Forno tubolare
Forno a tubo a doppia zona ad alta temperatura per la ricerca nella scienza dei materiali e il trattamento termico professionale
Numero articolo: TU-GS02
Spedizione: Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.
Panoramica del prodotto
Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni rappresenta l'apice della tecnologia di trattamento termico a doppia zona, specificamente progettato per la ricerca nella scienza dei materiali e per la R&S industriale avanzata. Fornendo due zone di riscaldamento controllate indipendentemente, l'apparecchiatura consente la creazione di gradienti termici precisi o campi di temperatura uniformi estesi, rendendola uno strumento essenziale per complessi processi di deposizione chimica da vapore (CVD) e trasporto fisico da vapore. Il sistema è costruito con un'attenzione particolare alla stabilità termica e all'affidabilità operativa a lungo termine in ambienti di laboratorio esigenti.
Progettata per la versatilità, l'unità supporta un'ampia gamma di atmosfere, inclusi vuoto, gas inerti e ambienti reattivi. È ampiamente utilizzata nei settori dei semiconduttori, aerospaziale e della ceramica avanzata per la sintesi di nanomateriali, la sinterizzazione di polveri ad alta purezza e l'esecuzione di ricotture controllate. Il valore aggiunto di questo sistema risiede nella sua capacità di fornire cicli termici ripetibili e ad alta precisione, fondamentali per la moderna caratterizzazione e sviluppo dei materiali.
Gli utenti possono utilizzare l'unità con assoluta sicurezza, grazie alla sua ingegneria robusta e alla selezione di componenti premium. Dall'isolamento della camera di sviluppo giapponese agli elementi riscaldanti di provenienza svedese, ogni aspetto di questa apparecchiatura è ottimizzato per la durata e le prestazioni. L'integrazione di protocolli di sicurezza avanzati, inclusi l'isolamento automatico dell'alimentazione e la protezione contro le perdite, garantisce che il forno rimanga una risorsa affidabile in strutture di ricerca ad alto rischio dove precisione e sicurezza non possono essere compromesse.
Caratteristiche principali
- Controllo indipendente a doppia zona: Questo sistema è dotato di due zone di riscaldamento separate, ciascuna gestita dal proprio controller PID intelligente. Questa architettura consente ai ricercatori di stabilire gradienti di temperatura specifici o di mantenere una zona isoterma significativamente più lunga rispetto alle configurazioni a zona singola.
- Elementi premium svedesi Kanthal A1: Il forno utilizza filo di resistenza Kanthal A1 originale, rinomato per la sua capacità di raggiungere alte temperature superficiali senza ossidarsi o perdere scorie. Ciò garantisce un ambiente di elaborazione pulito e una durata utile significativamente più lunga rispetto alle leghe standard ferro-cromo-alluminio.
- Design avanzato di simulazione termica: La spaziatura interna e il passo degli elementi riscaldanti sono ottimizzati tramite simulazione software termica giapponese. Questo approccio altamente ingegneristico garantisce che il campo di temperatura sia perfettamente bilanciato, prevenendo punti caldi localizzati e garantendo una distribuzione uniforme del calore attorno al tubo di processo.
- Isolamento policristallino in allumina ad alta purezza: La camera è costruita utilizzando fibra di allumina stampata ad aspirazione sottovuoto. Questo materiale ad alta purezza offre una massa termica eccezionalmente bassa, consentendo rapidi tassi di riscaldamento e raffreddamento mantenendo un'efficienza energetica superiore e l'integrità strutturale alle temperature di picco.
- Ponte di comunicazione digitale RS485: L'apparecchiatura è dotata di un'interfaccia di comunicazione standard e software dedicato, che consente il controllo remoto completo tramite PC. Gli utenti possono monitorare i valori PV/SV in tempo reale, registrare i dati di temperatura per la documentazione e memorizzare profili di riscaldamento complessi per richiami futuri.
