Forno RTP
Forno per trattamento termico rapido ad alta temperatura 800°C con portacampione rotante per sublimazione a spazio ravvicinato e ricerca su celle solari a film sottile
Numero articolo: TU-RT32
Spedizione: Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.
Panoramica del prodotto
Questo avanzato sistema di trattamento termico è progettato specificamente per la sublimazione a spazio ravvicinato (CSS) e la deposizione di film sottili ad alta uniformità. Integrando una tecnologia di riscaldamento alogeno ad alta intensità con uno speciale meccanismo rotante per il substrato, l'apparecchiatura fornisce un ambiente controllato per la sintesi di materiali avanzati. Il sistema è progettato per gestire dimensioni del substrato fino a 5x5 pollici, rendendolo una piattaforma versatile sia per la ricerca fondamentale nella scienza dei materiali che per lo sviluppo di dispositivi fotovoltaici su scala pilota. La sua architettura di riscaldamento a doppia zona consente l'impostazione precisa di gradienti termici, essenziali per il trasporto di vapore controllato e la crescita dei grani nei processi di sublimazione.
Utilizzata principalmente nel campo dell'energia rinnovabile e della ricerca sui semiconduttori, questa unità è uno strumento critico per la fabbricazione di celle solari di nuova generazione. È stata determinante in ricerche fondamentali riguardanti il fotovoltaico al seleniuro di antimonio (Sb2Se3), nonché dispositivi basati su tellururo di cadmio (CdTe) e perovskite. L'apparecchiatura consente ai ricercatori di esplorare nastri unidimensionali orientati e bordi di grano benigni, facilitando la produzione di celle ad alta efficienza con migliori proprietà di trasporto di carica. Il design privilegia la risposta termica rapida necessaria per sopprimere le fasi secondarie indesiderate durante i cicli di riscaldamento e raffreddamento.
Costruito per ambienti di ricerca e sviluppo esigenti, il forno offre affidabilità e prestazioni di livello industriale. È dotato di una robusta camera in quarzo sigillata sottovuoto e di un'infrastruttura raffreddata ad acqua che garantisce stabilità operativa durante i cicli ad alta temperatura. L'integrazione di sistemi di controllo digitale di precisione e la compatibilità con l'alto vuoto consentono risultati riproducibili su più lotti. Che venga utilizzato per la ricottura termica rapida (RTA) o per complessi rivestimenti per sublimazione, questo sistema offre la coerenza e la precisione richieste dai principali istituti accademici e laboratori di ricerca industriale in tutto il mondo.
Caratteristiche principali
Riscaldamento avanzato e controllo termico
- Riscaldamento alogeno a doppia zona indipendente: Il sistema utilizza 20 lampade alogene ad alte prestazioni suddivise in gruppi superiori e inferiori. Questa configurazione consente il controllo indipendente della temperatura del materiale sorgente e del substrato, permettendo la regolazione fine del gradiente termico essenziale per la sublimazione a spazio ravvicinato.
- Risposta termica rapida: Progettata per la velocità, l'unità raggiunge velocità di riscaldamento e raffreddamento fino a 10°C al secondo. Questa capacità rapida è vitale per le applicazioni di trattamento termico rapido (RTP) in cui è necessario ridurre al minimo il budget termico per prevenire la diffusione dei droganti o il degrado del substrato.
- Piastre di uniformità in AlN ad alta conducibilità: In dotazione con il sistema ci sono piastre in nitruro di alluminio (AlN) ad alta conducibilità termica. Queste piastre sono posizionate dietro il substrato per garantire una distribuzione uniforme del calore, eliminando i punti caldi e assicurando una crescita uniforme del film sull'intera superficie da 5 pollici.
Eccellenza meccanica e di movimento
- Portacampione superiore rotante: Per ottenere una superiore uniformità del rivestimento, il supporto del substrato superiore è dotato di un meccanismo di rotazione motorizzato. Con un intervallo di velocità regolabile da 0 a 7 RPM, garantisce che il film sottile depositato mantenga uno spessore e una morfologia di fase costanti su wafer quadrati o circolari.
- Gap di processo regolabile: La spaziatura verticale tra gli elementi riscaldanti superiori e inferiori può essere regolata manualmente da 2 mm a 30 mm. Questa flessibilità consente agli utenti di ottimizzare il cammino libero medio delle specie sublimate, influenzando direttamente la velocità di deposizione e la qualità del film.
