Forno a tubo diviso ad alta temperatura 1200°C con meccanismo di traslazione interno per ricerca HPCVD e crescita di cristalli

Forno RTP

Forno a tubo diviso ad alta temperatura 1200°C con meccanismo di traslazione interno per ricerca HPCVD e crescita di cristalli

Numero articolo: TU-RT07

Temperatura massima di esercizio: 1200°C Precisione del controllo della temperatura: ±1°C Intervallo di corsa interna: 100 mm
Qualità Assicurata Fast Delivery Global Support

Spedizione: Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Panoramica del prodotto

Immagine del prodotto 3

Questo sistema di trattamento ad alta temperatura è un sofisticato forno a tubo diviso da 2 pollici progettato per la sintesi avanzata di materiali e la ricerca termica. Al suo interno, l'unità integra uno speciale meccanismo di traslazione che consente ai ricercatori di controllare con precisione la posizione della navicella o del crogiolo all'interno della camera di riscaldamento sotto vuoto. Questa capacità è fondamentale per i processi che richiedono un movimento dinamico attraverso un gradiente termico, fornendo una piattaforma versatile per la deposizione chimica da vapore ibrida fisica (HPCVD) e la crescita di cristalli ad alta purezza. Il design a forno diviso migliora ulteriormente l'efficienza operativa, consentendo un raffreddamento rapido e un facile accesso al tubo di processo.

Progettato per gli ambienti di laboratorio più esigenti, questa apparecchiatura funge da strumento critico per i ricercatori nel campo della scienza dei materiali, dello sviluppo di semiconduttori e della chimica dello stato solido. Facilitando il trattamento termico multifunzionale, inclusi l'evaporazione termica rapida (RTE) e la crescita di cristalli di Bridgman orizzontale, il sistema consente agli utenti di esplorare strutture cristalline di nuova generazione e complessi strati di film sottili. L'integrazione di quarzo ad alta purezza e componenti in acciaio inossidabile progettati con precisione garantisce che l'ambiente di processo rimanga privo di contaminazioni, anche quando si opera a temperature che raggiungono i 1200°C.

Affidabilità e coerenza sono i tratti distintivi di questa unità di trattamento termico. Costruito con elementi riscaldanti di grado industriale e un robusto sistema di azionamento controllato da PLC, offre prestazioni ripetibili in centinaia di cicli. La combinazione di una regolazione avanzata della temperatura PID e della precisione meccanica garantisce che le condizioni sperimentali siano mantenute con estrema accuratezza. Che venga utilizzato per lo sviluppo di prototipi su piccola scala o per la caratterizzazione fondamentale dei materiali, questo sistema fornisce la stabilità e il controllo necessari per la ricerca e sviluppo industriale all'avanguardia e per la ricerca accademica di alto livello.