- Interblocchi di sicurezza completi: Per una maggiore protezione dell'operatore, l'unità include un sistema di protezione a copertura aperta che scollega automaticamente l'alimentazione agli elementi riscaldanti quando il forno viene aperto. Questo è completato da un protettore di dispersione integrato e un interruttore d'aria per prevenire sovratensioni elettriche.
- Opzioni flessibili per vuoto e atmosfera: Il sistema può essere configurato con varie flange per vuoto in acciaio inossidabile, incluse varianti incernierate, raffreddate ad acqua o con interfaccia KF25. Questa flessibilità consente livelli di vuoto che raggiungono i 10^-3 Pa se abbinati a sistemi di pompe molecolari appropriati.
- Profilazione intelligente della temperatura: Il controller intelligente standard supporta 30 segmenti programmabili, consentendo complessi protocolli di rampa, mantenimento e raffreddamento. Dispone inoltre di protezione contro le interruzioni di corrente, garantendo che il processo riprenda correttamente dopo un'interruzione dell'alimentazione.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | Sintesi di film sottili e nanotubi di carbonio utilizzando precursori in fase gassosa. | Controllo preciso del gradiente per una deposizione ottimale del precursore. |
| Crescita dei cristalli | Crescita di monocristalli tramite trasporto fisico da vapore o metodi Bridgman. | Differenza di temperatura stabile a doppia zona per una nucleazione controllata. |
| Ricottura di semiconduttori | Trattamento termico di wafer di silicio o semiconduttori composti in gas controllati. | L'elevata uniformità garantisce coerenza tra i lotti nelle proprietà dei wafer. |
| Sinterizzazione di nuovi materiali | Consolidamento ad alta temperatura di ceramiche avanzate e compositi a matrice metallica. | L'ambiente pulito con elementi Kanthal svedesi previene la contaminazione. |
| Ricerca atmosferica | Test di degradazione dei materiali in specifici ambienti poveri di ossigeno o gas inerti. | Gestione affidabile del gas con guarnizioni a flangia per vuoto ad alta integrità. |
| Test dei catalizzatori | Valutazione dell'efficienza di vari materiali catalitici a temperature elevate. | Registrazione dei dati in tempo reale per estrarre parametri cinetici precisi. |
Specifiche tecniche
| Parametro | TU-GS02-60 | TU-GS02-80 | TU-GS02-100 |
|---|---|---|---|
| Temperatura massima | 1200 ℃ | 1200 ℃ | 1200 ℃ |
| Temperatura nominale continua | 1100 ℃ | 1100 ℃ | 1100 ℃ |
| Potenza in uscita | 2,5 KW | 2,5 KW | 3,5 KW |
| Dimensioni tubo di processo (OD) | Φ 60 mm x 1300 mm | Φ 80 mm x 1300 mm | Φ 100 mm x 1300 mm |
| Lunghezza di riscaldamento | 420 mm (Doppia zona) | 420 mm (Doppia zona) | 420 mm (Doppia zona) |
| Tipo di elemento riscaldante | Kanthal A1 svedese | Kanthal A1 svedese | Kanthal A1 svedese |
| Tipo di termocoppia | Tipo K | Tipo K | Tipo K |
| Precisione di controllo | ± 1 ℃ | ± 1 ℃ | ± 1 ℃ |
| Tensione di alimentazione | 220V Monofase | 220V Monofase | 220V Monofase |
| Velocità di riscaldamento | Consigliata ≤15℃/min | Consigliata ≤15℃/min | Consigliata ≤15℃/min |
| Tipo di controller | Yu Electric PID a 30 segmenti | Yu Electric PID a 30 segmenti | Yu Electric PID a 30 segmenti |
| Capacità di vuoto | Opzionale da 10^-3 Pa a 10 Pa | Opzionale da 10^-3 Pa a 10 Pa | Opzionale da 10^-3 Pa a 10 Pa |
| Isolamento camera | Fibra policristallina di allumina | Fibra policristallina di allumina | Fibra policristallina di allumina |
| Temperatura superficiale | ≤ 45 ℃ | ≤ 45 ℃ | ≤ 45 ℃ |
| Caratteristiche di sicurezza | Interruzione a coperchio aperto, protezione perdite | Interruzione a coperchio aperto, protezione perdite | Interruzione a coperchio aperto, protezione perdite |
| Interfaccia di comunicazione | RS485 (Standard) | RS485 (Standard) | RS485 (Standard) |
Perché scegliere questo sistema a doppia zona
- Uniformità termica superiore: Sfruttando gli elementi Kanthal A1 svedesi e i modelli di isolamento progettati in Giappone, questa unità fornisce un campo di temperatura più stabile e prevedibile rispetto alle alternative standard del settore.
