Forno RTP
Forno a tubo scorrevole automatizzato per riscaldamento e raffreddamento rapido, 2 pollici DE, 1100°C max
Numero articolo: TU-RT04
Spedizione: Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.
Panoramica del prodotto


Questo forno a tubo scorrevole automatizzato ad alte prestazioni rappresenta l'apice della tecnologia di trattamento termico rapido per la scienza dei materiali e i laboratori di ricerca e sviluppo industriale. Integrando un meccanismo di scorrimento motorizzato progettato con precisione e un ambiente di lavorazione in quarzo ad alta purezza, il sistema consente un controllo senza precedenti sulle traiettorie di riscaldamento e raffreddamento. Il valore fondamentale risiede nella capacità di spostare istantaneamente i campioni tra zone a temperatura ambiente e zone ad alta temperatura, facilitando processi di tempra e ricottura termica rapida impossibili nelle configurazioni di forni statici. Questa capacità è essenziale per i ricercatori che studiano transizioni di fase, reazioni cinetiche e crescita di film sottili, dove la storia termica deve essere rigorosamente gestita.
Progettato principalmente per le industrie dei semiconduttori, aerospaziale e della ceramica avanzata, l'attrezzatura eccelle in applicazioni come la deposizione chimica da vapore (CVD), la ricottura rapida di wafer e la sintesi di nanomateriali 1D e 2D. L'ingegneria robusta garantisce che il sistema mantenga l'integrità dell'alto vuoto o specifiche composizioni atmosferiche durante il movimento ad alta velocità. Per i team di approvvigionamento industriale, questa unità offre una piattaforma versatile che colma il divario tra la sperimentazione su scala di laboratorio e la profilazione termica su scala pilota, garantendo che le proprietà dei materiali siano ottimizzate attraverso cicli termici controllati e ripetibili.
L'affidabilità è fondamentale per la progettazione di questa unità. Utilizzando una struttura in acciaio a doppio strato rinforzata con raffreddamento ad aria attivo, il sistema rimane sicuro al tatto anche durante il funzionamento prolungato alla sua temperatura massima di 1100°C. L'integrazione di elementi riscaldanti in lega Fe-Cr-Al di alta qualità drogati con molibdeno garantisce stabilità a lungo termine e resistenza alla fatica termica. Che operi sotto alto vuoto o flusso di gas controllato, l'attrezzatura fornisce risultati coerenti e ripetibili, offrendo ai team di R&S la sicurezza necessaria per processi industriali impegnativi e cicli di sviluppo di materiali sensibili.
Caratteristiche principali
- Meccanismo di scorrimento automatizzato di precisione: Il forno utilizza un sistema a binario lineare motorizzato che consente alla zona di riscaldamento di allontanarsi o posizionarsi automaticamente sopra il campione. Ciò consente l'esposizione istantanea all'ambiente preriscaldato del forno o il raffreddamento rapido tramite convezione d'aria ambiente, raggiungendo velocità di riscaldamento e raffreddamento superiori a 100°C/min.
- Gestione avanzata del profilo termico: Dotato di un controller PID programmabile a 30 segmenti, il sistema offre una regolazione meticolosa delle rampe di temperatura, dei tempi di sosta e delle curve di raffreddamento. Il controller gestisce anche la logica di scorrimento, consentendo agli utenti di sincronizzare il movimento del forno con passaggi specifici nella ricetta termica per un funzionamento completamente autonomo.
- Ambiente di lavorazione in quarzo ad alta purezza: Il sistema presenta un tubo in quarzo fuso ad alta purezza con diametro esterno di 2 pollici, fornendo una camera pulita e non reattiva per processi chimici sensibili. Questo ambiente è ideale per prevenire la contaminazione nel drogaggio dei semiconduttori o nella sintesi di nanotubi di carbonio, dove la purezza del materiale è fondamentale.
- Raffreddamento ad aria forzata a doppio guscio: L'eccellenza ingegneristica si riflette nel corpo del forno in acciaio a doppia parete. Le ventole di raffreddamento integrate mantengono un flusso d'aria costante tra i gusci interno ed esterno, garantendo che la temperatura della superficie esterna rimanga inferiore a 70°C per la sicurezza dell'operatore e la longevità dell'attrezzatura.
