Forno RTP
Forno a tubo scorrevole da 1200°C con tubo in quarzo da 80mm OD e flange per vuoto per Rapid Thermal Processing (RTP) e riscaldamento/raffreddamento rapido
Numero articolo: TU-KT08
Spedizione: Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.
Panoramica del prodotto
Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni è progettato per laboratori e strutture industriali che richiedono cicli di riscaldamento e raffreddamento rapidi. Integrando uno speciale meccanismo di scorrimento con una camera di riscaldamento a controllo di precisione, questa attrezzatura consente ai ricercatori di ottenere gradienti termici e velocità di tempra impossibili con i forni stazionari. Il valore fondamentale risiede nella capacità di facilitare il Rapid Thermal Processing (RTP) a una frazione del costo dei sistemi RTP dedicati tradizionali, rendendolo uno strumento essenziale per l'innovazione nella scienza dei materiali e i test ad alto rendimento sui campioni.
Il sistema è progettato principalmente per la ricerca avanzata sui materiali, la lavorazione dei semiconduttori e gli studi di trasformazione di fase. La sua capacità di spostare manualmente la zona di riscaldamento lungo un tubo di processo fisso consente il preriscaldamento del forno indipendentemente dalla posizione del campione, permettendo un'esposizione istantanea alle alte temperature. Questa unità è frequentemente utilizzata nella ricottura di wafer semiconduttori, nella deposizione di film sottili e nella sintesi di nanomateriali a bassa dimensionalità, dove il controllo preciso dello storico termico è fondamentale per ottenere le proprietà desiderate del materiale.
Costruita per i rigori degli ambienti di R&S più esigenti, l'attrezzatura presenta una robusta struttura in acciaio a doppio strato e doppie ventole di raffreddamento integrate. Questo approccio ingegneristico garantisce che l'esterno rimanga sicuro al tatto mentre i componenti interni operano alla massima efficienza. L'affidabilità è ulteriormente rafforzata da componenti in quarzo ad alta purezza e resistenze riscaldanti in lega drogata con molibdeno (Mo), che forniscono un ambiente termico costante anche durante operazioni di scorrimento ripetitive ad alta velocità. Questo sistema rappresenta un investimento durevole per le istituzioni focalizzate sull'elaborazione termica all'avanguardia e sull'analisi metallurgica.
Caratteristiche principali
- Meccanismo di scorrimento ad alta velocità: L'attrezzatura è montata su una coppia di guide di scorrimento in acciaio cromato progettate con precisione, che consentono una distanza di corsa totale di 600 mm. Questa capacità di scorrimento manuale consente all'operatore di spostare il forno preriscaldato sopra il campione o lontano da esso, raggiungendo velocità di riscaldamento e raffreddamento fino a 100°C/min o addirittura 15°C/sec in specifiche condizioni atmosferiche.
- Controllo termico PID avanzato: Il sistema utilizza un sofisticato controller automatico PID dotato di 30 segmenti programmabili. Con una precisione di controllo di ±1°C, questa unità garantisce profili termici ripetibili. Include allarmi di sovratemperatura integrati e protocolli di protezione automatizzati, consentendo il funzionamento incustodito durante cicli di lunga durata.
- Monitoraggio a doppia termocoppia: Per garantire i massimi livelli di integrità dei dati, il sistema include due termocoppie di tipo K. Una è dedicata al controllo del forno, mentre la seconda viene inserita direttamente nel tubo per monitorare il profilo di temperatura in tempo reale del campione. Questa configurazione è essenziale per documentare l'esatta esposizione termica durante le manovre di scorrimento rapido.
- Tubo di processo in quarzo premium: Il forno utilizza un tubo in quarzo fuso ad alta purezza con un diametro esterno di 80mm e una lunghezza di 1400mm. Questo materiale offre un'eccellente resistenza agli shock termici e purezza chimica, rendendolo ideale per processi che coinvolgono materiali sensibili o ambienti gassosi specializzati.
- Controllo superiore del vuoto e dell'atmosfera: Dotato di flange per vuoto in acciaio inossidabile e un vacuometro digitale, questo sistema è pronto per l'uso immediato con vuoto o gas inerte. Le flange sono supportate da supporti per carichi pesanti per garantire stabilità durante il processo di scorrimento, e la valvola a spillo integrata consente una gestione precisa dell'atmosfera.
