Forno tubolare
Forno a tubo a doppia zona ad alta temperatura 1700°C per la scienza dei materiali e la ricerca industriale sulla deposizione chimica da vapore
Numero articolo: TU-74
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Panoramica del prodotto
Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni è progettato per la ricerca avanzata sui materiali e lo sviluppo industriale che richiedono un controllo preciso e indipendente su zone termiche multiple. Utilizzando una configurazione a doppia zona, l'apparecchiatura consente la creazione di sofisticati gradienti di temperatura, essenziali per processi specializzati come il trasporto chimico da vapore (CVT) e la deposizione fisica da vapore (PVD). L'architettura del sistema combina due distinte tecnologie di riscaldamento all'interno di un'unica unità, fornendo una piattaforma versatile per la sintesi di materiali funzionali e la crescita di film epitassiali di alta qualità.
Progettata per gli ambienti di laboratorio e industriali più esigenti, questa unità è ampiamente utilizzata nella ricerca sui semiconduttori, nella metallurgia e nella chimica dello stato solido. Serve come strumento critico per i ricercatori focalizzati sulla crescita di nanonastri di dicalcogenuri di metalli di transizione (TMD) e sullo sviluppo di singoli cristalli ad alta purezza. La costruzione robusta assicura che il sistema mantenga un'eccezionale stabilità termica anche quando opera a temperature che raggiungono i 1700ºC, consentendo risultati coerenti e ripetibili in progetti di R&S ad alto rischio.
L'affidabilità e la sicurezza sono al centro della filosofia di progettazione di questa apparecchiatura. Costruito con un involucro in acciaio a doppio strato e ventole di raffreddamento integrate, il sistema mantiene una bassa temperatura superficiale esterna, proteggendo il personale di laboratorio e le apparecchiature circostanti. L'uso di isolamento in allumina fibrosa ad alta purezza non solo migliora l'efficienza energetica, ma contribuisce anche a cicli di riscaldamento e raffreddamento rapidi, massimizzando il rendimento nelle strutture di ricerca più impegnate. Gli acquirenti possono investire con fiducia, sapendo che questo sistema è costruito per resistere ai rigori del funzionamento continuo ad alta temperatura senza compromettere le prestazioni.
Caratteristiche principali
- Controllo indipendente a doppia zona: Ogni zona di riscaldamento da 12 pollici è gestita dal proprio controller digitale di precisione, consentendo la generazione di gradienti termici specifici o un riscaldamento uniforme su una campata totale di 24 pollici.
- Tecnologia avanzata a doppio elemento: La prima zona utilizza elementi in carburo di silicio (SiC) per un funzionamento stabile fino a 1400ºC, mentre la seconda zona impiega elementi in disiliciuro di molibdeno (MoSi2) per raggiungere temperature di picco di 1700ºC, offrendo una flessibilità senza pari per diversi profili termici.
- Gestione precisa della temperatura PID: Dotato di doppi controller digitali programmabili a 30 segmenti, il sistema fornisce un controllo PID automatizzato tramite raddrizzatori controllati al silicio (SCR), garantendo una precisione entro ±1ºC.
- Isolamento in allumina ad alta purezza: La camera del forno è rivestita con allumina fibrosa ad alta densità, che riduce al minimo la perdita di calore e garantisce un elevato grado di uniformità della temperatura, prevenendo al contempo la contaminazione di campioni sensibili.
- Protocolli di sicurezza avanzati: Gli allarmi di sovratemperatura integrati e i circuiti di protezione automatica consentono un funzionamento sicuro e incustodito, mentre l'involucro a doppio strato mantiene fresco l'ambiente esterno.
- Sistema di tenuta pronto per il vuoto: L'apparecchiatura include flange di tenuta sottovuoto in acciaio inossidabile per impieghi gravosi con valvole e misuratori di pressione integrati, che supportano applicazioni a bassa pressione e processi in atmosfera inerte.
- Tubi di processo in allumina ad alta resistenza: Il sistema supporta vari diametri di tubo (50 mm, 60 mm e 80 mm) per accogliere diversi volumi di campioni e requisiti di rendimento senza sacrificare l'integrità strutturale alle alte temperature.
- Architettura di alimentazione robusta: Utilizzando cavi di alimentazione per impieghi gravosi approvati UL e un requisito di interruttore automatico da 60 A, il sistema è progettato per un'erogazione di potenza stabile durante le fasi di riscaldamento ad alta richiesta.
