Forno tubolare
Forno a tubo a doppia zona ad alta temperatura per la ricerca nella scienza dei materiali e il trattamento termico professionale
Numero articolo: TU-GS02
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Panoramica del prodotto
Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni rappresenta l'apice della tecnologia di trattamento termico a doppia zona, specificamente progettato per la ricerca nella scienza dei materiali e per la R&S industriale avanzata. Fornendo due zone di riscaldamento controllate indipendentemente, l'apparecchiatura consente la creazione di gradienti termici precisi o campi di temperatura uniformi estesi, rendendola uno strumento essenziale per complessi processi di deposizione chimica da vapore (CVD) e trasporto fisico da vapore. Il sistema è costruito con un'attenzione particolare alla stabilità termica e all'affidabilità operativa a lungo termine in ambienti di laboratorio esigenti.
Progettata per la versatilità, l'unità supporta un'ampia gamma di atmosfere, inclusi vuoto, gas inerti e ambienti reattivi. È ampiamente utilizzata nei settori dei semiconduttori, aerospaziale e della ceramica avanzata per la sintesi di nanomateriali, la sinterizzazione di polveri ad alta purezza e l'esecuzione di ricotture controllate. Il valore aggiunto di questo sistema risiede nella sua capacità di fornire cicli termici ripetibili e ad alta precisione, fondamentali per la moderna caratterizzazione e sviluppo dei materiali.
Gli utenti possono utilizzare l'unità con assoluta sicurezza, grazie alla sua ingegneria robusta e alla selezione di componenti premium. Dall'isolamento della camera di sviluppo giapponese agli elementi riscaldanti di provenienza svedese, ogni aspetto di questa apparecchiatura è ottimizzato per la durata e le prestazioni. L'integrazione di protocolli di sicurezza avanzati, inclusi l'isolamento automatico dell'alimentazione e la protezione contro le perdite, garantisce che il forno rimanga una risorsa affidabile in strutture di ricerca ad alto rischio dove precisione e sicurezza non possono essere compromesse.
Caratteristiche principali
- Controllo indipendente a doppia zona: Questo sistema è dotato di due zone di riscaldamento separate, ciascuna gestita dal proprio controller PID intelligente. Questa architettura consente ai ricercatori di stabilire gradienti di temperatura specifici o di mantenere una zona isoterma significativamente più lunga rispetto alle configurazioni a zona singola.
- Elementi premium svedesi Kanthal A1: Il forno utilizza filo di resistenza Kanthal A1 originale, rinomato per la sua capacità di raggiungere alte temperature superficiali senza ossidarsi o perdere scorie. Ciò garantisce un ambiente di elaborazione pulito e una durata utile significativamente più lunga rispetto alle leghe standard ferro-cromo-alluminio.
- Design avanzato di simulazione termica: La spaziatura interna e il passo degli elementi riscaldanti sono ottimizzati tramite simulazione software termica giapponese. Questo approccio altamente ingegneristico garantisce che il campo di temperatura sia perfettamente bilanciato, prevenendo punti caldi localizzati e garantendo una distribuzione uniforme del calore attorno al tubo di processo.
- Isolamento policristallino in allumina ad alta purezza: La camera è costruita utilizzando fibra di allumina stampata ad aspirazione sottovuoto. Questo materiale ad alta purezza offre una massa termica eccezionalmente bassa, consentendo rapidi tassi di riscaldamento e raffreddamento mantenendo un'efficienza energetica superiore e l'integrità strutturale alle temperature di picco.
- Ponte di comunicazione digitale RS485: L'apparecchiatura è dotata di un'interfaccia di comunicazione standard e software dedicato, che consente il controllo remoto completo tramite PC. Gli utenti possono monitorare i valori PV/SV in tempo reale, registrare i dati di temperatura per la documentazione e memorizzare profili di riscaldamento complessi per richiami futuri.
- Interblocchi di sicurezza completi: Per una maggiore protezione dell'operatore, l'unità include un sistema di protezione a copertura aperta che scollega automaticamente l'alimentazione agli elementi riscaldanti quando il forno viene aperto. Questo è completato da un protettore di dispersione integrato e un interruttore d'aria per prevenire sovratensioni elettriche.
- Opzioni flessibili per vuoto e atmosfera: Il sistema può essere configurato con varie flange per vuoto in acciaio inossidabile, incluse varianti incernierate, raffreddate ad acqua o con interfaccia KF25. Questa flessibilità consente livelli di vuoto che raggiungono i 10^-3 Pa se abbinati a sistemi di pompe molecolari appropriati.