- Affidabilità comprovata nella R&S: Costruiti per cicli di lunga durata, gli elementi riscaldanti e i materiali della camera ad alta purezza sono scelti specificamente per resistere all'ossidazione e allo shock termico, riducendo i tempi di inattività per manutenzione.
- Gestione avanzata dei dati: L'inclusione della comunicazione industriale RS485 e del software in tempo reale consente la tracciabilità completa di ogni ciclo termico, essenziale per audit trail e risultati di ricerca ripetibili.
- Prestazioni del vuoto espandibili: Che il tuo processo richieda una semplice pompa meccanica o un sistema molecolare ad alto vuoto, il design modulare della flangia di questo forno può essere personalizzato per soddisfare requisiti atmosferici specifici.
- Ingegneria orientata alla sicurezza: Le protezioni integrate, incluse opzioni di schede elettriche certificate UL e isolamento automatico dell'alimentazione, garantiscono un ambiente di lavoro sicuro per ricercatori e tecnici.
Contatta THERMUNITS oggi stesso per discutere i tuoi requisiti specifici di trattamento termico o per richiedere un preventivo personalizzato per la tua configurazione di laboratorio.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Prodotti correlati
Forno a Tubo in Quarzo a Doppia Zona con Diametro 80mm, Temperatura Massima 1200°C, Miscelatore Gas a 3 Canali e Sistema a Pompa a Vuoto
Questo avanzato forno a tubo in quarzo a doppia zona presenta un tubo di 80 mm di diametro, un sistema integrato di miscelazione gas a tre canali e un sistema a vuoto ad alte prestazioni. Perfetto per CVD e ricerca sui materiali, offre una lavorazione termica precisa a 1200°C e capacità di monitoraggio del vuoto anti-corrosione.
Forno Tubolare a Doppia Zona 1100°C con Tubo in Quarzo da 11 Pollici e Flange a Vuoto per la Lavorazione di Wafer da 8 Pollici
Questo avanzato forno tubolare a doppia zona ad alta temperatura è progettato con un tubo in quarzo da 11 pollici e una zona riscaldante da 24 pollici per garantire un'eccezionale uniformità termica per il ricottura di wafer da 8 pollici, la sinterizzazione di materiali e attrezzature di ricerca specializzate per la deposizione chimica da vapore per uso industriale e di laboratorio.
Forno a tubo diviso a doppia zona da 1200°C con tubo in quarzo fuso e flange per vuoto, disponibile con diametri da 60mm, 80mm e 100mm
Migliora la ricerca sui materiali con questo forno a tubo diviso a doppia zona da 1200°C, dotato di controllo indipendente della temperatura per gradienti termici precisi. Equipaggiato con tubi in quarzo fuso e flange di tenuta sottovuoto, è la soluzione ideale per la CVD avanzata e la sintesi di nanomateriali.
Forno a tubo scorrevole a doppia zona di temperatura da 1200°C per la crescita di materiali 2D e sintesi TCVD
Ottimizza la sintesi avanzata di materiali 2D utilizzando questo sistema a doppio forno da 1200°C, dotato di zona di riscaldamento scorrevole per un raffreddamento ultra-rapido, controllo indipendente della temperatura PID e lavorazione in quarzo ad alta purezza, progettato per la deposizione chimica da vapore termica di precisione e R&S.
