Forno RTP
Forno a Tubo RTP Scorrevole da 900 ºC Max con Riscaldamento IR Rapido e Tubo in Quarzo da 4 Pollici OD
Numero articolo: TU-RT26
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Panoramica del Prodotto


Questo forno a tubo scorrevole ad Elaborazione Termica Rapida (RTP) ad alte prestazioni rappresenta un significativo progresso nel trattamento termico su scala di laboratorio, progettato specificamente per ricercatori in scienza dei materiali che richiedono velocità di riscaldamento e raffreddamento estreme. Utilizzando un sofisticato array di lampade a infrarossi (IR) e un meccanismo scorrevole di precisione, il sistema facilita cicli termici rapidi essenziali per la sintesi di materiali 2D moderni, wafer semiconduttori e film sottili avanzati. Il valore fondamentale di questa apparecchiatura risiede nella sua capacità di ottenere transizioni di fase precise e crescita cristallina controllata grazie alla sua eccezionale gestione del gradiente termico.
Progettato per gli ambienti di R&S industriali più impegnativi, l'unità è particolarmente efficace per la crescita di grafene e nanotubi di carbonio (CNT) tramite Deposizione Chimica da Vapore (CVD), nonché per la fabbricazione specializzata di celle solari a perovskite. La sua versatilità le consente di funzionare in condizioni di vuoto o atmosfera controllata, fornendo una piattaforma flessibile per vari processi di trattamento termico. L'integrazione di componenti in quarzo ad alta purezza e hardware per vuoto in acciaio inossidabile garantisce un ambiente di lavorazione pulito e privo di contaminanti per materiali elettronici e ottici sensibili.
Affidabilità e coerenza sono al centro dell'ingegneria di questo sistema. La cassa in acciaio a doppio strato e il sistema di raffreddamento ad aria attivo sono progettati per mantenere l'integrità strutturale e la sicurezza esterna anche durante le operazioni ad alta temperatura. Ogni componente, dalle lampade alogene alle guide scorrevoli azionate da motore DC, è selezionato per la sua durata e prestazioni sotto stress termico ciclico. Ciò garantisce che l'attrezzatura fornisca risultati ripetibili per migliaia di ore di funzionamento, offrendo ai team di approvvigionamento e ai ricercatori principali piena fiducia nei loro dati sperimentali e nella scalabilità del processo.
Caratteristiche Principali
- Riscaldamento con Lampade IR ad Alta Intensità: Il sistema utilizza un array di otto lampade alogene da 1kW per raggiungere velocità di riscaldamento ultra-rapide fino a 50ºC/s. Ciò consente ai ricercatori di raggiungere le temperature di processo in pochi secondi, minimizzando il budget termico e prevenendo diffusioni indesiderate negli strati semiconduttori sensibili.
- Meccanismo di Raffreddamento Scorrevole Automatizzato: Le doppie guide scorrevoli integrate consentono al corpo del forno di allontanarsi automaticamente dall'area del campione al termine del programma. Combinato con ventole di raffreddamento integrate, ciò consente una velocità di raffreddamento superiore a 8ºC/s, fondamentale per la tempra delle fasi o l'arresto istantaneo delle reazioni chimiche.
- Controllo Termico PID di Precisione: Il controller digitale avanzato supporta 30 segmenti programmabili, consentendo profili complessi di rampa, mantenimento e raffreddamento. Con una precisione di ±1ºC, il sistema garantisce che ogni ciclo di processo aderisca rigorosamente ai parametri termici definiti.
- Gestione Ottimizzata del Vuoto e dei Gas: Dotato di flange per vuoto in acciaio inossidabile e una valvola a spillo integrata, il sistema supporta livelli di vuoto fino a 10^-4 torr con una pompa molecolare. Il design della flangia destra a cerniera facilita il caricamento e lo scarico dei campioni, mentre il manometro digitale integrato fornisce un monitoraggio in tempo reale delle condizioni della camera.
- Costruzione Robusta a Doppio Strato: Il forno presenta una cassa in acciaio a doppio strato con canali di raffreddamento ad aria. Questo design non solo protegge i componenti interni durante il riscaldamento prolungato, ma garantisce anche che il guscio esterno rimanga sicuro al tatto, in conformità con gli standard di sicurezza di laboratorio moderni.
- Monitoraggio a Doppia Termocoppia: L'unità include due termocoppie di tipo K. Una è dedicata al controller PID per la regolazione della temperatura del forno, mentre la seconda è inserita direttamente nella zona del campione per il monitoraggio preciso della temperatura effettiva del materiale durante i cicli rapidi di riscaldamento e raffreddamento.
