Forno tubolare
Forno a tubo a doppia zona di temperatura e doppio coperchio per CVD ad alta temperatura e ricottura sottovuoto
Numero articolo: TU-GS08
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Panoramica del prodotto

Questo forno a tubo a doppia zona di temperatura ad alte prestazioni è progettato per soddisfare le rigorose esigenze della ricerca sulla scienza dei materiali e della produzione industriale. Combinando due zone di riscaldamento indipendenti all'interno di un'unica unità snella, questo sistema offre ai ricercatori la flessibilità di creare gradienti termici complessi o mantenere profili di temperatura altamente stabili su una lunghezza di riscaldamento estesa. Il design a doppio coperchio migliora l'accessibilità ottimizzando al contempo la gestione termica, rendendo l'attrezzatura uno strumento essenziale per trattamenti termici sofisticati in cui precisione e coerenza sono fondamentali.
Progettata per la versatilità, l'attrezzatura eccelle nella sinterizzazione ad alta temperatura, nei processi in atmosfera riducente e nella deposizione chimica da vapore (CVD). È ampiamente utilizzata nei settori aerospaziale, dei semiconduttori e della ceramica avanzata per eseguire ricottura sottovuoto e test in atmosfera controllata. La struttura robusta e le caratteristiche di sicurezza integrate assicurano che l'unità funzioni in modo affidabile in condizioni di servizio continuo, offrendo al personale di laboratorio la sicurezza di condurre esperimenti di lunga durata senza supervisione.
Costruito con un focus sulla durata e sulle prestazioni, questo sistema incorpora elementi riscaldanti di alta qualità e materiali isolanti avanzati. L'integrazione di fili di resistenza di alto grado e fibra di allumina formata sottovuoto garantisce velocità di riscaldamento rapide ed un'eccezionale efficienza energetica. Che si tratti di ricerca di base nelle università o di sviluppo di materiali ad alto rischio nei laboratori industriali, questa attrezzatura offre la stabilità termica e il controllo atmosferico richiesti per i processi tecnici più sensibili.
Caratteristiche principali
- Elementi riscaldanti svedesi Kanthal A1 di alta qualità: L'unità utilizza filo di resistenza Kanthal A1 importato, in grado di raggiungere temperature superficiali fino a 1420°C. Questi elementi sono scelti per la loro resistenza bilanciata e il funzionamento privo di scorie, garantendo un ambiente termico pulito e una durata operativa significativamente superiore ai normali fili in lega.
- Controllo avanzato a doppia zona: Dotato di due zone di temperatura indipendenti, il sistema consente la creazione di gradienti termici precisi. Questo è fondamentale per processi come il trasporto fisico di vapore o applicazioni CVD complesse in cui la vaporizzazione del precursore e la deposizione del substrato richiedono temperature distinte e simultanee.
- Camera in fibra di allumina ad alta purezza: La camera del forno è costruita utilizzando fibra di allumina policristallina di alta qualità, formata tramite aspirazione sottovuoto e stampaggio a filtro basato su una tecnologia giapponese avanzata. Ciò si traduce in una bassa massa termica, un'elevata efficienza di isolamento e una resistenza superiore agli shock termici.
- Sofisticata regolazione della temperatura PID: Dotato di un controller PID intelligente a 30 segmenti, il sistema mantiene una precisione di controllo di ±1°C. Dispone di protezione da sovratemperatura, avvisi di guasto della termocoppia e una funzione di ripristino in caso di interruzione di corrente che riprende il programma dal punto di interruzione.
- Raffreddamento ad aria forzata a doppio guscio: Per garantire la sicurezza dell'operatore e la longevità strutturale, il forno presenta una struttura a doppio guscio. Una ventola di raffreddamento integrata fa circolare l'aria tra lo strato interno ed esterno, mantenendo una temperatura superficiale esterna inferiore a 45°C anche durante il funzionamento alla massima temperatura.
- Interblocchi di sicurezza completi: L'unità include un sistema di protezione automatico con apertura del coperchio. Se il coperchio del forno viene aperto durante il funzionamento, un relè scollega immediatamente l'alimentazione principale per proteggere l'utente da rischi elettrici ed esposizione ad alte temperature.
- Comunicazione e monitoraggio digitale: Le interfacce RS485 standard consentono all'attrezzatura di connettersi direttamente a un computer. Gli utenti possono controllare i parametri, visualizzare curve PV (valore di processo) e SV (valore impostato) in tempo reale e registrare i dati di temperatura per analisi storiche e rapporti di garanzia della qualità.