- Chimica delle resistenze riscaldanti migliorata: Le resistenze riscaldanti sono costruite in lega Fe-Cr-Al drogata con molibdeno (Mo). Questo drogaggio avanzato migliora l'integrità strutturale degli elementi alle alte temperature, prevenendo l'abbassamento e garantendo una lunga durata anche se sottoposti a frequenti cicli di riscaldamento rapido.
- Registrazione dati e connettività PC: Ogni unità viene fornita con un termometro certificato NIST e un modulo di controllo PC. L'interfaccia RS485 e il software Windows incluso consentono ai ricercatori di registrare, analizzare ed esportare i profili di temperatura, garantendo la piena tracciabilità per i dati sperimentali sensibili.
- Costruzione di sicurezza a doppio strato: Il corpo del forno presenta una struttura in acciaio a doppio guscio con doppie ventole di raffreddamento ad aria integrate. Questo design facilita una dissipazione del calore più rapida dall'elettronica e garantisce che la superficie esterna rimanga a una temperatura sicura per gli operatori, anche durante il funzionamento continuo a 1100°C.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio principale |
|---|---|---|
| Rapid Thermal Processing (RTP) | Utilizzo del meccanismo di scorrimento per spostare il forno sopra un campione a una temperatura preimpostata. | Riduce al minimo il budget termico e previene la diffusione indesiderata nei campioni semiconduttori. |
| Studi di trasformazione di fase | Raffreddamento rapido dei campioni dalle alte temperature alla temperatura ambiente spostando la zona di riscaldamento. | Cattura fasi metastabili e consente lo studio della cinetica di tempra in metallurgia. |
| Deposizione chimica da vapore (CVD) | Controllo preciso delle zone termiche e del flusso di gas per la crescita di film sottili o nanostrutture. | Il quarzo ad alta purezza e la tenuta sottovuoto garantiscono ambienti di crescita di alta qualità e non contaminati. |
| Ricottura semiconduttori | Cicli termici ad alta velocità di wafer di silicio o semiconduttori composti per attivare i droganti. | Aumenta il rendimento e garantisce una distribuzione termica uniforme attraverso la zona a temperatura costante. |
| Test dei catalizzatori | Esposizione di materiali catalizzatori a rapidi shock termici e ambienti gassosi vari. | Consente test ad alto stress sulla durata e sulle prestazioni del materiale in condizioni estreme. |
| Sintesi di nanotubi di carbonio | Crescita di CNT utilizzando un flusso di gas controllato e rapidi picchi di temperatura. | Il diametro del tubo di 80mm supporta substrati multipli o la lavorazione di polveri sfuse in un'unica corsa. |
| Cristallizzazione di film sottili | Riscaldamento rapido di film amorfi per indurre la cristallizzazione senza degradazione del substrato. | Raggiunge velocità di riscaldamento elevate (15°C/sec) che proteggono i materiali del substrato delicati. |
Specifiche tecniche
| Categoria specifica | Dettagli parametri (Modello: TU-KT08) |
|---|---|
| Numero modello | TU-KT08 |
| Struttura del forno | Acciaio a doppio strato con doppie ventole di raffreddamento; spostabile manualmente su guide di scorrimento da 1200mm |
| Distanza di scorrimento | Corsa effettiva di 600 mm |
| Temperatura massima | 1200°C (< 1 ora) |
| Temperatura continua | 1100°C |
| Lunghezza zona riscaldamento | 440 mm (Zona singola) |
| Zona temperatura costante | 150 mm (±3°C @ 1000°C) |
| Potenza / Tensione | 2.5 KW; AC 208-240V monofase, 50/60 Hz |
| Elementi riscaldanti | Lega Fe-Cr-Al drogata con Mo |
| Tubo di processo | Quarzo fuso ad alta purezza; D.E.: 80 mm; D.I.: 75 mm; Lunghezza: 1400 mm |
| Controller temperatura | Controllo automatico PID, 30 segmenti programmabili, precisione ±1°C |
| Termocoppie | Doppia tipo K (una per il controllo del forno, una per il monitoraggio del campione) |
| Interfaccia dati | Interfaccia RS485 con software Windows e termometro certificato NIST |
| Flange per vuoto | Acciaio inossidabile con supporto per carichi pesanti; include valvola a spillo e vacuometro digitale |
| Velocità riscaldamento max | 15°C/sec (RT-150°C); 10°C/sec (150-250°C); 7°C/sec (250-350°C); 4°C/sec (350-500°C) |
| Velocità raffreddamento max | 15°C/sec (1000-950°C); 10°C/sec (950-900°C); 7°C/sec (900-850°C); 4°C/sec (850-750°C) |
| Livello di vuoto | 10E-4 torr (pompa molecolare); 10E-2 torr (pompa meccanica) |
| Sicurezza atmosfera | < 0.2 bar / 3 psi / 0.02 MPa (consigliato flusso gas < 200 SCCM) |
Perché scegliere questo forno
- Agilità termica senza pari: Questo sistema offre ai ricercatori la flessibilità di eseguire sia trattamenti termici standard di lunga durata che trattamenti termici rapidi ultra-veloci, grazie al suo meccanismo di scorrimento manuale di precisione e agli elementi riscaldanti ad alta potenza.