- Controllo ermetico dell'atmosfera e del vuoto: L'unità include flange in acciaio inossidabile pronte per l'alto vuoto con valvole a spillo integrate e manometri. Ciò consente la lavorazione sotto gas inerte, atmosfere riducenti o alti livelli di vuoto (fino a 10E-5 torr con pompe turbomolecolari opzionali), supportando un'ampia gamma di reazioni chimiche e metallurgiche.
- Maggiore durata dell'elemento riscaldante: Utilizzando elementi in lega Fe-Cr-Al drogati con molibdeno, il forno ottiene una resistenza superiore all'ossidazione e all'abbassamento alle alte temperature. Questa scelta metallurgica garantisce una zona di riscaldamento stabile ed estende la vita utile dell'attrezzatura in ambienti di R&S ad alto ciclo di lavoro.
- Sistemi di sicurezza e allarme integrati: Per supportare il funzionamento senza supervisione, il sistema include una protezione integrata contro il sovrariscaldamento e allarmi acustici. Una termocoppia di tipo K ad alta precisione fornisce un feedback in tempo reale al controller, garantendo che il sistema si spenga in sicurezza se i parametri si discostano dai limiti di sicurezza programmati.
- Configurazioni di alimentazione flessibili: L'attrezzatura è progettata per integrarsi perfettamente in diverse infrastrutture di laboratorio globali, offrendo opzioni di alimentazione configurabili per il funzionamento a 120VAC o 208-240VAC, garantendo la compatibilità senza la necessità di estese modifiche alla struttura.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio principale |
|---|---|---|
| Ricottura semiconduttori | Trattamento termico rapido di wafer di silicio per attivare i droganti o riparare i danni al cristallo. | Previene la diffusione indesiderata dei droganti grazie a velocità di raffreddamento ultra-rapide. |
| Sintesi CVD | Deposizione chimica da vapore per la crescita di grafene, nanotubi di carbonio o dicalcogenuri di metalli di transizione. | L'integrità dell'alto vuoto e il controllo preciso del flusso di gas garantiscono una crescita uniforme del film. |
| Tempra dei materiali | Transizione istantanea di campioni metallurgici da alta temperatura a temperatura ambiente. | Facilita lo studio delle fasi metastabili e l'affinamento della struttura del grano. |
| Ricerca sulle batterie | Calcinazione e trattamento termico di polveri di catodo/anodo sotto atmosfere controllate. | L'uniformità costante della temperatura garantisce la stabilità del materiale tra i lotti. |
| Deposizione di film sottili | Supporto per evaporazione termica o deposizione laser pulsata all'interno di un ambiente in quarzo. | Il tubo in quarzo ad alta purezza previene la contaminazione del campione durante i cicli ad alta temperatura. |
| Sinterizzazione ceramica | Lavorazione ad alta temperatura di componenti ceramici avanzati e materiali compositi. | Lo scorrimento automatizzato consente un raffreddamento controllato per prevenire crepe da shock termico. |
| Test atmosferici | Sottoporre i materiali a specifici ambienti gassosi (Ar, N2, H2) a temperature elevate. | Le doppie valvole a spillo consentono una miscelazione precisa del gas e la regolazione della pressione. |
Specifiche tecniche
| Parametro | Dettaglio specifica per TU-RT04 |
|---|---|
| Identificazione modello | TU-RT04 |
| Struttura | Involucro in acciaio a doppio strato con ventole di raffreddamento; temperatura superficiale < 70°C |
| Sistema di scorrimento | Binario singolo motorizzato per movimento longitudinale automatizzato |
| Temperatura di lavoro max. | 1100°C (Atmosfera ambiente) / 1000°C (Vuoto) |
| Lunghezza zona di riscaldamento | 8" (200 mm) Zona singola |
| Zona a temperatura costante | 2.3" (60 mm) entro ±1°C a 1000°C |
| Elementi riscaldanti | Lega Fe-Cr-Al drogata con Mo |
| Tubo di lavorazione | Quarzo fuso ad alta purezza; 2" DE x 1.81" DI x 39" L (50 x 44 x 1000 mm) |
| Velocità di riscaldamento (Max) | 15°C/sec (RT-150°C) fino a 0.5°C/sec (800-1000°C) |