Forno a tubo a doppia zona ad alta temperatura 1700°C per la scienza dei materiali e la ricerca industriale sulla deposizione chimica da vapore
Questo forno a tubo a doppia zona ad alta temperatura da 1700°C fornisce un controllo indipendente per gradienti termici precisi, ideale per CVD, PVD e crescita di cristalli nella ricerca sui materiali avanzati, dotato di elementi in MoSi2 e integrazione robusta con tubo in allumina a tenuta di vuoto per l'affidabilità industriale.
Forno a tubo diviso compatto da 1200°C a doppia zona di riscaldamento con tubo opzionale da 1" - 2" e flange per vuoto
Questo forno a tubo diviso compatto da 1200°C a doppia zona di riscaldamento offre un controllo preciso del gradiente di temperatura e capacità di vuoto. Progettato per la ricerca e sviluppo nella scienza dei materiali, è dotato di controller PID indipendenti, flange in acciaio inossidabile e isolamento fibroso ad alta efficienza energetica per prestazioni di laboratorio costanti.
Forno a tubo a doppia zona allungato ad alta temperatura per la ricerca sui materiali e il trattamento termico industriale
Migliora la tua ricerca sui materiali con questo forno a tubo a doppia zona allungato ad alte prestazioni. Dotato di elementi svedesi Kanthal A1 e controllo PID avanzato, garantisce un'eccezionale uniformità termica fino a 1200°C per applicazioni di ricerca e sviluppo industriali e di laboratorio nell'ingegneria moderna.
Forno a tubo verticale sdoppiato a doppia zona da 1100°C con tubo in quarzo da 4 pollici e flange a tenuta sottovuoto
Questo forno a tubo verticale sdoppiato a doppia zona da 1100°C è dotato di un tubo in quarzo da quattro pollici e flange a tenuta sottovuoto. Progettato per applicazioni CVD e PVD, questo sistema ad alta precisione offre un'eccezionale uniformità termica per la ricerca e lo sviluppo in laboratorio.
Forno tubolare a vuoto a doppia zona ad alta temperatura per ricerca sui materiali e processi CVD
Migliora le capacità del tuo laboratorio con questo forno tubolare a vuoto a doppia zona ad alta precisione. Progettato per la ricerca avanzata sui materiali e i processi CVD, offre controllo indipendente della temperatura, rapidi tassi di riscaldamento e una robusta tenuta del vuoto per risultati di trattamento termico costanti di livello industriale.
Forno a tubo diviso a doppia zona ad alta temperatura per sinterizzazione in atmosfera avanzata e applicazioni CVD sottovuoto
Migliora la tua ricerca sui materiali con questo forno a tubo diviso a doppia zona ad alta precisione da 1400°C. Dotato di controllo indipendente della temperatura, capacità di sinterizzazione in atmosfera e stabilità termica superiore, è la soluzione ideale per esperimenti CVD avanzati e progetti di trattamento termico industriale.
Forno a Tubo Scorrevole Automatico a Doppia Zona da 1200°C per la Crescita di Dicalcogenuri di Metalli di Transizione 2D e Ricerca sulla Sublimazione dei Materiali
Padroneggia la sintesi di materiali 2D con questo sistema a doppio forno scorrevole automatico da 1200°C progettato per la crescita di TMD. Caratterizzato da zone di sublimazione e deposizione indipendenti per un controllo termico preciso e velocità di raffreddamento rapide per garantire risultati di ricerca di produzione di cristalli a film sottile di alta qualità.
Forno a tubo diviso a doppia zona con controllo dell'atmosfera ad alto vuoto e raffreddamento rapido
Progettato per l'eccellenza, questo forno a tubo diviso a doppia zona offre tempra di precisione e controllo dell'atmosfera sotto vuoto. Utilizzando sistemi di controllo giapponesi avanzati ed elementi riscaldanti di alta qualità, garantisce profili termici uniformi per la ricerca critica sui materiali e per i processi di R&S industriale ad alte prestazioni.