- Sistema di sollevamento elettrico a flangia: Le flange sottovuoto in acciaio inossidabile per impieghi gravosi sono supportate da un sistema di sollevamento azionato da un motore elettrico. Ciò consente un facile carico e scarico dei campioni mantenendo l'allineamento preciso richiesto per la sigillatura ad alto vuoto.
Integrità del sistema e infrastruttura
- Camera in quarzo ad alta purezza: L'ambiente di elaborazione è contenuto all'interno di un tubo in quarzo fuso ad alta purezza (11" OD). Questo mezzo trasparente consente un efficiente riscaldamento IR dalle lampade alogene fornendo al contempo un'eccellente resistenza chimica e stabilità agli shock termici.
- Gestione avanzata del vuoto: Il sistema è costruito con flange SS316 e doppi O-ring in silicone, in grado di raggiungere livelli di alto vuoto (10E-5 Torr con pompa molecolare). Un manometro digitale anticorrosione integrato fornisce il monitoraggio in tempo reale della pressione della camera.
- Soluzione di raffreddamento integrata: È incluso un refrigeratore d'acqua a circolazione dedicato da 58L/min per gestire il carico termico dei riscaldatori incamiciati ad acqua. Ciò protegge i componenti interni e consente le elevate velocità di raffreddamento richieste per specifiche fasi del materiale.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio principale |
|---|---|---|
| Celle solari Sb2Se3 | Evaporazione termica rapida di film di seleniuro di antimonio per la crescita di nastri unidimensionali. | Trasporto dei portatori migliorato ed efficienza cellulare incrementata grazie all'orientamento dei grani. |
| Rivestimento CSS CdTe | Sublimazione a spazio ravvicinato di tellururo di cadmio per fotovoltaico a film sottile di ampia superficie. | Elevate velocità di deposizione con eccellente controllo stechiometrico e densità del film. |
| Elaborazione perovskite | Elaborazione in soluzione assistita da vapore e ricottura di perovskiti a eterogiunzione planare. | Controllo preciso sulla cinetica di cristallizzazione e sulla morfologia per dispositivi stabili. |
| R&S semiconduttori | Ricottura termica rapida (RTA) ed elaborazione di wafer di silicio o composti da 5 pollici. | Budget termico ridotto e attivazione precisa dei droganti negli strati semiconduttori. |
| Calcogenuri a film sottile | Sintesi di materiali a base di solfuro e seleniuro per applicazioni optoelettroniche. | Capacità di gestire precursori corrosivi con infrastruttura protettiva integrata. |
| Studi sulle fasi dei materiali | Esplorazione delle transizioni di fase dipendenti dalla temperatura in nuovi materiali a film sottile. | Il riscaldamento e il raffreddamento rapidi consentono il quenching e la cattura di fasi metastabili. |
Specifiche tecniche
| Categoria di specifica | Parametro | Dettaglio per TU-RT32 |
|---|---|---|
| Identificatore modello | Numero articolo | TU-RT32 |
| Prestazioni di temperatura | Temperatura massima di lavoro | 800ºC (per ogni riscaldatore) |
| Differenza di temperatura massima | ≤ 300ºC (il gradiente dipende dalla spaziatura) | |
| Velocità di riscaldamento | < 8ºC/s (riscaldamento singolo riscaldatore) | |
| Velocità di raffreddamento | < 10ºC/s (da 600ºC a 100ºC) | |
| Architettura di riscaldamento | Elementi riscaldanti | 20 lampade alogene (gruppi superiore e inferiore) |
| Costruzione riscaldatore | Acciaio inossidabile con camicia integrata raffreddata ad acqua | |
| Sensori termici | Due termocoppie di tipo K | |
| Camera e vuoto | Materiale della camera | Tubo in quarzo fuso ad alta purezza |
| Dimensioni della camera | 11" OD / 10.8" ID x 9" H | |
| Flange sottovuoto | Acciaio inossidabile 316 con sollevamento a motore elettrico | |
| Livello di vuoto massimo | 10E-2 Torr (pompa meccanica) / 10E-5 Torr (pompa molecolare) | |
| Porte sottovuoto | Porte KFD-25 con ingressi/uscite gas da 1/4" | |
| Gestione campioni | Capacità substrato | Wafer quadrato 5" x 5" o circolare diametro 5" |
| Meccanismo di rotazione | Supporto superiore rotante, regolabile 0 - 7 RPM | |
| Spaziatura (da superiore a inferiore) | Regolabile manualmente da 2 mm a 30 mm | |
