controllo senza precedenti sulla cinetica di crescita e sulla pressione del vapore.
  • Design ergonomico a camera divisa: L'alloggiamento del forno è incernierato longitudinalmente, consentendo una facile apertura. Questo design facilita la rapida sostituzione del tubo, la pulizia e la possibilità di monitorare lo stato del tubo di reazione senza smontare l'intero gruppo riscaldante.
  • Programmazione PID avanzata: Dotata di due controller digitali integrati, l'unità supporta fino a 30 segmenti programmabili per riscaldamento, mantenimento e raffreddamento. Questa automazione garantisce un'elevata ripetibilità per cicli termici complessi e riduce il rischio di errore umano durante esperimenti di lunga durata.
  • Isolamento in allumina ad alta purezza: La camera di riscaldamento è rivestita con isolamento fibroso in Al2O3 ad alta purezza. Questo materiale è scelto per la sua bassa massa termica e le eccellenti proprietà isolanti, che riducono significativamente il consumo energetico e consentono velocità di riscaldamento fino a 20°C al minuto.
  • Gestione avanzata del vuoto e del gas: L'inclusione di flange di tenuta sottovuoto in acciaio inossidabile con raccordi a portagomma da 1/4" consente il funzionamento sotto vuoto o con flusso di gas controllato. Ciò è fondamentale per prevenire l'ossidazione e gestire ambienti gassosi reattivi durante le fasi di lavorazione sensibili.
  • Robusta architettura di sicurezza: L'apparecchiatura include protezione integrata contro il sovratemperatura e allarmi per guasto della termocoppia. La costruzione a doppio guscio utilizza il raffreddamento ad aria per mantenere la superficie esterna sicura al tatto anche quando la camera interna opera a 1200°C.
  • Elementi riscaldanti di precisione: Utilizzando elementi in lega Fe-Cr-Al drogati con molibdeno, il forno fornisce un calore radiante costante e una lunga durata. Il rivestimento in allumina ad alta purezza sui refrattari ceramici protegge ulteriormente gli elementi dal degrado chimico.
  • Versatile compatibilità dei tubi: Progettato per adattarsi a varie scale di ricerca, il sistema può essere configurato con tubi al quarzo da 1" o 2" di diametro esterno. Questa flessibilità consente ai ricercatori di scalare i propri esperimenti o regolare il volume del tubo in base ai requisiti specifici del campione.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio chiave
Crescita di nanonastri TMD Controllo preciso della pressione del vapore di calcogeno mantenendo un differenziale di temperatura tra le zone a monte e a valle. Consente la regolazione indipendente dei tassi di crescita e della larghezza del nanonastro attraverso il controllo della sovrasaturazione.
Pirolisi catalitica Trattamento di rifiuti organici o polimeri all'interno di un ambiente a tubo di quarzo controllato a velocità di riscaldamento specifiche. Previene il surriscaldamento localizzato e garantisce una distribuzione uniforme dei prodotti di pirolisi come gas e carbone.
Ricottura di semiconduttori Trattamento ad alta temperatura di wafer di silicio o film sottili sotto vuoto o gas inerte per riparare i difetti del reticolo. Migliora le proprietà elettriche e la struttura cristallina del materiale con un'elevata ripetibilità.
Ricerca CVD / PECVD Funge da nucleo termico per sistemi di deposizione chimica da vapore per sintetizzare nanotubi di carbonio o grafene. Fornisce l'ambiente termico stabile necessario per reazioni in fase gassosa uniformi e una crescita del film di alta qualità.
Sinterizzazione ceramica Consolidamento di polveri ceramiche in parti dense a temperature fino a 1200°C. Raggiungimento di elevata densità e resistenza meccanica attraverso una distribuzione termica uniforme nelle zone di riscaldamento.
Sintesi di materiali per batterie Calcinazione e trattamento termico di materiali attivi catodici o anodici in atmosfere controllate. Garantisce l'omogeneità chimica e prestazioni elettrochimiche costanti delle polveri sintetizzate.

Specifiche tecniche

Parametri generali del sistema

Caratteristica Dettagli delle specifiche (Modello TU-29)
Numero di modello TU-29
Tensione / Potenza 110V AC, monofase, 50/60 Hz; 1.5 KW
Temperatura massima 1200°C (durata < 1 ora)
Temperatura operativa continua 1100°C
Velocità di riscaldamento massima ≤ 20°C/min
Lunghezza totale zona di riscaldamento 200 mm (Due zone indipendenti da 100 mm)
Precisione della temperatura +/- 1°C
Elementi riscaldanti Lega Fe-Cr-Al drogata con Mo
Tipo di controller Doppio controllo automatico PID tramite relè a stato solido; 30 passaggi programmabili
Livello di vuoto 10-2 torr (pompa meccanica); 10-4 torr (pompa turbo con blocchi)
Peso netto 35 Kg

Prestazioni della zona a temperatura costante

Metrica di prestazione Lunghezza zona @ +/- 1°C Lunghezza zona @ +/- 2°C Lunghezza zona @ +/- 5°C
Uniformità (Doppia zona abbinata) 50 mm 70 mm 100 mm

Capacità del gradiente di temperatura

Metrica Valore massimo
Gradiente di temperatura max. 1°C / mm (modalità di riscaldamento a zona singola)
Differenza massima zona adiacente ~100°C (una zona attiva, senza isolatore interno)

Opzioni tubo di processo e flange

Opzione tubo Dimensioni (D.E. x D.I. x L) Accessori inclusi
Tubo al quarzo da 1" 25mm x 22mm x 450mm Due blocchi tubolari in ceramica fibrosa; Flange sottovuoto in acciaio inossidabile
Tubo al quarzo da 2" 50mm x 44mm x 600mm Due blocchi ceramici anti-radiazioni; Flange sottovuoto in acciaio inossidabile

Dimensioni e peso

Configurazione Lunghezza Larghezza Altezza
Coperchio chiuso 340 mm 300 mm 400 mm
Coperchio aperto 340 mm 300 mm 560 mm

Perché scegliere questo forno a tubo diviso

  • Ingegneria di precisione: L'architettura di controllo indipendente a doppia zona consente una profilazione termica sofisticata che i forni a zona singola non possono eguagliare, offrendo un vantaggio significativo per la sintesi dei materiali dipendente dal gradiente.
  • Eccezionale qualità costruttiva: Costruita con un guscio in acciaio a doppio strato e ceramiche refrattarie di alta qualità, questa unità è progettata per la longevità in ambienti industriali e di ricerca ad alto utilizzo.
  • Versatilità operativa: Che il tuo processo richieda un alto vuoto, un'atmosfera inerte o uno specifico gradiente di temperatura, questo sistema compatto si adatta alle tue esigenze con opzioni modulari di tubi e flange.
  • Sicurezza e affidabilità: I dispositivi di sicurezza integrati, inclusa la protezione contro il sovratemperatura e i sistemi di ventole di raffreddamento, assicurano che sia l'apparecchiatura che l'operatore rimangano protetti durante i cicli ad alta temperatura.
  • Prestazioni comprovate: I nostri forni sono apprezzati dalle principali istituzioni di ricerca globali per la loro coerenza, ripetibilità e solide prestazioni termiche in applicazioni esigenti.

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