Forno tubolare
Forno a tubo rotante a doppia zona ad alta temperatura 1500°C con riscaldamento in carburo di silicio per la sintesi di materiali avanzati
Numero articolo: TU-GS04
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Panoramica del prodotto

Questo forno a tubo rotante a doppia zona ad alte prestazioni rappresenta l'apice della tecnologia di trattamento termico, progettato specificamente per ricercatori di scienza dei materiali e produttori industriali che richiedono gradienti di temperatura precisi e un controllo atmosferico eccezionale. Integrando un meccanismo rotante con capacità di riscaldamento a doppia zona, questo sistema garantisce un'uniformità senza pari per la lavorazione di polveri, applicazioni di rivestimento e deposizione chimica da vapore (CVD). L'attrezzatura fornisce un ambiente stabile ad alta temperatura che raggiunge i 1500°C, rendendolo uno strumento essenziale per lo sviluppo di ceramiche avanzate, materiali per batterie e componenti a semiconduttore.
Progettato per rigorosi ambienti di ricerca e sviluppo e per la produzione industriale in piccoli lotti, l'unità eccelle nelle applicazioni in cui l'agitazione del materiale è critica per ottenere risultati coerenti. La funzione del tubo rotante facilita il movimento continuo dei materiali all'interno della camera riscaldata, prevenendo l'agglomerazione e assicurando che ogni particella sia esposta al campo termico uniforme. Questa capacità, combinata con l'isolamento in fibra di allumina ad alta purezza e il sofisticato controllo PID, consente cicli di riscaldamento e raffreddamento rapidi mantenendo l'integrità strutturale dei campioni trattati in condizioni impegnative.
L'affidabilità è al centro dell'ingegneria di questo sistema. Utilizzando resistenze in carburo di silicio (SiC) di alta qualità con design a carico superficiale ottimizzato e una robusta trasmissione meccanica, l'attrezzatura è costruita per una coerenza operativa a lungo termine. Che venga utilizzato per una semplice calcinazione o per una complessa sintesi atmosferica multistadio, questa unità offre la precisione e la durata richieste dagli standard di laboratorio moderni. I team di approvvigionamento industriale possono fare affidamento su questo sistema per fornire dati ripetibili e output di materiale di alta qualità, supportati da caratteristiche di sicurezza complete e opzioni di configurazione modulari.
Caratteristiche principali
- Controllo indipendente della temperatura a doppia zona: Il sistema dispone di due zone di riscaldamento controllate indipendentemente, consentendo agli utenti di creare gradienti di temperatura precisi o una zona calda uniforme più ampia. Ciò è particolarmente vantaggioso per i processi di sublimazione e il trasporto in fase vapore dove i differenziali di temperatura sono critici.
- Resistenze in carburo di silicio (SiC) potenziate: Dotato di barre in SiC da 14 mm di diametro (più grandi dello standard industriale da 12 mm), il forno beneficia di un carico superficiale inferiore per unità di superficie. Questo design estende significativamente la durata delle resistenze e garantisce un'irradiazione termica più stabile.
- Isolamento termico superiore: La camera è costruita in fibra policristallina di allumina ad alta purezza, prodotta mediante avanzate tecniche di aspirazione sottovuoto e stampaggio a filtro. Questa tecnologia di ispirazione giapponese si traduce in una bassa capacità termica, una conduzione di calore minima e un'elevata riflettività per un'efficienza energetica superiore.
- Meccanismo rotante integrato: La funzione di rotazione del tubo assicura che le polveri e i materiali granulari vengano continuamente rimescolati durante il ciclo di riscaldamento. Ciò favorisce una distribuzione uniforme del calore e l'interazione gas-solido, essenziale per processi di drogaggio o rivestimento uniformi.
- Controller PID avanzato a 30 segmenti: Il sistema di controllo intelligente consente profili termici complessi con un massimo di 30 segmenti programmabili. Include funzioni di auto-tuning e regolazione ad alta precisione per mantenere una stabilità di ±1°C in tutto l'intervallo operativo.
- Design dell'estremità fredda estesa: Le resistenze presentano estremità fredde da 210 mm (lo standard è 180 mm), il che garantisce che le connessioni elettriche rimangano a una temperatura inferiore. Questa scelta ingegneristica riduce lo stress termico sul cablaggio e migliora la sicurezza generale e la longevità del sistema elettrico.
- Versatilità completa per vuoto e atmosfera: L'attrezzatura supporta un'ampia gamma di livelli di vuoto, dal pompaggio meccanico di base ai sistemi a pompa molecolare ad alto vuoto che raggiungono 10-3 Pa. Varie opzioni di flange, incluse varianti incernierate e raffreddate ad acqua, consentono un'integrazione perfetta di strumenti di erogazione e monitoraggio del gas.
