Forno tubolare
Forno a tubo diviso a 10 zone da 1200°C con montaggio orizzontale e verticale per gradienti termici multizona e lavorazione di materiali di grande diametro
Numero articolo: TU-C10
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Panoramica del prodotto
Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni rappresenta l'apice dell'ingegneria dei forni multizona, progettato specificamente per soddisfare le rigorose esigenze della ricerca nella scienza dei materiali e della produzione pilota industriale. Integrando dieci zone di riscaldamento controllate indipendentemente in un'unica robusta architettura a tubo diviso, questa apparecchiatura offre ai ricercatori la capacità unica di stabilire complessi gradienti di temperatura o di mantenere un campo termico uniforme eccezionalmente lungo. Il design a doppio asse consente sia il funzionamento orizzontale che quello verticale, rendendolo una risorsa incredibilmente versatile per i laboratori che lavorano su progetti diversi, dal trasporto di vapore alla crescita verticale di cristalli.
Costruito per la sintesi avanzata di materiali e la profilazione termica, questo sistema eccelle in ambienti in cui la precisione e la riproducibilità sono fondamentali. Che venga utilizzato per la deposizione chimica da vapore (CVD), la ricottura di wafer a semiconduttore o la simulazione di processi di trattamento termico su scala industriale in un ambiente di laboratorio controllato, l'apparecchiatura offre prestazioni costanti. Il design del forno diviso facilita il raffreddamento rapido e un facile accesso al tubo di processo, semplificando il flusso di lavoro sperimentale e aumentando la produttività di progetti di ricerca critici nella scienza dei materiali ad alta temperatura.
L'affidabilità è al centro del design di questa piattaforma termica. Progettato con componenti di grado industriale e un'interfaccia di controllo sofisticata, il sistema garantisce un funzionamento stabile anche durante cicli prolungati ad alta temperatura. L'integrità strutturale dell'alloggiamento del forno, combinata con la precisione delle termocoppie integrate, fornisce la sicurezza necessaria per la ricerca e sviluppo industriale sensibile. Offrendo una capacità di lavorazione di grande diametro e una lunghezza di riscaldamento totale massiccia, questa unità colma il divario tra esperimenti di laboratorio su piccola scala e la produzione di materiali di grado industriale, garantendo che la vostra ricerca si traduca efficacemente su scale più grandi.
Caratteristiche principali
- Architettura termica indipendente a dieci zone: Il sistema utilizza dieci zone di riscaldamento discrete, ciascuna di 120 mm di lunghezza e separate da barriere di 30 mm. Questa configurazione consente la creazione di profili di temperatura precisi e non lineari o la creazione di una zona di riscaldamento uniforme straordinariamente lunga che supera i 1000 mm a 800°C, offrendo una flessibilità senza pari per complessi trattamenti termici.
- Versatilità della configurazione a doppio asse: Progettata con un sistema di montaggio flessibile, l'unità può essere utilizzata sia in orientamento orizzontale che verticale. Questa adattabilità è cruciale per applicazioni specializzate come la crescita di cristalli di Bridgman o il trasporto in fase di vapore orizzontale, garantendo che l'attrezzatura possa evolversi con i mutevoli requisiti di ricerca.
- Logica di controllo PID avanzata: Ognuna delle dieci zone è governata da un controller di temperatura indipendente ad alta precisione dotato di 50 segmenti programmabili. Il loop PID integrato mantiene una fluttuazione di temperatura inferiore a 1°C, offrendo la stabilità rigorosa richiesta per la sintesi sensibile di materiali e simulazioni industriali ripetibili.
- Robusto design a tubo diviso: Il forno presenta un meccanismo di apertura divisa che consente il carico e lo scarico rapido dei campioni, nonché velocità di raffreddamento più elevate dopo la lavorazione. Questo design semplifica anche la sostituzione dei tubi di processo in allumina ad alta purezza e l'ispezione degli elementi termici.
- Ambiente di elaborazione ad alta capacità: Con un diametro standard del tubo di processo di 100 mm e una lunghezza di riscaldamento totale di 1470 mm, questo sistema è in grado di gestire campioni su larga scala o lotti ad alto volume, aumentando significativamente la produttività dei dipartimenti di ricerca sui materiali e dei laboratori industriali.
- Controllo preciso dell'atmosfera: Dotato di flange in acciaio inossidabile per impieghi gravosi e porte ISO100-K, il sistema supporta operazioni ad alto vuoto fino a 5e-2 torr e un'erogazione precisa del gas tramite raccordi a compressione da 1/4". Ciò consente ai ricercatori di mantenere un controllo rigoroso sull'atmosfera, sia essa inerte, ossidante o sotto vuoto.
- Monitoraggio termico completo: Dieci termocoppie di tipo K sono posizionate strategicamente per fornire feedback in tempo reale per ogni zona. Questa ampia capacità di monitoraggio garantisce che qualsiasi deriva termica venga corretta istantaneamente, mantenendo l'integrità del gradiente di temperatura stabilito lungo l'intera lunghezza di riscaldamento di 1470 mm.