Caratteristiche principali

  • Meccanismo di traslazione interno di precisione: L'apparecchiatura è dotata di uno speciale motore passo-passo da 24VDC, 100W che aziona la navicella del campione all'interno del tubo di quarzo. Ciò consente un movimento lineare controllato fino a 100 mm a velocità costante, essenziale per la solidificazione direzionale e l'esposizione termica graduata.
  • Controllo touch screen PLC integrato: Un'interfaccia digitale centralizzata gestisce sia il profilo termico che la distanza di traslazione meccanica. Questa integrazione consente agli utenti di sincronizzare le variazioni di temperatura con il posizionamento del campione, un requisito critico per complessi protocolli di deposizione da vapore.
  • Capacità di trattamento termico rapido (RTP): Spostando il supporto del campione dentro o fuori da una zona calda preriscaldata, questo sistema può raggiungere velocità di riscaldamento e raffreddamento significativamente più elevate rispetto ai forni stazionari, imitando efficacemente le condizioni RTP per la ricottura di film sottili.
  • Campo termico in quarzo ad alta purezza: Il sistema utilizza un tubo di processo in quarzo di alta qualità, che offre un'eccellente inerzia chimica e resistenza agli shock termici. Ciò garantisce che non vengano introdotte impurità nell'atmosfera di reazione, anche durante le reazioni in fase gassosa ad alta temperatura.
  • Controllo superiore del vuoto e dell'atmosfera: L'unità è dotata di flange a tenuta di vuoto con soffietti in acciaio inossidabile che rimangono ermetici anche mentre il meccanismo interno è in movimento. Ciò consente un trattamento stabile sotto alti livelli di vuoto o in ambienti a gas inerte controllato.
  • Regolazione avanzata della temperatura PID: Utilizzando un controller programmabile a 30 step con tecnologia a relè a stato solido, il sistema mantiene una precisione di ±1°C. Ciò garantisce una zona a temperatura costante di 60 mm, fondamentale per mantenere velocità di crescita dei cristalli uniformi.
  • Ingegneria del forno diviso: Il design a cerniera divisa del corpo del forno consente un raffreddamento rapido del tubo e facilita il rapido scambio di campioni o tubi di processo, massimizzando la produttività del laboratorio.
  • Opzioni multizona espandibili: Per i processi che richiedono gradienti termici più complessi, l'unità può essere aggiornata a una configurazione a doppia zona, fornendo zone a temperatura costante estese o gradienti più ripidi come richiesto dall'applicazione.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio chiave
HPCVD Deposizione chimica da vapore ibrida fisica che coinvolge gas reagenti e vapore di evaporazione. Controllo preciso sulla miscelazione dei gas e sulla posizione di deposizione.
RTE Evaporazione termica rapida in cui i materiali vengono spostati nella zona calda per un cambio di fase di vapore istantaneo. Riduce al minimo lo stress termico sui substrati e migliora la purezza del film.
Crescita Bridgman Crescita di cristalli singoli spostando un crogiolo attraverso un gradiente termico controllato. Migliora l'integrità strutturale del cristallo attraverso una solidificazione costante.
Sintesi CNT Sintesi di nanotubi di carbonio allineati verticalmente utilizzando gas di trasporto e di reazione. Distribuzione uniforme della fonte di carbonio e ambiente termico stabile.
Ricottura di film sottili Riscaldamento e raffreddamento rapido degli strati depositati per modificare la struttura del grano. Controllo preciso sulle transizioni di fase e sulle proprietà del materiale.
Solidificazione direzionale Controllo della direzione di raffreddamento dei materiali fusi per influenzare la microstruttura. Migliori proprietà meccaniche e allineamento del grano nelle leghe.
Doping di semiconduttori Introduzione di impurità nei wafer di semiconduttori a temperature specifiche. Elevata uniformità sulla superficie del campione tramite controllo del movimento.
Trasporto in fase vapore Utilizzo di agenti di trasporto chimico per far crescere cristalli ad alta purezza dal vapore. Eccellente controllo spaziale sulle zone di origine e di crescita.

Specifiche tecniche

Configurazione del sistema: TU-RT07

Caratteristica Dettagli della specifica
Alimentazione 208 - 240 VAC, 50/60Hz, 1.2 KW Max
Temp. di lavoro max. 1200°C (breve termine); 1100°C (continuo)
Dimensioni tubo di quarzo 50mm D.E. x 44mm D.I. x 450mm L
Lunghezza zona di riscaldamento 200 mm (8")
Zona a temp. costante 60 mm (±1°C a 1000°C)
Controllo temperatura Controllo automatico PID, 30 step programmabili
Precisione di controllo ±1°C tramite termocoppia di tipo K
Meccanismo di traslazione Motore passo-passo 24VDC (100W)
Distanza di traslazione max 100 mm (all'interno del tubo a tenuta di vuoto)
Velocità di traslazione 180 mm/min (costante)
Flange da vuoto Morsetto rapido da 2" con raccordi da 1/4" e valvola a spillo
Livello di vuoto 10^-2 torr (pompa meccanica); 10^-5 torr (turbopompa)
Conformità di sicurezza Certificazione CE (NRTL/CSA disponibile su richiesta)
Navicella campione Mini-crogiolo 50 x 20 x 20mm (~20ml)

Velocità tipiche di riscaldamento e raffreddamento (tramite movimento del campione)

Intervallo di temperatura Velocità di riscaldamento (Max) Velocità di raffreddamento (Max)
950°C - 850°C 0.5°C/sec 7°C - 10°C/sec
650°C - 550°C 1.0°C - 2.0°C/sec 1.5°C - 2.0°C/sec
250°C - 150°C 10°C/sec N/A

Perché scegliere questo sistema

  • Progettato per la precisione: Questo sistema non è solo un forno, ma uno strumento di precisione che combina un controllo termico ad alta precisione con un movimento meccanico affidabile per risultati scientifici ripetibili.
  • Piattaforma di ricerca versatile: La capacità di eseguire HPCVD, RTE e crescita Bridgman in un'unica unità rende questa soluzione eccezionalmente conveniente per i laboratori di materiali multidisciplinari.
  • Costruzione robusta: Utilizzando quarzo ad alta purezza ed elettronica di grado industriale, l'apparecchiatura è progettata per una coerenza operativa a lungo termine in condizioni di alto vuoto e alta temperatura.
  • Soluzioni personalizzabili: Offriamo un'ampia personalizzazione, tra cui modifiche al portacampioni (AIN o grafite), controllo della velocità di traslazione variabile e sistemi di erogazione del gas multicanale per soddisfare specifiche esigenze di ricerca.
  • Conformità completa: La certificazione CE garantisce che il sistema soddisfi rigorosi standard di sicurezza, con certificazioni NRTL o CSA opzionali disponibili per specifici requisiti di laboratorio.