| Miglioramento uniformità | Piastre in AlN ad alta conducibilità termica (5" diam. x 0,5 mm) | |
| Sistema di controllo | Tipo di controller | Doppi controller PID digitali di precisione (30 segmenti programmabili) |
| Funzioni di sicurezza | Autotuning PID, allarme sovratemperatura, protezione guasto termocoppia | |
| Gestione dati | Interfaccia di comunicazione PC e software per la profilazione della temperatura | |
| Infrastruttura | Requisito di raffreddamento | Refrigeratore d'acqua a circolazione da 58L/min (incluso) |
| Tensione di lavoro | 208 - 240VAC, monofase | |
| Requisito di potenza | 10 KW totali (richiesto interruttore automatico da 50A) | |
| Attributi fisici | Materiale telaio | Telaio mobile in lega di alluminio |
| Configurazione spedizione | Due pallet: 525 lbs (48"x40"x87") e 165 lbs (39"x31"x29") |
Perché scegliere TU-RT32
- Pedigree di ricerca comprovato: Questa architettura di sistema è riconosciuta dalle principali riviste scientifiche, tra cui Nature Photonics, per il suo ruolo nello sviluppo di fotovoltaico a film sottile ad alta efficienza. Investire in questa apparecchiatura significa utilizzare una piattaforma collaudata per ricerca e sviluppo ad alto impatto.
- Uniformità del film superiore: A differenza dei sistemi di sublimazione statici, la rotazione integrata del supporto del substrato combinata con i diffusori termici in AlN garantisce che gli strati di film sottile siano depositati con un'uniformità di grado industriale sull'intera superficie del wafer.
- Iterazione rapida del processo: L'array di riscaldamento alogeno ad alta potenza consente cicli termici rapidi, aumentando significativamente la produttività del laboratorio. Ciò consente ai ricercatori di testare più parametri in meno tempo senza sacrificare la precisione termica.
- Ingegneria robusta e sicurezza: Dalle flange sottovuoto SS316 alle camicie delle lampade raffreddate ad acqua e agli allarmi di sicurezza integrati, ogni componente è progettato per la longevità e la sicurezza dell'operatore in condizioni termiche esigenti.
- Supporto completo: Forniamo una garanzia limitata di un anno e supporto tecnico a vita. I nostri ingegneri sono disponibili per assistere con l'integrazione del sistema, modifiche personalizzate e ottimizzazione del processo per garantire che la vostra struttura raggiunga i suoi obiettivi di ricerca.
Per una consulenza tecnica dettagliata o per ricevere un preventivo formale su misura per i vostri specifici requisiti di ricerca sui film sottili, contattate oggi stesso il nostro team di vendita tecnica.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Prodotti correlati
Forno per trattamento termico rapido 950°C per rivestimento CSS di wafer da 12 pollici con supporto per substrato rotante
Questo forno di precisione per trattamento termico rapido a 950°C è dotato di un supporto rotante per substrati da 12 pollici e riscaldamento IR a doppia zona. Progettato per il rivestimento avanzato di film CSS e la ricottura di semiconduttori, offre una deposizione uniforme di film sottili in condizioni di alto vuoto per la ricerca industriale.
Forno di pressatura a riscaldamento ultrarapido ad alta temperatura 2900°C max 100 kgf Sistema di lavorazione termica rapida
Progettato per la lavorazione termica rapida, questo forno di riscaldamento e pressatura ultrarapido da 2900°C offre velocità di ramp-up di 180°C/s e una pressione di 100 kgf. Ideale per la sinterizzazione flash e la ricerca e sviluppo di materiali avanzati, questo sistema ad alto vuoto garantisce precisione assoluta, affidabilità comprovata e prestazioni industriali convenienti.
Forno di pressatura termica ultrarapida Temperatura massima 2900°C Velocità di riscaldamento 200K al secondo Sistema di lavorazione rapida in atmosfera sotto vuoto
Questo forno di pressatura termica ultrarapida da 2900°C raggiunge velocità di riscaldamento superiori a 200K/s per l'R&D avanzata. Dotato di controllo del vuoto di precisione e pressione a contrappeso integrata, il sistema offre soluzioni ad alte prestazioni per la ricerca sui materiali e le applicazioni di lavorazione termica rapida.