- Integrazione della comunicazione industriale: È inclusa una porta seriale RS-485 per la comunicazione remota e la registrazione dei dati. Ciò consente il controllo centralizzato tramite PC, permettendo ai ricercatori di monitorare i cicli, memorizzare complesse ricette termiche e garantire la completa tracciabilità di tutti i parametri di trattamento termico.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Trasporto fisico di vapore (PVT) | Stabilire gradienti ripidi per la crescita di cristalli ad alta purezza e materiali 2D. | Controllo preciso sui tassi di sublimazione e deposizione. |
| Deposizione chimica da vapore (CVD) | Rivestimento su larga scala e sintesi di materiali sotto flusso di gas controllato e vuoto. | Elevata uniformità su ampie superfici per una qualità costante del film. |
| Simulazione di processi industriali | Imitare i forni a nastro industriali continui in un setup di laboratorio a lotti. | Accurata scalabilità delle ricette termiche dal laboratorio alla fabbrica. |
| Ricerca sulle batterie allo stato solido | Sinterizzazione ad alta temperatura e ricottura di elettroliti ceramici e materiali per elettrodi. | La distribuzione termica uniforme garantisce l'integrità strutturale dei componenti della batteria. |
| Crescita verticale di Bridgman | Utilizzo dell'orientamento verticale per spostare un crogiolo attraverso un gradiente di temperatura controllato. | Condizioni ottimizzate per la crescita di monocristalli e studi di solidificazione. |
| Ricottura di semiconduttori | Trattamento termico rapido o controllato di wafer di silicio o semiconduttori composti. | L'eccezionale stabilità previene lo stress termico e i difetti nel substrato. |
| Test di catalizzatori | Valutazione ad alto rendimento delle prestazioni del catalizzatore attraverso diverse zone di temperatura. | Test simultaneo di molteplici parametri all'interno di un singolo ciclo. |
Specifiche tecniche
| Parametro | Specifiche per TU-C10 |
|---|---|
| Identificazione modello | TU-C10 |
| Temperatura massima | 1200°C |
| Temperatura operativa continua | 1100°C |
| Configurazione zona di riscaldamento | 10 zone indipendenti |
| Lunghezza di ogni zona | 120 mm |
| Lunghezza separatore di zona | 30 mm |
| Lunghezza di riscaldamento totale | 1470 mm |
| Lunghezza di riscaldamento uniforme | <1000 mm @ 800°C ± 2°C |
| Dimensioni tubo di processo | Ø100 × Ø92 × 2000 mm (altre dimensioni disponibili) |
| Orientamento di montaggio | Orizzontale e verticale |
| Controllo temperatura | 10x controller PID, 50 segmenti programmabili ciascuno |
| Precisione temperatura | ± 1 ºC |
| Tipo di termocoppia | 10x tipo K |
| Capacità di vuoto | 5e-2 torr (con pompa meccanica) |
| Pressione massima | < 3 psig |
| Design della flangia | Acciaio inossidabile con porta ISO100-K e porta per vuoto KF25 |
| Ingresso/uscita gas | Raccordi a compressione da 1/4" |
| Requisiti di alimentazione | 208-240VAC, trifase, 50/60 Hz, 40 A |
| Consumo energetico massimo | 14 kVA |
| Interfaccia di comunicazione | Porta seriale RS-485 |
| Standard di conformità | Certificato CE (NRTL/UL/CSA disponibile su richiesta) |
Perché scegliere TU-C10
- Flessibilità del gradiente senza pari: Il design a dieci zone offre il controllo più granulare sui profili termici attualmente disponibile in un forno di laboratorio, consentendo una sofisticata sintesi di materiali che sistemi più semplici non possono raggiungere.
- Progettato per l'affidabilità: Utilizzando elementi termici di alta qualità e materiali isolanti avanzati, questo sistema è costruito per la longevità e la coerenza operativa negli ambienti di ricerca industriale più esigenti.
- Telaio versatile a doppio orientamento: La capacità di passare dalla configurazione orizzontale a quella verticale elimina la necessità di molteplici forni specializzati, fornendo una soluzione economica e salvaspazio per laboratori multidisciplinari.
- Precisione e stabilità: Con un loop PID che mantiene la precisione entro ±1°C, i ricercatori possono essere certi che i loro profili termici siano eseguiti con assoluta precisione, garantendo risultati ripetibili ogni volta.
- Personalizzazione completa e supporto: Forniamo opzioni di personalizzazione complete, inclusi diametri dei tubi specializzati e sistemi di controllo dell'atmosfera, supportati dal nostro team di supporto tecnico reattivo.
Il nostro team di ingegneri è pronto ad aiutarvi a configurare questa piattaforma termica avanzata per le vostre specifiche esigenze di ricerca sui materiali; contattateci oggi stesso per una consulenza tecnica e un preventivo formale.
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