- Capacità di documentazione completa: A differenza dei forni da laboratorio standard, questa unità include il monitoraggio a doppia termocoppia e la registrazione dei dati certificata NIST, garantendo che ogni ciclo termico sia documentato per la pubblicazione o per i requisiti di controllo qualità industriale.
- Ingegneria robusta e sicurezza: Dal guscio in acciaio a doppio strato che mantiene basse le temperature superficiali ai supporti delle flange per carichi pesanti che proteggono il tubo di quarzo durante lo scorrimento, ogni componente è progettato per una durata di livello industriale e la sicurezza dell'operatore.
- Soluzione integrata pronta per il vuoto: L'inclusione di flange in acciaio inossidabile di alta qualità, un vacuometro digitale e tutti i raccordi necessari significa che l'attrezzatura è pronta per esperimenti ad alto vuoto e gas inerte immediatamente dopo l'installazione.
- Design versatile e scalabile: Con un tubo da 80mm OD, il sistema accoglie un'ampia varietà di dimensioni di campioni e configurazioni di barchette, rendendolo adatto a diversi percorsi di ricerca che spaziano dalla metallurgia ai film sottili per semiconduttori.
Il nostro team di ingegneri è pronto ad assisterti nella selezione della configurazione termica ideale per le tue specifiche esigenze di ricerca sui materiali. Contattaci oggi per una consulenza tecnica o un preventivo formale su questo sistema di forno scorrevole ad alte prestazioni.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Prodotti correlati
Forno a tubo diviso a sette zone ad alta temperatura con funzionamento massimo a 1200°C e tubo in quarzo di grande diametro
Questo forno a tubo diviso a sette zone ad alte prestazioni presenta una lunghezza di riscaldamento estesa di 82,6 pollici e un tubo in quarzo da 8 pollici. Progettato per la ricerca precisa sui materiali, offre un'eccezionale uniformità di temperatura e un controllo atmosferico avanzato per la ricerca e sviluppo industriale e le applicazioni di produzione più esigenti.
Forno a Tubo 1200°C con Scorrimento Campione Magnetico Interno per Deposizione per Vaporizzazione Diretta e Processo Termico Rapido
Questo forno a tubo professionale da 1200°C è dotato di un meccanismo manuale di scorrimento magnetico del campione, progettato specificamente per la deposizione per vaporizzazione diretta e il processo termico rapido. Garantisce un controllo termico preciso e una crescita del materiale uniforme per applicazioni di ricerca impegnative e per la scienza dei materiali industriale.
Forno a tubo verticale diviso con tubo di quarzo 1200°C e flange per vuoto in acciaio inox per processamento termico rapido
Massimizza l'efficienza della ricerca con questo forno a tubo verticale diviso a 1200°C, dotato di tubo di quarzo da 5 pollici e controllo PID di precisione per tempra rapida, processamento sotto vuoto e sintesi avanzata di materiali in ambienti di laboratorio industriali ad alta richiesta.