Forno per trattamento termico rapido (RTP) a 1100°C con caricamento dal basso e atmosfera controllata per la ricottura di wafer e la ricerca sulla catalisi
Questo forno RTP a 1100°C con caricamento dal basso offre un riscaldamento ultra-rapido di 50°C/s per la ricottura di wafer e la catalisi. Dotato di controllo automatizzato dell'atmosfera e integrazione robotica, garantisce una precisione ad alto rendimento per applicazioni industriali di R&S e scienza dei materiali, con un'affidabilità costante e prestazioni senza pari.
Forno a Tubo 1200°C con Scorrimento Campione Magnetico Interno per Deposizione per Vaporizzazione Diretta e Processo Termico Rapido
Questo forno a tubo professionale da 1200°C è dotato di un meccanismo manuale di scorrimento magnetico del campione, progettato specificamente per la deposizione per vaporizzazione diretta e il processo termico rapido. Garantisce un controllo termico preciso e una crescita del materiale uniforme per applicazioni di ricerca impegnative e per la scienza dei materiali industriale.
Forno a tubo scorrevole da 1200°C con tubo in quarzo da 80mm OD e flange per vuoto per Rapid Thermal Processing (RTP) e riscaldamento/raffreddamento rapido
Ottieni un trattamento termico rapido con questo forno a tubo scorrevole da 1200°C max. Dotato di un tubo in quarzo da 80mm OD e un meccanismo di scorrimento manuale, offre velocità di riscaldamento e raffreddamento eccezionali fino a 100°C al minuto per la ricerca avanzata sui materiali e la R&S industriale.
Forno a Carico Inferiore per Trattamento Termico Rapido RTP con Controllo dell'Atmosfera 1100C, Elevata Produttività, Velocità di Riscaldamento 50C al Secondo
Massimizza l'efficienza della ricerca e sviluppo con questo forno RTP a carico inferiore da 1100°C, dotato di riscaldamento ultraveloce a 50°C/s e controllo dell'atmosfera. Questo sistema ad alta produttività si integra con bracci robotici per la catalisi automatizzata a singolo atomo e applicazioni precise di ricottura di wafer da 6 pollici.
Forno a tubo scorrevole per trattamento termico rapido (RTP) con tubo in quarzo da 4 pollici OD e riscaldamento IR a 900°C
Ottimizza la sintesi dei materiali con questo forno a tubo RTP scorrevole con temperatura massima di 900°C. Progettato per un rapido riscaldamento IR a 50°C/s e raffreddamento automatizzato, offre un controllo preciso per applicazioni di ricerca su grafene, nanotubi di carbonio e celle solari a perovskite.
Forno di Caricamento dal Basso per Processamento Termico Rapido con Controllo dell'Atmosfera 1100°C con Velocità di Riscaldamento di 50°C al Secondo per l'Annealing di Wafer
Ottieni la massima efficienza con questo forno per processamento termico rapido a caricamento dal basso da 1100°C, caratterizzato da velocità di riscaldamento di 50°C/s e controllo automatico dell'atmosfera. Perfetto per catalisi a singolo atomo ad alto rendimento e annealing preciso di wafer semiconduttori da sei pollici in ambienti di ricerca avanzata.
Forno per trattamento termico rapido (RTP) compatto a atmosfera controllata con tubo al quarzo da 4 pollici ID 1100°C
Migliora la ricerca sui semiconduttori con questo forno RTP compatto a atmosfera controllata. Dotato di un tubo al quarzo da 4 pollici e una capacità di 1100°C, offre un riscaldamento di 50°C/secondo per ricottura di precisione, CVD e lavorazione di materiali ad alto rendimento.
Forno a tubo scorrevole automatizzato per riscaldamento e raffreddamento rapido, 2 pollici DE, 1100°C max
Ottimizza la ricerca sui materiali con questo forno a tubo scorrevole automatizzato ad alte prestazioni. Con un riscaldamento e raffreddamento ultra-rapidi di 100°C al minuto, questo sistema da 1100°C garantisce un trattamento termico preciso per semiconduttori, nanotecnologie e applicazioni di ricerca e sviluppo industriale che richiedono cicli termici rapidi.
Forno a Tubo ad Alta Temperatura 1500°C con Flange Scorrevoli e OD 50mm per Processi Termici Rapidi, Riscaldamento e Raffreddamento Veloce
Ottieni processi termici rapidi con questo forno a tubo da 1500°C max dotato di flange scorrevoli manuali per riscaldamento e raffreddamento accelerati. Progettato per la ricerca in scienza dei materiali, questo sistema ad alta precisione offre prestazioni sottovuoto eccezionali e monitoraggio a doppio controllore per applicazioni di laboratorio impegnative.