- Profilazione intelligente della temperatura: Il controller intelligente standard supporta 30 segmenti programmabili, consentendo complessi protocolli di rampa, mantenimento e raffreddamento. Dispone inoltre di protezione contro le interruzioni di corrente, garantendo che il processo riprenda correttamente dopo un'interruzione dell'alimentazione.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | Sintesi di film sottili e nanotubi di carbonio utilizzando precursori in fase gassosa. | Controllo preciso del gradiente per una deposizione ottimale del precursore. |
| Crescita dei cristalli | Crescita di monocristalli tramite trasporto fisico da vapore o metodi Bridgman. | Differenza di temperatura stabile a doppia zona per una nucleazione controllata. |
| Ricottura di semiconduttori | Trattamento termico di wafer di silicio o semiconduttori composti in gas controllati. | L'elevata uniformità garantisce coerenza tra i lotti nelle proprietà dei wafer. |
| Sinterizzazione di nuovi materiali | Consolidamento ad alta temperatura di ceramiche avanzate e compositi a matrice metallica. | L'ambiente pulito con elementi Kanthal svedesi previene la contaminazione. |
| Ricerca atmosferica | Test di degradazione dei materiali in specifici ambienti poveri di ossigeno o gas inerti. | Gestione affidabile del gas con guarnizioni a flangia per vuoto ad alta integrità. |
| Test dei catalizzatori | Valutazione dell'efficienza di vari materiali catalitici a temperature elevate. | Registrazione dei dati in tempo reale per estrarre parametri cinetici precisi. |
Specifiche tecniche
| Parametro | TU-GS02-60 | TU-GS02-80 | TU-GS02-100 |
|---|---|---|---|
| Temperatura massima | 1200 ℃ | 1200 ℃ | 1200 ℃ |
| Temperatura nominale continua | 1100 ℃ | 1100 ℃ | 1100 ℃ |
| Potenza in uscita | 2,5 KW | 2,5 KW | 3,5 KW |
| Dimensioni tubo di processo (OD) | Φ 60 mm x 1300 mm | Φ 80 mm x 1300 mm | Φ 100 mm x 1300 mm |
| Lunghezza di riscaldamento | 420 mm (Doppia zona) | 420 mm (Doppia zona) | 420 mm (Doppia zona) |
| Tipo di elemento riscaldante | Kanthal A1 svedese | Kanthal A1 svedese | Kanthal A1 svedese |
| Tipo di termocoppia | Tipo K | Tipo K | Tipo K |
| Precisione di controllo | ± 1 ℃ | ± 1 ℃ | ± 1 ℃ |
| Tensione di alimentazione | 220V Monofase | 220V Monofase | 220V Monofase |
| Velocità di riscaldamento | Consigliata ≤15℃/min | Consigliata ≤15℃/min | Consigliata ≤15℃/min |
| Tipo di controller | Yu Electric PID a 30 segmenti | Yu Electric PID a 30 segmenti | Yu Electric PID a 30 segmenti |
| Capacità di vuoto | Opzionale da 10^-3 Pa a 10 Pa | Opzionale da 10^-3 Pa a 10 Pa | Opzionale da 10^-3 Pa a 10 Pa |
| Isolamento camera | Fibra policristallina di allumina | Fibra policristallina di allumina | Fibra policristallina di allumina |
| Temperatura superficiale | ≤ 45 ℃ | ≤ 45 ℃ | ≤ 45 ℃ |
| Caratteristiche di sicurezza | Interruzione a coperchio aperto, protezione perdite | Interruzione a coperchio aperto, protezione perdite | Interruzione a coperchio aperto, protezione perdite |
| Interfaccia di comunicazione | RS485 (Standard) | RS485 (Standard) | RS485 (Standard) |
Perché scegliere questo sistema a doppia zona
- Uniformità termica superiore: Sfruttando gli elementi Kanthal A1 svedesi e i modelli di isolamento progettati in Giappone, questa unità fornisce un campo di temperatura più stabile e prevedibile rispetto alle alternative standard del settore.
- Affidabilità comprovata nella R&S: Costruiti per cicli di lunga durata, gli elementi riscaldanti e i materiali della camera ad alta purezza sono scelti specificamente per resistere all'ossidazione e allo shock termico, riducendo i tempi di inattività per manutenzione.
- Gestione avanzata dei dati: L'inclusione della comunicazione industriale RS485 e del software in tempo reale consente la tracciabilità completa di ogni ciclo termico, essenziale per audit trail e risultati di ricerca ripetibili.
- Prestazioni del vuoto espandibili: Che il tuo processo richieda una semplice pompa meccanica o un sistema molecolare ad alto vuoto, il design modulare della flangia di questo forno può essere personalizzato per soddisfare requisiti atmosferici specifici.
- Ingegneria orientata alla sicurezza: Le protezioni integrate, incluse opzioni di schede elettriche certificate UL e isolamento automatico dell'alimentazione, garantiscono un ambiente di lavoro sicuro per ricercatori e tecnici.
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