Forno a tubo scorrevole da 5 pollici ad alta temperatura 1200°C per Rapid Thermal Processing (RTP) e ricottura di wafer
Accelera la tua ricerca sui materiali con questo forno a tubo scorrevole da 1200°C progettato per il Rapid Thermal Processing. Dotato di un tubo al quarzo da 5 pollici e doppi controller PID, offre velocità di riscaldamento e raffreddamento precise per applicazioni avanzate nel settore dei semiconduttori.
Forno verticale scorrevole ad alta temperatura 1200°C con lavorazione termica rapida e capacità ibride a tubo sottovuoto
Massimizza l'efficienza della ricerca con questo forno verticale scorrevole 1200°C dotato di capacità di lavorazione termica rapida. Questo sistema ibrido offre funzionalità doppie a camera e a tubo sottovuoto, garantendo un controllo preciso della temperatura e riscaldamento/raffreddamento ultraveloce per applicazioni avanzate di scienza dei materiali.
Forno a Tubo a Crogiolo Interno Scorrevole 1200°C per la Deposizione di Film Sottili in Atmosfera Controllata e la Ricerca sulla Sublimazione dei Materiali
Questo forno a tubo scorrevole da 1200°C è dotato di un meccanismo automatico a crogiolo interno per il posizionamento preciso del campione in atmosfere controllate. Ideale per applicazioni PVD e DVD, garantisce una superiore coerenza nella crescita del film e un'efficienza termica per i laboratori di ricerca sui materiali avanzati.
Forno a tubo scorrevole a doppia zona di temperatura da 1200°C per la crescita di materiali 2D e sintesi TCVD
Ottimizza la sintesi avanzata di materiali 2D utilizzando questo sistema a doppio forno da 1200°C, dotato di zona di riscaldamento scorrevole per un raffreddamento ultra-rapido, controllo indipendente della temperatura PID e lavorazione in quarzo ad alta purezza, progettato per la deposizione chimica da vapore termica di precisione e R&S.
Forno a tubo verticale diviso da 1100°C con tubo in quarzo da 80mm e flange sottovuoto in acciaio inossidabile
Questo forno a tubo verticale diviso ad alte prestazioni da 1100°C è dotato di un tubo in quarzo da 80mm, flange sottovuoto in acciaio inossidabile e controllo PID preciso a 30 segmenti. Progettato per la ricerca e sviluppo sui materiali, il quenching rapido e il trattamento termico in atmosfera controllata in laboratori industriali professionali.
Forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C con doppi tubi e flange per processi PECVD
Accelera la ricerca sui materiali con questo forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C progettato per processi PECVD di precisione. Dotato di un generatore di plasma RF ad alta potenza e capacità di elaborazione termica rapida, offre un'eccezionale uniformità del film e risultati costanti per applicazioni avanzate di R&S industriale.
Forno a Tubo Scorrevole Automatico a Doppia Zona da 1200°C per la Crescita di Dicalcogenuri di Metalli di Transizione 2D e Ricerca sulla Sublimazione dei Materiali
Padroneggia la sintesi di materiali 2D con questo sistema a doppio forno scorrevole automatico da 1200°C progettato per la crescita di TMD. Caratterizzato da zone di sublimazione e deposizione indipendenti per un controllo termico preciso e velocità di raffreddamento rapide per garantire risultati di ricerca di produzione di cristalli a film sottile di alta qualità.
Forno a tubo al quarzo verticale da 1200°C da 5 pollici con flange sottovuoto in acciaio inossidabile
Forno a tubo verticale in quarzo ad alte prestazioni da 1200°C, dotato di una camera da 5 pollici di diametro e flange sottovuoto in acciaio inossidabile. Il controllo PID a 30 segmenti di precisione garantisce un trattamento termico accurato per la ricerca e sviluppo nella scienza dei materiali, CVD e applicazioni di tempra specializzate in atmosfere controllate.
Forno a muffola a riscaldamento su cinque lati 1200C con porta scorrevole, volume 125L, sistema di trattamento termico ad alta temperatura per sinterizzazione e ricottura su larga scala
Ottimizza la lavorazione di materiali ad alto volume con questo forno a muffola 125L a 1200°C, dotato di riscaldamento su 5 lati e porta scorrevole per raffreddamento rapido. Progettato per garantire una uniformità della temperatura superiore e affidabilità industriale, questo sistema avanzato assicura sinterizzazione e ricottura di precisione per laboratori di ricerca e sviluppo impegnativi.