| Velocità di raffreddamento (Max) | 15°C/sec (1000-950°C) fino a 0.5°C/sec (400-300°C) |
| Stabilità della temperatura | ±1°C |
| Termoregolatore | PID programmabile a 30 segmenti; allarme sovratemperatura; logica di scorrimento |
| Controllo scorrimento | Azionato da motore elettrico; manuale o programmabile tramite controller |
| Livello di vuoto | 10E-2 torr (Pompa meccanica) / 10E-5 torr (Pompa turbomolecolare) |
| Flange | Acciaio inossidabile sigillato sottovuoto con valvole a spillo e manometro |
| Pressione massima | < 3 psig |
| Alimentazione | 120 VAC (20A, 1.2 kVA) O 208-240 VAC (15A, 1.5 kVA) |
| Conformità | Certificazione CE; NRTL/CSA disponibile su richiesta |
| Componenti di sicurezza | Blocchi di radiazione in ceramica espansa interna; termocoppia di tipo K |
Perché scegliere TU-RT04
- Dinamica termica superiore: Il meccanismo di scorrimento automatizzato offre le velocità di riscaldamento e raffreddamento più elevate della sua categoria, consentendo ai ricercatori di spingere i confini della cinetica dei materiali e del trattamento termico.
- Ingegneria di precisione e qualità costruttiva: Costruito con un focus sulla durata industriale, il design a doppio guscio e gli elementi in lega di alta qualità assicurano che questa unità sopravviva ai rigori degli ambienti di R&S ad alto rendimento.
- Integrazione del vuoto chiavi in mano: A differenza dei forni a tubo standard, questo sistema viene fornito completamente equipaggiato con flange ermetiche e strumenti di monitoraggio del vuoto, consentendo un'implementazione immediata in applicazioni sensibili al vuoto.
- Funzionalità di automazione avanzate: La sincronizzazione dei profili di temperatura con il movimento fisico del forno riduce l'errore umano e garantisce che ogni campione sia trattato con assoluta ripetibilità.
- Personalizzabile e scalabile: Dall'integrazione LabVIEW per la registrazione remota dei dati agli aggiornamenti delle flange specializzate per porte KF-25, il sistema può essere adattato per soddisfare i requisiti specifici di flussi di lavoro industriali sofisticati.
Questo sistema è l'investimento ideale per i laboratori che cercano di passare da processi di riscaldamento manuali a cicli termici automatizzati ad alta precisione. Contatta oggi stesso il nostro team di vendita tecnica per un preventivo formale o per discutere una configurazione personalizzata per le tue specifiche esigenze di scienza dei materiali.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Prodotti correlati
Forno a Tubo ad Alta Temperatura 1500°C con Flange Scorrevoli e OD 50mm per Processi Termici Rapidi, Riscaldamento e Raffreddamento Veloce
Ottieni processi termici rapidi con questo forno a tubo da 1500°C max dotato di flange scorrevoli manuali per riscaldamento e raffreddamento accelerati. Progettato per la ricerca in scienza dei materiali, questo sistema ad alta precisione offre prestazioni sottovuoto eccezionali e monitoraggio a doppio controllore per applicazioni di laboratorio impegnative.
Forno a tubo scorrevole da 5 pollici ad alta temperatura 1200°C per Rapid Thermal Processing (RTP) e ricottura di wafer
Accelera la tua ricerca sui materiali con questo forno a tubo scorrevole da 1200°C progettato per il Rapid Thermal Processing. Dotato di un tubo al quarzo da 5 pollici e doppi controller PID, offre velocità di riscaldamento e raffreddamento precise per applicazioni avanzate nel settore dei semiconduttori.
Forno a tubo scorrevole da 1200°C con tubo in quarzo da 80mm OD e flange per vuoto per Rapid Thermal Processing (RTP) e riscaldamento/raffreddamento rapido
Ottieni un trattamento termico rapido con questo forno a tubo scorrevole da 1200°C max. Dotato di un tubo in quarzo da 80mm OD e un meccanismo di scorrimento manuale, offre velocità di riscaldamento e raffreddamento eccezionali fino a 100°C al minuto per la ricerca avanzata sui materiali e la R&S industriale.