- Opzioni di interfaccia versatili: I raccordi per tubi flessibili standard possono essere aggiornati ad adattatori KF25 per applicazioni ad alto vuoto o raccordi a tenuta frontale VCR per l'erogazione di gas ad alta pressione, soddisfacendo esigenze tecniche specifiche.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Crescita di nanonastri TMD | Controllo preciso della pressione del vapore di calcogeno durante la crescita di nanonastri di dicalcogenuri di metalli di transizione. | Regolazione indipendente della concentrazione di vapore senza influenzare la cinetica di crescita. |
| Trasporto chimico da vapore (CVT) | Stabilire gradienti di temperatura stabili attraverso il tubo di processo per la migrazione dei vapori chimici. | Consente la crescita di grandi cristalli singoli ad alta purezza come PdCoO2. |
| Crescita di film epitassiali | Utilizzo di processi CVD o PVD sotto vuoto per depositare strati sottili sui substrati. | L'elevata uniformità della temperatura nella zona di crescita garantisce uno spessore del film costante. |
| Pirolisi catalitica | Riscaldamento di materiali di scarto industriali come pneumatici usati a velocità controllate per analizzare la distribuzione dei sottoprodotti. | Previene il surriscaldamento localizzato e garantisce un recupero di petrolio e gas di alta qualità. |
| Sintesi di materiali funzionali | Sottoporre i precursori dei materiali a specifici gradienti termici per indurre i cambiamenti di fase desiderati. | Produzione ripetibile di materiali avanzati con proprietà fisiche su misura. |
| Doping di semiconduttori | Diffusione di droganti nei wafer di semiconduttori sotto controllo dell'atmosfera ad alta temperatura. | La precisa programmazione a 30 segmenti consente un controllo esatto della profondità di penetrazione. |
| Sinterizzazione ceramica | Consolidamento ad alta temperatura di polveri ceramiche avanzate in componenti solidi. | Velocità di riscaldamento rapide fino a 10ºC/min ottimizzano i tempi di lavorazione per le ceramiche ad alta densità. |
Specifiche tecniche
| Parametro | TU-74-50 | TU-74-60 | TU-74-80 |
|---|---|---|---|
| Diametro esterno del tubo | 50 mm | 60 mm | 80 mm |
| Diametro interno del tubo | 44 mm | 54 mm | 74 mm |
| Lunghezza del tubo | 1200 mm | 1200 mm | 1200 mm |
| Temperatura max Zona 1 | 1500ºC (Elementi SiC) | 1500ºC (Elementi SiC) | 1500ºC (Elementi SiC) |
| Temperatura max Zona 2 | 1700ºC (Elementi MoSi2) | 1700ºC (Elementi MoSi2) | 1700ºC (Elementi MoSi2) |
| Lunghezza zona di riscaldamento | 12" + 12" (300mm + 300mm) | 12" + 12" (300mm + 300mm) | 12" + 12" (300mm + 300mm) |
| Zona a temperatura costante | 14" (350mm) entro ±1ºC | 14" (350mm) entro ±1ºC | 14" (350mm) entro ±1ºC |
| Velocità di riscaldamento | Max. 10ºC/min | Max. 10ºC/min | Max. 10ºC/min |
| Termocoppie | Tipo S (Zona 1) / Tipo B (Zona 2) | Tipo S (Zona 1) / Tipo B (Zona 2) | Tipo S (Zona 1) / Tipo B (Zona 2) |
| Precisione di controllo | ±1ºC | ±1ºC | ±1ºC |
| Potenza totale | 9 KW | 9 KW | 9 KW |
| Tensione | 220-240V Monofase | 220-240V Monofase | 220-240V Monofase |
| Dimensioni complessive | 780 x 450 x 720 mm | 780 x 450 x 720 mm | 780 x 450 x 720 mm |
| Conformità | Certificato CE | Certificato CE | Certificato CE |
| Limite di vuoto | < 0.02 Mpa (Sicuro fino a 1500ºC) | < 0.02 Mpa (Sicuro fino a 1500ºC) | < 0.02 Mpa (Sicuro fino a 1500ºC) |
Perché scegliere il forno a tubo a doppia zona ad alta temperatura 1700C
- Ingegneria superiore e qualità dei materiali: Caratterizzato da una combinazione di elementi riscaldanti in SiC e MoSi2, questo sistema è progettato per la longevità e prestazioni precise che i forni commerciali non possono eguagliare.
- Controllo del gradiente termico leader del settore: Il controllo PID indipendente a 30 segmenti per ogni zona consente ai ricercatori di eseguire profili termici complessi con ripetibilità e precisione senza pari.
- Sicurezza e conformità complete: Con la certificazione CE e la protezione integrata contro la sovratemperatura, questa unità soddisfa i rigorosi requisiti di sicurezza dei moderni laboratori industriali e accademici.
- Configurazione flessibile e scalabile: Dalle dimensioni del tubo regolabili al controllo remoto wireless opzionale e all'integrazione Labview, questo sistema può essere personalizzato per soddisfare le specifiche esigenze di rendimento e registrazione dati della vostra struttura.
- Affidabilità comprovata nella R&S avanzata: Questa apparecchiatura è un punto fermo nella sintesi di materiali di fascia alta, apprezzata dalle principali istituzioni per la sua capacità di mantenere ambienti stabili di vuoto e temperatura.
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