Questo forno progettato con precisione rappresenta un investimento di alta qualità nelle capacità di ricerca della vostra struttura. Contattate oggi stesso il nostro team di vendita tecnica per discutere i vostri requisiti di processo specifici o per richiedere un preventivo formale per una soluzione termica personalizzata.

Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Forno a tubo diviso ad alta temperatura 1200°C per ricerca CVD e trattamento termico in atmosfera sottovuoto

Forno a tubo diviso ad alta temperatura 1200°C per ricerca CVD e trattamento termico in atmosfera sottovuoto

Forno a tubo diviso ad alte prestazioni da 1200°C progettato per CVD di precisione, sinterizzazione in atmosfera e ricottura sottovuoto. Dotato di controllo PID avanzato, isolamento in fibra di allumina giapponese ad alta efficienza energetica e design diviso a raffreddamento rapido per la ricerca e sviluppo industriale e i laboratori di materiali avanzati.

Forno a Tubo Scorrevole Automatico a Doppia Zona da 1200°C per la Crescita di Dicalcogenuri di Metalli di Transizione 2D e Ricerca sulla Sublimazione dei Materiali

Forno a Tubo Scorrevole Automatico a Doppia Zona da 1200°C per la Crescita di Dicalcogenuri di Metalli di Transizione 2D e Ricerca sulla Sublimazione dei Materiali

Padroneggia la sintesi di materiali 2D con questo sistema a doppio forno scorrevole automatico da 1200°C progettato per la crescita di TMD. Caratterizzato da zone di sublimazione e deposizione indipendenti per un controllo termico preciso e velocità di raffreddamento rapide per garantire risultati di ricerca di produzione di cristalli a film sottile di alta qualità.

Forno a tubo verticale diviso con tubo di quarzo 1200°C e flange per vuoto in acciaio inox per processamento termico rapido

Forno a tubo verticale diviso con tubo di quarzo 1200°C e flange per vuoto in acciaio inox per processamento termico rapido

Massimizza l'efficienza della ricerca con questo forno a tubo verticale diviso a 1200°C, dotato di tubo di quarzo da 5 pollici e controllo PID di precisione per tempra rapida, processamento sotto vuoto e sintesi avanzata di materiali in ambienti di laboratorio industriali ad alta richiesta.

Forno a tubo diviso ad alta temperatura 1200°C con dimensioni del tubo in quarzo opzionali e flange di tenuta sottovuoto per la ricerca nella scienza dei materiali

Forno a tubo diviso ad alta temperatura 1200°C con dimensioni del tubo in quarzo opzionali e flange di tenuta sottovuoto per la ricerca nella scienza dei materiali

Ottimizza la tua ricerca di laboratorio avanzata con questo forno a tubo diviso da 1200°C, dotato di dimensioni del tubo in quarzo opzionali e controllo PID di precisione per processi in atmosfera o sottovuoto. Progettato per la durata e la sintesi di materiali ad alta purezza in ambienti industriali e di R&S esigenti.

Forno tubolare a vuoto separabile da 5 pollici, alta temperatura 1200°C, con zona di riscaldamento da 12 pollici e controller PID separato

Forno tubolare a vuoto separabile da 5 pollici, alta temperatura 1200°C, con zona di riscaldamento da 12 pollici e controller PID separato

Raggiungi una lavorazione termica di precisione con questo forno tubolare a vuoto separabile ad alte prestazioni da 1200°C. Dotato di un ampio tubo in quarzo da 5 pollici, una zona di riscaldamento da 12 pollici e un controller PID separato, questo sistema certificato NRTL garantisce risultati affidabili per la ricerca avanzata sui materiali e le applicazioni industriali di R&S.

Forno a tubo diviso ad alta temperatura 1200°C con flange sottovuoto incernierate e tubo in quarzo da 4 pollici per ricerca di laboratorio

Forno a tubo diviso ad alta temperatura 1200°C con flange sottovuoto incernierate e tubo in quarzo da 4 pollici per ricerca di laboratorio

Questo forno a tubo diviso da 1200°C è dotato di flange sottovuoto incernierate e di un tubo in quarzo da quattro pollici per un caricamento semplificato dei campioni. Progettato per un trattamento termico preciso, offre un'eccezionale uniformità di temperatura e prestazioni sottovuoto per la scienza dei materiali avanzata e le applicazioni di ricerca e sviluppo industriale.

