Forno a tubo scorrevole a doppia zona di temperatura da 1200°C per la crescita di materiali 2D e sintesi TCVD

Panoramica del prodotto

Questo sistema a doppio forno ad alte prestazioni è progettato specificamente per la sintesi di materiali 2D avanzati e la deposizione di film sottili complessi. Integrando due unità di forno indipendenti su un unico tubo di processo da 80 mm, l'apparecchiatura consente la creazione di gradienti di temperatura precisi e ambienti termici distinti per la sublimazione e la deposizione. Un forno è progettato come unità fissa, mentre l'altro è dotato di un meccanismo di scorrimento ad alta velocità, consentendo a ricercatori e ingegneri industriali di spostare i campioni tra zone ad alta temperatura e condizioni ambientali con eccezionale velocità e ripetibilità.

Il sistema è ideale per i processi di deposizione chimica da vapore termica (TCVD), in particolare nella produzione di monostrati di dicalcogenuri di metalli di transizione (TMDC) 2D e microcristalli di perovskite avanzati. Separando la zona di evaporazione del precursore dalla zona di crescita, questa apparecchiatura offre un controllo senza pari sulla pressione di vapore e sui rapporti stechiometrici. La versatilità della configurazione a doppia zona lo rende uno strumento essenziale per i laboratori di scienza dei materiali e le strutture di R&S high-tech focalizzate su grafene, nanotubi di carbonio e film sottili semiconduttori.

Progettata per un uso industriale impegnativo, l'apparecchiatura privilegia l'integrità strutturale e la stabilità termica. La combinazione di quarzo fuso ad alta purezza, elementi riscaldanti progettati con precisione e un robusto sistema di binari di scorrimento lineare garantisce che ogni ciclo sia coerente e affidabile. Questa unità offre la durata necessaria per il funzionamento continuo sotto vuoto o in condizioni di atmosfera controllata, offrendo ai team di approvvigionamento e ai responsabili della ricerca la massima fiducia nel loro investimento di capitale a lungo termine.

Caratteristiche principali

• Controllo indipendente a doppia zona: Questo sistema utilizza due unità di riscaldamento separate, ciascuna dotata del proprio controller di temperatura PID dedicato, consentendo temperature di sublimazione e deposizione distinte senza interferenze termiche.
• Processo termico rapido tramite meccanismo di scorrimento: Il forno sul lato destro è montato su un sistema a doppio binario di scorrimento lineare, che gli consente di allontanarsi dalla zona di crescita per ottenere velocità di raffreddamento ultra-rapide di circa 100°C/min, cruciali per le fasi di tempra e per preservare la morfologia del materiale.
• Movimento lineare di precisione: Il forno scorrevole è azionato da un motore elettrico da 200W con controlli manuali di velocità e direzione, supportato da binari in acciaio cromato per un movimento fluido e privo di vibrazioni durante le fasi critiche di crescita.
• Forno fisso avanzato a zone multiple: L'unità fissa sul lato sinistro presenta una configurazione a tre zone (152,4 mm ciascuna), fornendo una zona a temperatura costante estesa e consentendo la regolazione fine del profilo termico attraverso la sorgente del precursore.
• Ambiente di lavorazione in quarzo ad alta purezza: Il tubo in quarzo fuso da 80 mm di diametro fornisce un ambiente pulito e chimicamente inerte per reazioni sensibili, supportando portate fino a 1000 sccm e pressioni fino a 0,4 bar.
• Regolazione termica sofisticata: Dotato di controller FA-YD518P-AG, il sistema offre 30 segmenti programmabili per rampa, mantenimento e raffreddamento, con funzioni di auto-tuning integrate per mantenere una precisione di ±1°C.
• Tecnologia di riscaldamento durevole: Elementi riscaldanti in lega Fe-Cr-Al di alta qualità, drogati con molibdeno, forniscono una temperatura di lavoro massima di 1200°C e un'eccellente resistenza all'ossidazione per una maggiore durata.
• Capacità di integrazione del vuoto: Le flange per vuoto in acciaio inossidabile con manometri integrati sono standard, consentendo al sistema di raggiungere livelli di vuoto fino a 10E-5 torr se abbinato a una pompa molecolare.
• Monitoraggio completo della sicurezza: Il sistema include allarmi integrati per sovratemperatura e guasto della termocoppia, garantendo la sicurezza dell'apparecchiatura e dell'operatore durante i cicli ad alta temperatura.

Applicazioni

Specifiche tecniche

Perché scegliere TU-RT10

• Flessibilità termica superiore: La combinazione unica di un forno fisso a tre zone e un forno scorrevole a zona singola fornisce la piattaforma più versatile per processi CVD complessi disponibile sul mercato.
• Affidabilità comprovata: Costruita con elementi riscaldanti in lega premium e un robusto sistema di scorrimento meccanico, questa apparecchiatura è progettata per la longevità e prestazioni costanti in ambienti di R&S intensivi.
• Ingegneria di precisione: Con una precisione della temperatura mantenuta entro ±1°C e componenti di movimento lineare di alta qualità, gli utenti possono ottenere risultati altamente ripetibili per la sintesi di materiali sensibili.
• Scalabile e personalizzabile: Il design modulare consente aggiornamenti ai controller Eurotherm per una precisione ancora maggiore e l'integrazione con sistemi di erogazione gas multicanale per soddisfare specifiche esigenze di ricerca.
• Conformità completa: I nostri sistemi sono certificati CE e costruiti secondo gli standard di sicurezza internazionali, garantendo una facile integrazione in qualsiasi laboratorio professionale o struttura industriale.

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