- Versatilità sottovuoto e atmosfera: L'attrezzatura è progettata per interfacciarsi con vari sistemi di alimentazione del gas e sottovuoto. Dal semplice spurgo con gas inerte ad ambienti ad alto vuoto che raggiungono 10-3 Pa, il sistema soddisfa diverse esigenze atmosferiche per il trattamento di materiali sensibili.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | Crescita di film sottili e nanostrutture tramite deposizione chimica da vapore a temperature controllate. | Controllo preciso del gradiente per uno spessore e una qualità del film costanti. |
| Ricottura sottovuoto | Rilascio delle tensioni interne in leghe metalliche e wafer semiconduttori sotto alto vuoto. | Previene l'ossidazione e garantisce proprietà del materiale ad alta purezza. |
| Sinterizzazione in atmosfera | Sinterizzazione di ceramiche avanzate e parti di metallurgia delle polveri in atmosfere riducenti o inerti. | L'uniformità termica superiore porta a una densità del prodotto costante. |
| R&D materiali per batterie | Trattamento termico di materiali per anodi e catodi per lo stoccaggio energetico di prossima generazione. | Ciclaggio affidabile e registrazione dati per risultati sperimentali ripetibili. |
| Calcinazione | Riscaldamento di minerali o composti chimici per effettuare la decomposizione termica. | Funzionamento efficiente dal punto di vista energetico con cicli di riscaldamento e raffreddamento rapidi. |
| Test in atmosfera riducente | Trattamento di materiali in ambienti con idrogeno o monossido di carbonio per studiare gli stati di ossidazione. | Le guarnizioni del tubo a tenuta di gas e il controllo del flusso integrato garantiscono un funzionamento sicuro. |
Specifiche tecniche
| Parametro | TU-GS08-I | TU-GS08-II | TU-GS08-III | TU-GS08-IV |
|---|---|---|---|---|
| Diametro esterno tubo (mm) | Dia 60 | Dia 80 | Dia 100 | Dia 120 |
| Lunghezza tubo (mm) | 1460 | 1460 | 1460 | 1460 |
| Consumo energetico | 2.5 KW | 2.5 KW | 4.0 KW | 4.0 KW |
| Dimensioni esterne (mm) | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 |
| Tensione di alimentazione | 220V | 220V | 220V | 220V |
| Elemento riscaldante | Svedese Kanthal A1 | Svedese Kanthal A1 | Svedese Kanthal A1 | Svedese Kanthal A1 |
| Temperatura max. | 1200°C | 1200°C | 1200°C | 1200°C |
| Temperatura nominale | 1100°C | 1100°C | 1100°C | 1100°C |
| Lunghezza zona riscaldamento | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm |
| Lunghezza temperatura costante | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm |
| Velocità di riscaldamento | ≤100°C / min | ≤100°C / min | ≤100°C / min | ≤100°C / min |
| Precisione di controllo | ±1°C | ±1°C | ±1°C | ±1°C |
| Tipo di termocoppia | Tipo K | Tipo K | Tipo K | Tipo K |
| Capacità sottovuoto | Opzionale (10Pa a 10-3 Pa) | Opzionale (10Pa a 10-3 Pa) | Opzionale (10Pa a 10-3 Pa) | Opzionale (10Pa a 10-3 Pa) |
| Componenti elettrici | Chint / Semikron | Chint / Semikron | Chint / Semikron | Chint / Semikron |
Perché scegliere questo forno
- Ingegneria termica senza eguali: Utilizzando filo svedese Kanthal A1 e una geometria della camera di ispirazione giapponese, questo sistema offre una stabilità termica significativamente superiore ai normali forni da laboratorio. La resistenza bilanciata garantisce un campo di temperatura uniforme, fondamentale per la ricerca ad alta fedeltà.
- Affidabilità a lungo termine comprovata: La scelta di componenti di alta qualità, come i tiristori Semikron e la fibra di allumina aspirata sottovuoto, garantisce che l'unità possa resistere alle sollecitazioni del funzionamento ad alta temperatura per molti anni di servizio.
- Opzioni di espansione versatili: Questa attrezzatura può essere personalizzata con vari sistemi sottovuoto (dalle pompe monostadio alle unità molecolari ad alto vuoto) e sistemi di alimentazione del gas (flussimetri di massa, gorgogliatori o evaporatori) per soddisfare specifici requisiti di processo.
- Maggiore sicurezza dell'operatore: Con protezioni dalle perdite integrate, interruzioni di corrente all'apertura del coperchio e raffreddamento a doppio guscio, questo sistema soddisfa i più elevati standard di sicurezza richiesti per i moderni laboratori industriali e accademici.
- Controllo basato sui dati: La capacità di monitorare e controllare il forno tramite computer, combinata con il disegno dettagliato delle curve e l'archiviazione dei dati, fornisce la documentazione necessaria per ambienti di R&D rigorosamente controllati e audit di qualità.
Questo sistema rappresenta un investimento premium nella tecnologia di trattamento termico, combinando precisione, sicurezza e durata per supportare i vostri obiettivi di ricerca e produzione più critici. Contattateci oggi per una consulenza tecnica o un preventivo personalizzato per le vostre specifiche esigenze di laboratorio.
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