Forno a tubo scorrevole da 1200°C per elaborazione termica rapida e crescita di grafene CVD con capacità di 100 mm di diametro esterno
Accelera la tua ricerca con questo forno a tubo scorrevole da 1200°C progettato per l'elaborazione termica rapida e le applicazioni CVD. Dotato di controllo PLC ad alta precisione e binario scorrevole motorizzato per cicli di riscaldamento e raffreddamento ultra-rapidi in laboratori di scienza dei materiali avanzata e R&S industriale.
Forno a Tubo RTP Scorrevole da 900 ºC Max con Riscaldamento IR Rapido e Tubo in Quarzo da 4 Pollici OD
Massimizza l'efficienza della R&S con questo forno a tubo RTP scorrevole da 900°C, dotato di riscaldamento IR rapido, velocità di rampa fino a 50°C/s e raffreddamento automatizzato per la crescita di grafene, sintesi di CNT e ricottura avanzata di wafer semiconduttori in condizioni di vuoto o atmosferiche.
Forno a tubo scorrevole da 5 pollici ad alta temperatura 1200°C per Rapid Thermal Processing (RTP) e ricottura di wafer
Accelera la tua ricerca sui materiali con questo forno a tubo scorrevole da 1200°C progettato per il Rapid Thermal Processing. Dotato di un tubo al quarzo da 5 pollici e doppi controller PID, offre velocità di riscaldamento e raffreddamento precise per applicazioni avanzate nel settore dei semiconduttori.
Forno a muffola da 1700°C con piattaforma scorrevole per riscaldamento e raffreddamento rapidi, sistema di trattamento termico ad alta temperatura
Questo forno a muffola ad alta temperatura è dotato di una piattaforma scorrevole per un carico rapido e un trattamento termico veloce fino a 1700°C. Ideale per la ricerca nella scienza dei materiali, offre un controllo PID di precisione e un'eccezionale efficienza energetica per i laboratori industriali.
Forno tubolare verticale a vuoto 500C, campione con sistema di rotazione e sollevamento, tubo OD 84 mm
Questo forno tubolare verticale a vuoto di livello superiore offre capacità ad alta temperatura e un tubo mullite con OD da 84 mm, con sistemi di rotazione del campione e sollevamento manuale per garantire una sinterizzazione uniforme per la ricerca avanzata sui materiali e i processi industriali di trattamento termico. L’eccellenza ingegneristica garantisce affidabilità.
Forno Compatto a Carico dal Basso ad Alta Temperatura 1700°C Sistema Rapido di Riscaldamento e Raffreddamento Attrezzatura per Cicli Termici su Piccoli Campioni
Questo forno compatto a carico dal basso da 1700°C presenta un sollevatore motorizzato per una rapida lavorazione dei campioni, un controllo PID di precisione e avanzati elementi riscaldanti in MoSi2, rendendolo la soluzione ideale per la ricerca sui materiali ad alta temperatura e rigorosi test di impatto a cicli termici per applicazioni di laboratorio industriale.
Forno verticale a caricamento dal basso ad alta temperatura 1700°C, sistema di trattamento campioni a doppio stadio, attrezzatura per trattamento termico da 18L ad alta capacità
Massimizza l'efficienza del laboratorio con questo forno verticale a caricamento dal basso da 1700°C, dotato di doppi stadi scorrevoli per una lavorazione continua. Progettato per cicli termici rapidi e ricerca di precisione, con isolamento ad alta purezza e controllo avanzato tramite touchscreen PID.
Forni tubolari rotanti inclinabili ad alta temperatura per la sinterizzazione avanzata di polveri e la lavorazione dei materiali
Forni tubolari rotanti inclinabili ad alta temperatura, progettati per la sinterizzazione uniforme di polveri e la lavorazione dei materiali. Dotato di rotazione dinamica, controllo PID di precisione e inclinazione automatizzata, questo sistema professionale garantisce un trattamento termico omogeneo per le più esigenti applicazioni industriali e di ricerca e sviluppo nel campo della scienza dei materiali.
Articoli correlati
La fisica della redenzione: ripristino superficiale del fosforo violetto nel campo termico
Il costo silenzioso dell'efficienza: riparare i danni indotti dal plasma tramite la precisione termica