- Interfaccia PC Espandibile: Una porta di comunicazione RS485 integrata e il modulo di controllo MTS-02 incluso consentono il funzionamento remoto e la registrazione dei dati tramite PC. Ciò consente ai ricercatori di esportare i profili termici per scopi di documentazione e controllo qualità.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio Principale |
|---|---|---|
| Sintesi del Grafene | Processo CVD ad alta temperatura per la crescita di grafene mono e multi-strato su fogli metallici. | Le rapide velocità di rampa facilitano la nucleazione controllata e dimensioni dei grani maggiori. |
| Sintesi di CNT | Crescita controllata di nanotubi di carbonio mediante deposizione da fase vapore. | Il controllo preciso della temperatura garantisce diametro uniforme e alta purezza. |
| Celle Solari a Perovskite | Ricottura termica e cristallizzazione di film sottili di perovskite per la ricerca fotovoltaica. | Il raffreddamento rapido previene il degrado del film e ottimizza la struttura cristallina. |
| Ricottura di Wafer | Ricottura termica rapida (RTA) per wafer semiconduttori fino a 3 pollici di diametro. | Minimizza la diffusione dei droganti attivando le specie impiantate ioniche. |
| Ricerca su Materiali 2D | Elaborazione di MoS2, WS2 e altri dicalcogenuri dei metalli di transizione. | Il ciclaggio termico ad alta velocità consente l'esplorazione di fasi metastabili. |
| Film Sottili CVD | Deposizione di rivestimenti specializzati sotto vuoto o flussi di gas a bassa pressione. | Il misuratore di portata integrato e le flange per vuoto forniscono una soluzione CVD chiavi in mano. |
Specifiche Tecniche
| Parametro | Dettaglio Specifica per TU-RT26 |
|---|---|
| Numero di Modello | TU-RT26 |
| Struttura del Forno | Cassa in acciaio a doppio strato con raffreddamento ad aria; guide scorrevoli automatiche integrate |
| Temperatura Massima | 900°C (per < 1 ora) |
| Temperatura di Lavoro Standard | 800ºC (< 120 min); 600ºC (Continua) |
| Velocità di Riscaldamento | Max. 50 ºC/s |
| Velocità di Raffreddamento | Max. 8 ºC/s (intervallo 1000 - 600ºC tramite scorrimento) |
| Elementi Riscaldanti | 8 pz Lampade alogene da 1Kw (vita 2000 ore; lunghezza riscaldamento 200mm) |
| Tubo di Processo | Quarzo fuso ad alta purezza; 100mm O.D x 94mm I.D x 1400mm L |
| Requisiti di Alimentazione | AC 208-240V Monofase, 50/60 Hz; potenza totale 9KW |
| Sistema di Scorrimento | Azionato da motore DC; lunghezza guida 1200mm; corsa di scorrimento 340mm |
| Velocità di Scorrimento | 0-70 mm/s (Regolabile tramite manopola o programma automatizzato) |
| Controllo Temperatura | Controller automatico PID; 30 segmenti programmabili; precisione ±1 ºC |
| Termocoppie | Doppia tipo K (1/4" Dia x 24" L); Controllo e Monitoraggio Campione |
| Sistema Vuoto | Flange SS; Flangia destra a cerniera; Valvola angolare KF25 |
| Livello di Vuoto | 10^-2 torr (Pompa meccanica); 10^-4 torr (Pompa molecolare) |
| Gestione Gas | Misuratore di portata integrato (16-160 ml/min); Raccordi gas a valvola a spillo |
| Comunicazioni | Porta RS485; Modulo di controllo MTS-02 incluso |
| Conformità | Certificato CE; NRTL (UL61010) o CSA disponibili su richiesta |
Perché Sceglierci
- Superiore Agilità Termica: A differenza dei forni a tubo tradizionali, la tecnologia di riscaldamento IR e il raffreddamento scorrevole automatizzato di questa unità consentono gradienti termici senza pari, riducendo significativamente i cicli di processo e permettendo la sintesi avanzata di materiali.
- Affidabilità di Grado Industriale: Costruito con componenti di prima qualità, tra cui quarzo ad alta purezza e guide in acciaio cromato, questo sistema è progettato per cicli di lavoro intensi in ambienti di ricerca e produzione impegnativi.
- Ingegneria di Precisione: Ogni aspetto del design, dalle flange per vuoto a cerniera al monitoraggio a doppia termocoppia, è ottimizzato per facilità d'uso senza compromettere le prestazioni tecniche.
- Integrazione Chiavi in Mano: Con manometri per vuoto, misuratori di portata e moduli di controllo PC integrati, il sistema arriva pronto per un'immediata implementazione in applicazioni CVD e RTA.
- Conformità Globale & Supporto: La certificazione CE garantisce il rispetto degli standard di sicurezza internazionali, supportata dal nostro team tecnico reattivo per personalizzazioni e supporto alla manutenzione a lungo termine.
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