- Robuste protezioni di sicurezza: Interruttori automatici integrati e protezioni contro le dispersioni scollegano automaticamente l'alimentazione in caso di sovracorrente o dispersione elettrica. Inoltre, il sistema include la protezione contro il sovratemperatura e la rottura della termocoppia per prevenire danni all'hardware durante il funzionamento incustodito.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Calcinazione di polveri | Trattamento termico di materiali granulari mantenendo un movimento costante all'interno del tubo rotante. | Previene la sinterizzazione delle particelle e garantisce una trasformazione di fase uniforme. |
| CVD / PECVD | Sintesi di film sottili e nanomateriali come nanotubi di carbonio o grafene. | Il controllo a doppia zona consente un trasporto preciso del vapore e tassi di deposizione. |
| Ricerca sui materiali per batterie | Sintesi e ricottura di materiali catodici e anodici sotto atmosfere controllate. | Il riscaldamento uniforme delle polveri porta a una migliore coerenza delle prestazioni elettrochimiche. |
| Sinterizzazione ceramica | Lavorazione ad alta temperatura di polveri ceramiche avanzate e precursori. | La capacità di 1500°C consente la lavorazione di ceramiche tecniche ad alto punto di fusione. |
| Preparazione di catalizzatori | Impregnazione ed essiccazione di supporti per catalizzatori che coinvolgono reazioni gas-solido. | La rotazione del tubo massimizza l'esposizione della superficie ai gas reagenti. |
| Drogaggio di semiconduttori | Diffusione di droganti in wafer o polveri di semiconduttori ad alte temperature. | L'alta precisione (±1°C) garantisce profili di drogaggio ripetibili tra i lotti. |
| Materiali aerospaziali | Test e sintesi di compositi e leghe resistenti alle alte temperature. | Prestazioni affidabili durante cicli di calore elevato di lunga durata per la convalida R&D. |
Specifiche tecniche
| Specifica | TU-GS04-I | TU-GS04-II |
|---|---|---|
| Temperatura massima | Zona 1: 1500°C / Zona 2: 1500°C | Zona 1: 1500°C / Zona 2: 1500°C |
| Temperatura nominale | Zona 1: 1400°C / Zona 2: 1400°C | Zona 1: 1400°C / Zona 2: 1400°C |
| Dimensioni camera | Ø60 (OD) x 1200 mm | Ø80 (OD) x 1200 mm |
| Potenza | 9 KW | 9 KW |
| Tensione / Fase | 220V / Monofase | 220V / Monofase |
| Resistenze | Barre in carburo di silicio (SiC) | Barre in carburo di silicio (SiC) |
| Sistema di controllo | PID a 30 segmenti con strumento Yu Electric (Standard) | PID a 30 segmenti con strumento Yu Electric (Standard) |
| Precisione di controllo | ±1°C | ±1°C |
| Velocità di riscaldamento | ≤20°C/min (consigliato 10°C/min) | ≤20°C/min (consigliato 10°C/min) |
| Tipo di termocoppia | Tipo S | Tipo S |
| Lunghezza riscaldamento | 300 mm | 300 mm |
| Lunghezza temp. costante | 400 - 450 mm | 400 - 450 mm |
| Materiale camera | Fibra policristallina di allumina | Fibra policristallina di allumina |
| Trigger | Trigger a sfasamento | Trigger a sfasamento |
| SCR | 106/16E SEMIKRON | 106/16E SEMIKRON |
| Livelli di vuoto | 10 Pa (Standard) a 10-3 Pa (Alto vuoto opzionale) | 10 Pa (Standard) a 10-3 Pa (Alto vuoto opzionale) |
| Temp. superficie | ≤45°C | ≤45°C |
| Comunicazione | Interfaccia RS485 (Standard) | Interfaccia RS485 (Standard) |
Perché scegliere TU-GS04
- Progettato per l'affidabilità: Utilizzando barre in SiC più spesse da 14 mm ed estremità fredde più lunghe, questo sistema riduce al minimo l'usura delle resistenze e lo stress termico elettrico, fornendo una soluzione più robusta rispetto ai forni da laboratorio entry-level.
- Efficienza termica senza pari: La camera in fibra di allumina con tecnologia giapponese assicura che l'esterno rimanga fresco (≤45°C) pur mantenendo le temperature interne massime, riducendo il consumo energetico e il calore ambientale del laboratorio.
- Controllo multizona di precisione: La funzionalità a doppia zona consente la creazione di complessi gradienti termici, essenziali per il trasporto chimico di vapore avanzato e l'ingegneria dei materiali che i sistemi a zona singola non possono ottenere.
- Soluzioni per il vuoto scalabili: Dallo spostamento di gas di base ai sistemi molecolari ad alto vuoto, il forno è compatibile con un'ampia gamma di gruppi di pompaggio per soddisfare specifici requisiti di purezza sperimentale.
- Sicurezza leader del settore: Interruttori automatici integrati, protezione contro le dispersioni e interruzioni automatiche per sovratemperatura proteggono sia la tua ricerca che la tua struttura da rischi elettrici e termici.
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