Forno a Tubo in Quarzo a Doppia Zona con Diametro 80mm, Temperatura Massima 1200°C, Miscelatore Gas a 3 Canali e Sistema a Pompa a Vuoto

Forno a Tubo in Quarzo a Doppia Zona con Diametro 80mm, Temperatura Massima 1200°C, Miscelatore Gas a 3 Canali e Sistema a Pompa a Vuoto

Questo avanzato forno a tubo in quarzo a doppia zona presenta un tubo di 80 mm di diametro, un sistema integrato di miscelazione gas a tre canali e un sistema a vuoto ad alte prestazioni. Perfetto per CVD e ricerca sui materiali, offre una lavorazione termica precisa a 1200°C e capacità di monitoraggio del vuoto anti-corrosione.

Forno a tubo diviso a doppia zona da 1200°C con tubo in quarzo fuso e flange per vuoto, disponibile con diametri da 60mm, 80mm e 100mm

Forno a tubo diviso a doppia zona da 1200°C con tubo in quarzo fuso e flange per vuoto, disponibile con diametri da 60mm, 80mm e 100mm

Migliora la ricerca sui materiali con questo forno a tubo diviso a doppia zona da 1200°C, dotato di controllo indipendente della temperatura per gradienti termici precisi. Equipaggiato con tubi in quarzo fuso e flange di tenuta sottovuoto, è la soluzione ideale per la CVD avanzata e la sintesi di nanomateriali.

Forno tubolare split a quattro zone da 1200°C Max con tubi in quarzo opzionali di grande diametro

Forno tubolare split a quattro zone da 1200°C Max con tubi in quarzo opzionali di grande diametro

Accelera la ricerca sui materiali con questo forno tubolare split a quattro zone da 1200°C, dotato di camere opzionali da 14 pollici di diametro e isolamento ad alta purezza. Offre una precisione di uniformità termica su ampie zone di riscaldamento, rendendolo ideale per sinterizzazione su larga scala, ricottura e processi avanzati di deposizione in fase vapore industriale.

Forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C con doppi tubi e flange per processi PECVD

Forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C con doppi tubi e flange per processi PECVD

Accelera la ricerca sui materiali con questo forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C progettato per processi PECVD di precisione. Dotato di un generatore di plasma RF ad alta potenza e capacità di elaborazione termica rapida, offre un'eccezionale uniformità del film e risultati costanti per applicazioni avanzate di R&S industriale.

Forno a tubo diviso verticale ad alta temperatura 1700°C per tempra di materiali e crescita di monocristalli

Forno a tubo diviso verticale ad alta temperatura 1700°C per tempra di materiali e crescita di monocristalli

Questo avanzato forno a tubo diviso verticale da 1700°C offre un trattamento termico di precisione per la tempra dei materiali e la crescita di monocristalli. Progettato per l'eccellenza nella ricerca e sviluppo, il sistema è dotato di compatibilità con il vuoto e controllo PID per risultati affidabili e ripetibili in ambienti di laboratorio di ricerca industriale esigenti.

Forno a tubo diviso a doppia zona ad alta temperatura per sinterizzazione in atmosfera avanzata e applicazioni CVD sottovuoto

Forno a tubo diviso a doppia zona ad alta temperatura per sinterizzazione in atmosfera avanzata e applicazioni CVD sottovuoto

Migliora la tua ricerca sui materiali con questo forno a tubo diviso a doppia zona ad alta precisione da 1400°C. Dotato di controllo indipendente della temperatura, capacità di sinterizzazione in atmosfera e stabilità termica superiore, è la soluzione ideale per esperimenti CVD avanzati e progetti di trattamento termico industriale.

Forno a tubo CVD a camera divisa con stazione di vuoto - Sistema per deposizione chimica da vapore

Forno a tubo CVD a camera divisa con stazione di vuoto - Sistema per deposizione chimica da vapore

Sistema avanzato di forno a tubo CVD a camera divisa con stazione di vuoto integrata e controllo gas MFC a 4 canali. Progettato per la deposizione precisa di film sottili, la sintesi di nanomateriali e la ricerca e sviluppo nel settore dei semiconduttori, questa unità garantisce elevata precisione della temperatura e un'uniformità di deposizione eccezionale.

