Forno a doppio tubo scorrevole da 1200°C con flange da 50 mm per CVD

Panoramica del prodotto

Questo sistema scorrevole a doppia zona ad alte prestazioni rappresenta una svolta nel trattamento termico per la ricerca sui materiali avanzati. Progettato specificamente per applicazioni di deposizione chimica da vapore (CVD) e trasporto fisico da vapore (PVT), l'apparecchiatura è dotata di due unità di riscaldamento indipendenti montate su una guida di scorrimento progettata con precisione. Questa configurazione consente un controllo senza precedenti sui gradienti di temperatura e sui cicli termici rapidi, permettendo ai ricercatori di ottenere profili di sintesi complessi impossibili con i sistemi stazionari. Spostando le zone di riscaldamento rispetto al tubo di processo, gli utenti possono creare punti caldi localizzati per l'evaporazione dei precursori, mantenendo al contempo una temperatura distinta per la deposizione del substrato.

Costruita per i rigori della ricerca industriale e degli ambienti di laboratorio di semiconduttori, l'unità facilita la produzione di film sottili di alta qualità, materiali 2D e nanostrutture. Il vantaggio principale risiede nella sua versatilità: funziona come forno a doppia zona per la crescita a gradiente controllato o come strumento di tempra termica ad alta velocità per lo studio delle transizioni di fase. I settori target includono l'aerospaziale, l'accumulo di energia (in particolare lo sviluppo di celle solari a perovskite) e la microelettronica, dove precisione e ripetibilità sono le basi del successo dell'innovazione.

Progettato con un focus sull'affidabilità a lungo termine, il sistema utilizza una robusta struttura in acciaio a doppio strato per garantire sicurezza esterna ed efficienza termica. Le guide di scorrimento per impieghi gravosi sono progettate per un movimento fluido e costante anche dopo migliaia di cicli ad alte temperature. Ogni componente, dagli elementi riscaldanti in lega Fe-Cr-Al drogata alle flange ermetiche in acciaio inossidabile, è selezionato per resistere alle condizioni impegnative di alto vuoto e ambienti con gas corrosivi. Questo impegno per l'eccellenza ingegneristica garantisce che l'apparecchiatura offra prestazioni costanti, giorno dopo giorno, negli scenari di ricerca più complessi.

Caratteristiche principali

• Controllo indipendente a doppia zona: Due unità forno separate, ciascuna con una zona di riscaldamento da 200 mm, consentono una programmazione PID indipendente. Ciò permette la gestione simultanea della sublimazione del precursore e delle temperature di crescita del substrato, fondamentale per ricette CVD complesse.
• Sistema di guida scorrevole di precisione: L'apparecchiatura è montata su un sistema a doppia guida scorrevole da 1200 mm. Ciò consente agli operatori di spostare manualmente o (opzionalmente) automaticamente i forni su una distanza di 400 mm, fornendo un meccanismo fisico per rapidi cambiamenti di temperatura e tempra.
• Dinamica termica avanzata: Facendo scorrere il forno riscaldato lontano dalla posizione del campione, il sistema può raggiungere velocità di riscaldamento e raffreddamento fino a 100°C/min. Questa capacità di elaborazione termica rapida (RTP) è essenziale per controllare la dimensione del grano e la struttura cristallina nei film sottili avanzati.
• Elementi riscaldanti ad alte prestazioni: Dotata di elementi in lega Fe-Cr-Al drogati con molibdeno, l'unità fornisce prestazioni di riscaldamento stabili e durevoli fino a 1200°C, garantendo una lunga durata operativa anche in condizioni di funzionamento continuo ad alta temperatura.
• Flange da vuoto ermetiche: Sono fornite di serie flange da vuoto in acciaio inossidabile con manometri integrati e supporti per impieghi gravosi. Queste garantiscono un ambiente a tenuta stagna, supportando livelli di vuoto fino a 10E-5 torr se abbinate a una pompa molecolare.
• Automazione PID programmabile: Ogni zona è governata da un controller automatico dotato di 30 segmenti programmabili. Ciò consente un controllo preciso delle rampe di temperatura, dei tempi di sosta e delle curve di raffreddamento, riducendo il rischio di errore umano durante cicli complessi.
• Protezioni di sicurezza integrate: Il sistema include allarmi di sovratemperatura integrati e funzioni di spegnimento automatico. Il design dell'alloggiamento in acciaio a doppio strato incorpora il raffreddamento ad aria per mantenere la superficie del forno sicura al tatto durante il funzionamento.
• Espansione del sistema modulare: L'apparecchiatura è progettata per crescere con le vostre esigenze di ricerca. Può essere facilmente aggiornata con controller di flusso di massa (MFC) per un'erogazione precisa del gas, generatori di plasma RF per PECVD o kit di guide motorizzate per cicli di scorrimento automatizzati.

Applicazioni

Specifiche tecniche

Perché scegliere TU-RT05

• Flessibilità termica superiore: Il design a doppio scorrimento offre un livello di controllo del processo che i forni stazionari non possono eguagliare, in particolare per la tempra rapida e la CVD a gradiente controllato.
• Ingegneria di precisione: Costruito con componenti premium, inclusi elementi in lega drogata con Mo e flange in acciaio inossidabile di alta qualità, garantendo l'integrità dell'alto vuoto e la stabilità della temperatura.
• Scalabilità a prova di futuro: Che tu abbia bisogno di una semplice configurazione CVD oggi o di un sistema PECVD completamente automatizzato domani, questa unità supporta aggiornamenti fluidi con MFC e generatori RF.
• Efficienza di raffreddamento senza pari: La separazione fisica della camera di riscaldamento dal tubo di processo consente un vero raffreddamento rapido, critico per la ricerca metallurgica e sui semiconduttori.
• Affidabilità comprovata: Con migliaia di unità in funzione a livello globale, il nostro design è lo standard del settore per durata e coerenza operativa nella ricerca ad alta temperatura.

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