Forno RTP
Forno a tubo scorrevole da 1200°C con tubo in quarzo da 80mm OD e flange per vuoto per Rapid Thermal Processing (RTP) e riscaldamento/raffreddamento rapido
Numero articolo: TU-KT08
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Panoramica del prodotto
Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni è progettato per laboratori e strutture industriali che richiedono cicli di riscaldamento e raffreddamento rapidi. Integrando uno speciale meccanismo di scorrimento con una camera di riscaldamento a controllo di precisione, questa attrezzatura consente ai ricercatori di ottenere gradienti termici e velocità di tempra impossibili con i forni stazionari. Il valore fondamentale risiede nella capacità di facilitare il Rapid Thermal Processing (RTP) a una frazione del costo dei sistemi RTP dedicati tradizionali, rendendolo uno strumento essenziale per l'innovazione nella scienza dei materiali e i test ad alto rendimento sui campioni.
Il sistema è progettato principalmente per la ricerca avanzata sui materiali, la lavorazione dei semiconduttori e gli studi di trasformazione di fase. La sua capacità di spostare manualmente la zona di riscaldamento lungo un tubo di processo fisso consente il preriscaldamento del forno indipendentemente dalla posizione del campione, permettendo un'esposizione istantanea alle alte temperature. Questa unità è frequentemente utilizzata nella ricottura di wafer semiconduttori, nella deposizione di film sottili e nella sintesi di nanomateriali a bassa dimensionalità, dove il controllo preciso dello storico termico è fondamentale per ottenere le proprietà desiderate del materiale.
Costruita per i rigori degli ambienti di R&S più esigenti, l'attrezzatura presenta una robusta struttura in acciaio a doppio strato e doppie ventole di raffreddamento integrate. Questo approccio ingegneristico garantisce che l'esterno rimanga sicuro al tatto mentre i componenti interni operano alla massima efficienza. L'affidabilità è ulteriormente rafforzata da componenti in quarzo ad alta purezza e resistenze riscaldanti in lega drogata con molibdeno (Mo), che forniscono un ambiente termico costante anche durante operazioni di scorrimento ripetitive ad alta velocità. Questo sistema rappresenta un investimento durevole per le istituzioni focalizzate sull'elaborazione termica all'avanguardia e sull'analisi metallurgica.
Caratteristiche principali
- Meccanismo di scorrimento ad alta velocità: L'attrezzatura è montata su una coppia di guide di scorrimento in acciaio cromato progettate con precisione, che consentono una distanza di corsa totale di 600 mm. Questa capacità di scorrimento manuale consente all'operatore di spostare il forno preriscaldato sopra il campione o lontano da esso, raggiungendo velocità di riscaldamento e raffreddamento fino a 100°C/min o addirittura 15°C/sec in specifiche condizioni atmosferiche.
- Controllo termico PID avanzato: Il sistema utilizza un sofisticato controller automatico PID dotato di 30 segmenti programmabili. Con una precisione di controllo di ±1°C, questa unità garantisce profili termici ripetibili. Include allarmi di sovratemperatura integrati e protocolli di protezione automatizzati, consentendo il funzionamento incustodito durante cicli di lunga durata.
- Monitoraggio a doppia termocoppia: Per garantire i massimi livelli di integrità dei dati, il sistema include due termocoppie di tipo K. Una è dedicata al controllo del forno, mentre la seconda viene inserita direttamente nel tubo per monitorare il profilo di temperatura in tempo reale del campione. Questa configurazione è essenziale per documentare l'esatta esposizione termica durante le manovre di scorrimento rapido.
- Tubo di processo in quarzo premium: Il forno utilizza un tubo in quarzo fuso ad alta purezza con un diametro esterno di 80mm e una lunghezza di 1400mm. Questo materiale offre un'eccellente resistenza agli shock termici e purezza chimica, rendendolo ideale per processi che coinvolgono materiali sensibili o ambienti gassosi specializzati.
- Controllo superiore del vuoto e dell'atmosfera: Dotato di flange per vuoto in acciaio inossidabile e un vacuometro digitale, questo sistema è pronto per l'uso immediato con vuoto o gas inerte. Le flange sono supportate da supporti per carichi pesanti per garantire stabilità durante il processo di scorrimento, e la valvola a spillo integrata consente una gestione precisa dell'atmosfera.
- Chimica delle resistenze riscaldanti migliorata: Le resistenze riscaldanti sono costruite in lega Fe-Cr-Al drogata con molibdeno (Mo). Questo drogaggio avanzato migliora l'integrità strutturale degli elementi alle alte temperature, prevenendo l'abbassamento e garantendo una lunga durata anche se sottoposti a frequenti cicli di riscaldamento rapido.
- Registrazione dati e connettività PC: Ogni unità viene fornita con un termometro certificato NIST e un modulo di controllo PC. L'interfaccia RS485 e il software Windows incluso consentono ai ricercatori di registrare, analizzare ed esportare i profili di temperatura, garantendo la piena tracciabilità per i dati sperimentali sensibili.