Forno verticale scorrevole ad alta temperatura 1200°C con lavorazione termica rapida e capacità ibride a tubo sottovuoto
Massimizza l'efficienza della ricerca con questo forno verticale scorrevole 1200°C dotato di capacità di lavorazione termica rapida. Questo sistema ibrido offre funzionalità doppie a camera e a tubo sottovuoto, garantendo un controllo preciso della temperatura e riscaldamento/raffreddamento ultraveloce per applicazioni avanzate di scienza dei materiali.
Forno a tubo da 4 pollici ad alta temperatura a 1200°C con flangia scorrevole per sistemi CVD
Questo forno a tubo da 4 pollici ad alta temperatura a 1200°C è dotato di flange scorrevoli per un rapido caricamento dei campioni e compatibilità con l'alto vuoto. È progettato per processi CVD di precisione e ricerca su materiali avanzati, offrendo prestazioni eccezionalmente affidabili in ambienti di laboratorio esigenti.
Forno a tubo scorrevole da 1200°C per elaborazione termica rapida e crescita di grafene CVD con capacità di 100 mm di diametro esterno
Accelera la tua ricerca con questo forno a tubo scorrevole da 1200°C progettato per l'elaborazione termica rapida e le applicazioni CVD. Dotato di controllo PLC ad alta precisione e binario scorrevole motorizzato per cicli di riscaldamento e raffreddamento ultra-rapidi in laboratori di scienza dei materiali avanzata e R&S industriale.
Forno a tubo diviso ad alta temperatura 1500°C per ricerca sui materiali, trattamento termico sottovuoto e in atmosfera
Questo forno a tubo diviso ad alta temperatura da 1500°C offre un trattamento termico di precisione per la ricerca avanzata sui materiali e le applicazioni di sinterizzazione industriale, caratterizzato da una struttura a doppio guscio, controllo PID integrato e flange in acciaio inossidabile predisposte per il vuoto per prestazioni affidabili nei laboratori più esigenti.
Forno a Tubo 1200°C con Scorrimento Campione Magnetico Interno per Deposizione per Vaporizzazione Diretta e Processo Termico Rapido
Questo forno a tubo professionale da 1200°C è dotato di un meccanismo manuale di scorrimento magnetico del campione, progettato specificamente per la deposizione per vaporizzazione diretta e il processo termico rapido. Garantisce un controllo termico preciso e una crescita del materiale uniforme per applicazioni di ricerca impegnative e per la scienza dei materiali industriale.
Forno Tubolare Automatizzato 1200 C per Ricerca su Materiali AI con OD da 6 Pollici e Flangia Scorrevole
Accelera la scoperta di materiali con questo forno tubolare automatizzato premium progettato per la ricerca guidata dall'IA. Dotato di un diametro di 6 pollici e riscaldamento a doppia zona, questo sistema consente l'integrazione robotica e la sintesi continua 24/7 per applicazioni industriali e di R&D di laboratorio ad alto rendimento.
Forno a tubo ad alta temperatura 1700°C con sistema di pompa turbomolecolare ad alto vuoto e miscelatore di gas con controller di flusso di massa multicanale
Questo avanzato forno a tubo ad alta temperatura da 1700°C integra un sistema di pompa ad alto vuoto turbomolecolare di precisione e un miscelatore di gas con controller di flusso di massa multicanale, offrendo prestazioni eccezionali per sofisticati processi di CVD, diffusione e ricerca sui materiali in ambienti di R&S industriali esigenti.
Forno a tubo scorrevole per trattamento termico rapido (RTP) con tubo in quarzo da 4 pollici OD e riscaldamento IR a 900°C
Ottimizza la sintesi dei materiali con questo forno a tubo RTP scorrevole con temperatura massima di 900°C. Progettato per un rapido riscaldamento IR a 50°C/s e raffreddamento automatizzato, offre un controllo preciso per applicazioni di ricerca su grafene, nanotubi di carbonio e celle solari a perovskite.
Forno tubolare automatizzato ad alta temperatura da 5 pollici per ricerca autonoma sui materiali e R&D avanzata in laboratorio
Accelera la sintesi dei materiali con questo forno tubolare automatizzato da 1200 °C, dotato di controllo del vuoto di precisione, lavorazione in quarzo ad alta purezza e integrazione pronta per il remoto per la ricerca AI ad alto throughput e le applicazioni di laboratorio autonomo in settori industriali esigenti della scienza dei materiali e nei flussi di lavoro avanzati di sviluppo R&D.