Forno a tubo da 4 pollici ad alta temperatura a 1200°C con flangia scorrevole per sistemi CVD
Questo forno a tubo da 4 pollici ad alta temperatura a 1200°C è dotato di flange scorrevoli per un rapido caricamento dei campioni e compatibilità con l'alto vuoto. È progettato per processi CVD di precisione e ricerca su materiali avanzati, offrendo prestazioni eccezionalmente affidabili in ambienti di laboratorio esigenti.
Forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C con flange da 50 mm per CVD
Questo forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C è dotato di flange per tubi in quarzo da 50 mm progettate specificamente per processi CVD ad alta precisione. Accelera la ricerca e lo sviluppo industriale grazie al riscaldamento e raffreddamento rapidi tramite scorrimento, garantendo una sintesi dei materiali superiore, risultati costanti e prestazioni eccellenti nella deposizione di film sottili.
Forno a tubo scorrevole da 1200°C per elaborazione termica rapida e crescita di grafene CVD con capacità di 100 mm di diametro esterno
Accelera la tua ricerca con questo forno a tubo scorrevole da 1200°C progettato per l'elaborazione termica rapida e le applicazioni CVD. Dotato di controllo PLC ad alta precisione e binario scorrevole motorizzato per cicli di riscaldamento e raffreddamento ultra-rapidi in laboratori di scienza dei materiali avanzata e R&S industriale.
Forno a tubo a quattro canali ad alto rendimento da 1200°C con tubi al quarzo da 3 pollici per ricottura multi-zona e ricerca sui materiali
Accelera la ricerca sui materiali con il nostro avanzato forno a tubo a quattro canali da 1200°C, dotato di controllo indipendente per ogni tubo al quarzo da 3 pollici. Questo sistema ad alto rendimento offre un'efficienza senza pari per la ricottura e gli studi sui diagrammi di fase nei laboratori di ricerca e sviluppo industriali e accademici.
Forno tubolare automatizzato ad alta temperatura da 5 pollici per ricerca autonoma sui materiali e R&D avanzata in laboratorio
Accelera la sintesi dei materiali con questo forno tubolare automatizzato da 1200 °C, dotato di controllo del vuoto di precisione, lavorazione in quarzo ad alta purezza e integrazione pronta per il remoto per la ricerca AI ad alto throughput e le applicazioni di laboratorio autonomo in settori industriali esigenti della scienza dei materiali e nei flussi di lavoro avanzati di sviluppo R&D.
Forno a muffola e a tubo ibrido 1200C per la ricerca sui materiali con tubi in quarzo a doppia atmosfera controllata
Avanza nella tua ricerca sui materiali con questo forno ibrido ad alte prestazioni da 1200C, dotato di una camera a muffola da 7,2L e doppi tubi in quarzo da 2 pollici per una versatile lavorazione sottovuoto o in atmosfera inerte. Sperimenta un controllo preciso della temperatura e un'eccezionale efficienza termica per applicazioni di R&S industriale.
Forno a tubo diviso a sette zone 1200°C con termoregolatore di precisione e sistema di vuoto a flangia rapida
Un forno professionale a tubo diviso a sette zone da 1200°C progettato per la ricerca sui materiali, dotato di un tubo in quarzo da 5 pollici, controllo PID preciso e flange rapide per il trattamento termico rapido in ambienti sottovuoto o ad atmosfera controllata. Una soluzione termica R&D ad alte prestazioni.
Forno tubolare compatto ad alto vuoto 1200C con sistema integrato di pompa turbo e zona di riscaldamento da 8 pollici
Questo forno tubolare compatto ad alto vuoto 1200C dispone di un sistema integrato di pompa turbo che raggiunge 10^-5 torr. Ideale per la ricerca e sviluppo nel campo dei materiali, offre un controllo PID preciso, una zona di riscaldamento da 8 pollici e una robusta struttura in tubo di quarzo per la lavorazione.