- Costruzione di sicurezza a doppio strato: Il corpo del forno presenta una struttura in acciaio a doppio guscio con doppie ventole di raffreddamento ad aria integrate. Questo design facilita una dissipazione del calore più rapida dall'elettronica e garantisce che la superficie esterna rimanga a una temperatura sicura per gli operatori, anche durante il funzionamento continuo a 1100°C.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio principale |
|---|---|---|
| Rapid Thermal Processing (RTP) | Utilizzo del meccanismo di scorrimento per spostare il forno sopra un campione a una temperatura preimpostata. | Riduce al minimo il budget termico e previene la diffusione indesiderata nei campioni semiconduttori. |
| Studi di trasformazione di fase | Raffreddamento rapido dei campioni dalle alte temperature alla temperatura ambiente spostando la zona di riscaldamento. | Cattura fasi metastabili e consente lo studio della cinetica di tempra in metallurgia. |
| Deposizione chimica da vapore (CVD) | Controllo preciso delle zone termiche e del flusso di gas per la crescita di film sottili o nanostrutture. | Il quarzo ad alta purezza e la tenuta sottovuoto garantiscono ambienti di crescita di alta qualità e non contaminati. |
| Ricottura semiconduttori | Cicli termici ad alta velocità di wafer di silicio o semiconduttori composti per attivare i droganti. | Aumenta il rendimento e garantisce una distribuzione termica uniforme attraverso la zona a temperatura costante. |
| Test dei catalizzatori | Esposizione di materiali catalizzatori a rapidi shock termici e ambienti gassosi vari. | Consente test ad alto stress sulla durata e sulle prestazioni del materiale in condizioni estreme. |
| Sintesi di nanotubi di carbonio | Crescita di CNT utilizzando un flusso di gas controllato e rapidi picchi di temperatura. | Il diametro del tubo di 80mm supporta substrati multipli o la lavorazione di polveri sfuse in un'unica corsa. |
| Cristallizzazione di film sottili | Riscaldamento rapido di film amorfi per indurre la cristallizzazione senza degradazione del substrato. | Raggiunge velocità di riscaldamento elevate (15°C/sec) che proteggono i materiali del substrato delicati. |
Specifiche tecniche
| Categoria specifica | Dettagli parametri (Modello: TU-KT08) |
|---|---|
| Numero modello | TU-KT08 |
| Struttura del forno | Acciaio a doppio strato con doppie ventole di raffreddamento; spostabile manualmente su guide di scorrimento da 1200mm |
| Distanza di scorrimento | Corsa effettiva di 600 mm |
| Temperatura massima | 1200°C (< 1 ora) |
| Temperatura continua | 1100°C |
| Lunghezza zona riscaldamento | 440 mm (Zona singola) |
| Zona temperatura costante | 150 mm (±3°C @ 1000°C) |
| Potenza / Tensione | 2.5 KW; AC 208-240V monofase, 50/60 Hz |
| Elementi riscaldanti | Lega Fe-Cr-Al drogata con Mo |
| Tubo di processo | Quarzo fuso ad alta purezza; D.E.: 80 mm; D.I.: 75 mm; Lunghezza: 1400 mm |
| Controller temperatura | Controllo automatico PID, 30 segmenti programmabili, precisione ±1°C |
| Termocoppie | Doppia tipo K (una per il controllo del forno, una per il monitoraggio del campione) |
| Interfaccia dati | Interfaccia RS485 con software Windows e termometro certificato NIST |
| Flange per vuoto | Acciaio inossidabile con supporto per carichi pesanti; include valvola a spillo e vacuometro digitale |
| Velocità riscaldamento max | 15°C/sec (RT-150°C); 10°C/sec (150-250°C); 7°C/sec (250-350°C); 4°C/sec (350-500°C) |
| Velocità raffreddamento max | 15°C/sec (1000-950°C); 10°C/sec (950-900°C); 7°C/sec (900-850°C); 4°C/sec (850-750°C) |
| Livello di vuoto | 10E-4 torr (pompa molecolare); 10E-2 torr (pompa meccanica) |
| Sicurezza atmosfera | < 0.2 bar / 3 psi / 0.02 MPa (consigliato flusso gas < 200 SCCM) |
Perché scegliere questo forno
- Agilità termica senza pari: Questo sistema offre ai ricercatori la flessibilità di eseguire sia trattamenti termici standard di lunga durata che trattamenti termici rapidi ultra-veloci, grazie al suo meccanismo di scorrimento manuale di precisione e agli elementi riscaldanti ad alta potenza.
- Capacità di documentazione completa: A differenza dei forni da laboratorio standard, questa unità include il monitoraggio a doppia termocoppia e la registrazione dei dati certificata NIST, garantendo che ogni ciclo termico sia documentato per la pubblicazione o per i requisiti di controllo qualità industriale.
- Ingegneria robusta e sicurezza: Dal guscio in acciaio a doppio strato che mantiene basse le temperature superficiali ai supporti delle flange per carichi pesanti che proteggono il tubo di quarzo durante lo scorrimento, ogni componente è progettato per una durata di livello industriale e la sicurezza dell'operatore.
- Soluzione integrata pronta per il vuoto: L'inclusione di flange in acciaio inossidabile di alta qualità, un vacuometro digitale e tutti i raccordi necessari significa che l'attrezzatura è pronta per esperimenti ad alto vuoto e gas inerte immediatamente dopo l'installazione.
- Design versatile e scalabile: Con un tubo da 80mm OD, il sistema accoglie un'ampia varietà di dimensioni di campioni e configurazioni di barchette, rendendolo adatto a diversi percorsi di ricerca che spaziano dalla metallurgia ai film sottili per semiconduttori.
Il nostro team di ingegneri è pronto ad assisterti nella selezione della configurazione termica ideale per le tue specifiche esigenze di ricerca sui materiali. Contattaci oggi per una consulenza tecnica o un preventivo formale su questo sistema di forno scorrevole ad alte prestazioni.
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