Forno a tubo diviso 1250C con tubo in mullite da 3 pollici e flange di sigillatura sottovuoto per lavorazione termica di precisione

Forno a tubo diviso 1250C con tubo in mullite da 3 pollici e flange di sigillatura sottovuoto per lavorazione termica di precisione

Questo forno a tubo diviso 1250C è dotato di un tubo in mullite da 3 pollici e flange di sigillatura sottovuoto per attività di ricerca e sviluppo avanzate. Progettato per la scienza dei materiali, offre controllo PID di precisione, isolamento ad alta purezza e prestazioni affidabili in condizioni di vuoto o atmosfere gassose controllate. Di grado professionale.

Forno a tubo diviso a sei zone con tubo in allumina e flange per vuoto per trattamento termico ad alta temperatura a 1500°C e CVD

Forno a tubo diviso a sei zone con tubo in allumina e flange per vuoto per trattamento termico ad alta temperatura a 1500°C e CVD

Questo forno a tubo diviso a sei zone da 1500°C offre un controllo termico eccezionale per la ricerca di laboratorio professionale e le applicazioni CVD ad alta temperatura. Dotato di un tubo in allumina da 1800 mm e precisi controller PID a 30 segmenti per risultati costanti di lavorazione dei materiali e ricottura.

Forno a tubo verticale sdoppiato a doppia zona da 1100°C con tubo in quarzo da 4 pollici e flange a tenuta sottovuoto

Forno a tubo verticale sdoppiato a doppia zona da 1100°C con tubo in quarzo da 4 pollici e flange a tenuta sottovuoto

Questo forno a tubo verticale sdoppiato a doppia zona da 1100°C è dotato di un tubo in quarzo da quattro pollici e flange a tenuta sottovuoto. Progettato per applicazioni CVD e PVD, questo sistema ad alta precisione offre un'eccezionale uniformità termica per la ricerca e lo sviluppo in laboratorio.

Forno a Tubo Scindibile ad Alta Temperatura a Otto Zone 1100C con Tubo in Quarzo da 4 Pollici OD e Pannello di Controllo Touch Screen

Forno a Tubo Scindibile ad Alta Temperatura a Otto Zone 1100C con Tubo in Quarzo da 4 Pollici OD e Pannello di Controllo Touch Screen

Ottimizza la ricerca sui materiali con questo forno a tubo scindibile a otto zone da 1100°C, dotato di pannello di controllo touch screen, gradienti termici di precisione e un ampio tubo in quarzo da 4 pollici OD per processi avanzati di R&D industriale e deposizione chimica da vapore.

Forno a tubo di quarzo verticale compatto con flange sottovuoto in acciaio inossidabile per tempra termica rapida e trattamento dei materiali in atmosfera controllata

Forno a tubo di quarzo verticale compatto con flange sottovuoto in acciaio inossidabile per tempra termica rapida e trattamento dei materiali in atmosfera controllata

Progettato per la ricerca ad alta precisione, questo forno a tubo di quarzo verticale compatto offre un riscaldamento rapido fino a 1100°C. Dotato di flange sottovuoto in acciaio inossidabile e controllo programmabile a 30 segmenti, è lo strumento essenziale per la scienza dei materiali e le applicazioni di tempra industriale. Prestazioni affidabili.

Forno a tubo diviso a due zone da 1500°C con flangia sottovuoto e tubo in allumina da 80 mm

Forno a tubo diviso a due zone da 1500°C con flangia sottovuoto e tubo in allumina da 80 mm

Forno a tubo diviso a due zone ad alte prestazioni da 1500°C, dotato di tubo in allumina da 80 mm, elementi riscaldanti in SiC e controllo PID preciso. Ideale per la ricerca e sviluppo sui materiali, la deposizione chimica da vapore (CVD) e il trattamento termico con capacità di vuoto e atmosfere multiple per applicazioni avanzate di ricerca in laboratorio industriale.

Forno a tubo verticale diviso ad alta temperatura con regolatore di temperatura PID per tubi di lavorazione da 1 e 2 pollici

Forno a tubo verticale diviso ad alta temperatura con regolatore di temperatura PID per tubi di lavorazione da 1 e 2 pollici

Preciso forno a tubo verticale diviso a 1100°C progettato per la ricerca in scienza dei materiali e lo sviluppo di catalizzatori. È dotato di controllo PID avanzato, design a copertura divisa per una facile sostituzione del tubo e isolamento termico superiore per garantire un riscaldamento ad alte prestazioni per applicazioni di ricerca e sviluppo di laboratorio e industriali.