Forno a tubo a tre zone da 1200°C, diametro esterno massimo 6 pollici, con tubo e flangia
Ottimizza il trattamento termico con questo forno a tubo a tre zone da 1200°C, dotato di una capacità di 6 pollici di diametro esterno e controllo avanzato tramite touch screen. Questo sistema ad alta precisione garantisce una distribuzione uniforme della temperatura per la ricerca avanzata sui materiali, la ricottura dei semiconduttori e le applicazioni di trattamento termico industriale.
Forno a tubo diviso verticale ad alta temperatura 1700°C per tempra di materiali e crescita di monocristalli
Questo avanzato forno a tubo diviso verticale da 1700°C offre un trattamento termico di precisione per la tempra dei materiali e la crescita di monocristalli. Progettato per l'eccellenza nella ricerca e sviluppo, il sistema è dotato di compatibilità con il vuoto e controllo PID per risultati affidabili e ripetibili in ambienti di laboratorio di ricerca industriale esigenti.
Forno a Tubo RTP Scorrevole da 900 ºC Max con Riscaldamento IR Rapido e Tubo in Quarzo da 4 Pollici OD
Massimizza l'efficienza della R&S con questo forno a tubo RTP scorrevole da 900°C, dotato di riscaldamento IR rapido, velocità di rampa fino a 50°C/s e raffreddamento automatizzato per la crescita di grafene, sintesi di CNT e ricottura avanzata di wafer semiconduttori in condizioni di vuoto o atmosferiche.
Forno a tubo compatto ad alta temperatura 1600°C con tubo in allumina da 50 mm e flange per vuoto per la sinterizzazione dei materiali
Migliora le capacità del tuo laboratorio con questo forno a tubo compatto ad alta temperatura da 1600°C, dotato di un tubo in allumina da 50 mm e flange per vuoto. Ideale per la sinterizzazione dei materiali e la ricerca chimica, offre un trattamento termico di precisione e un'eccezionale affidabilità per le applicazioni di R&S industriale.
Forno a tubo da 1100°C con flangia per vuoto e termoregolatore programmabile per la scienza dei materiali e il trattamento termico industriale
Ottimizza il tuo processo termico di laboratorio con questo versatile forno a tubo da 1100°C, dotato di controller PID programmabile e flange per alto vuoto. Progettato per la sintesi precisa dei materiali e la ricerca e sviluppo industriale, offre flessibilità di orientamento doppio e un'uniformità di temperatura costante per le applicazioni più esigenti.
Forno tubolare da banco ad alta temperatura 1700C con zona di riscaldamento da 5 pollici, tubo in allumina ad alta purezza e flange di tenuta sotto vuoto
Questo forno tubolare ad alta temperatura da 1700C dispone di una zona di riscaldamento di cinque pollici e di un tubo in allumina per la ricerca avanzata sui materiali. Ottieni un controllo preciso dell’atmosfera e livelli di vuoto fino a 50 mTorr per sinterizzazione, ricottura e deposizione chimica da vapore.
Forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C con flange da 50 mm per CVD
Questo forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C è dotato di flange per tubi in quarzo da 50 mm progettate specificamente per processi CVD ad alta precisione. Accelera la ricerca e lo sviluppo industriale grazie al riscaldamento e raffreddamento rapidi tramite scorrimento, garantendo una sintesi dei materiali superiore, risultati costanti e prestazioni eccellenti nella deposizione di film sottili.
Forno a Tubo Oscillante ad Alta Temperatura 1700°C con Tubo di Processo in Allumina e Oscillazione di Precisione per la Sintesi dei Materiali
Questo avanzato forno a tubo oscillante da 1700°C è dotato di un tubo in allumina da 60 mm di diametro esterno e di un'oscillazione di +/- 45 gradi. Migliora l'uniformità del materiale grazie al controllo PID programmabile, all'isolamento ad alta purezza e ai robusti elementi riscaldanti in MoSi2 per applicazioni industriali e di laboratorio impegnative nel trattamento termico.