Forno a tubo a doppia zona di temperatura e doppio coperchio per CVD ad alta temperatura e ricottura sottovuoto
Forno a tubo professionale a doppia zona di temperatura ad alta temperatura, dotato di elementi riscaldanti Kanthal A1 e controllo PID avanzato per applicazioni di ricerca e industriali. Questo sistema offre un trattamento termico preciso per CVD, ricottura sottovuoto e sinterizzazione di materiali con un'affidabilità senza pari.
Forno a tubo a riscaldamento rapido a doppia zona Sistema a vuoto e atmosfera ad alta temperatura
Questo forno a tubo a riscaldamento rapido a doppia zona ad alte prestazioni offre una temperatura massima di 1200°C con velocità di rampa rapide di 100°C al minuto, controllo PID di precisione e capacità di atmosfera sotto vuoto per la ricerca avanzata sui materiali, la sinterizzazione e le applicazioni di deposizione chimica da vapore.
Forno a tubo diviso a due zone da 1500°C con flangia sottovuoto e tubo in allumina da 80 mm
Forno a tubo diviso a due zone ad alte prestazioni da 1500°C, dotato di tubo in allumina da 80 mm, elementi riscaldanti in SiC e controllo PID preciso. Ideale per la ricerca e sviluppo sui materiali, la deposizione chimica da vapore (CVD) e il trattamento termico con capacità di vuoto e atmosfere multiple per applicazioni avanzate di ricerca in laboratorio industriale.
Forno a tubo a idrogeno a doppia zona da 1100°C con tubo al quarzo e sistema integrato di rilevamento perdite H2
Questo forno a tubo a idrogeno a doppia zona ad alte prestazioni è dotato di un rilevatore di gas Honeywell integrato per un trattamento termico sicuro fino a 1100°C. Progettato per la ricerca e sviluppo nella scienza dei materiali, offre un controllo preciso dell'atmosfera con tubi al quarzo da 60 mm o 80 mm di diametro.
Forno a tubo allungato a due zone di temperatura per il trattamento termico industriale e la ricerca nella scienza dei materiali
Questo forno a tubo allungato a due zone di temperatura è dotato di elementi svedesi Kanthal A1 e di un avanzato controllo PID per una ricerca sui materiali di precisione. Con opzioni per vuoto e atmosfera, offre una superiore uniformità termica e affidabilità per le impegnative applicazioni di trattamento termico nei laboratori industriali.
Forno a tubo rotativo a due zone per rivestimento CVD di polveri e sintesi di materiali core-shell 1100°C
Ottimizza la lavorazione delle polveri con questo forno a tubo rotativo a due zone ad alte prestazioni da 1100°C. Progettato specificamente per il rivestimento CVD e la sintesi core-shell, è dotato di un tubo in quarzo da cinque pollici e pale di miscelazione per garantire un'eccezionale uniformità termica e una produzione costante di lotti di materiale.
Forno a tubo rotante a doppia temperatura con rotazione di precisione e inclinazione regolabile per la ricerca avanzata sui materiali
Forno a tubo rotante a doppia temperatura ad alte prestazioni, dotato di elementi Kanthal A1 e rotazione di precisione per un trattamento uniforme dei materiali. Ideale per applicazioni CVD e di R&S che richiedono un controllo termico affidabile e un'inclinazione regolabile in esigenti ambienti di laboratorio industriale.
Forno a tubo per trattamento termico rapido (RTP) a riscaldamento IR a due zone con tubo in quarzo da 4 pollici di diametro interno e portacampioni scorrevoli
Forno a tubo RTP a riscaldamento IR a due zone ad alte prestazioni, dotato di tubo in quarzo da 4 pollici di diametro interno e doppio portacampioni scorrevole. Raggiunge velocità di riscaldamento di 50°C/s per la sintesi avanzata di materiali 2D, la ricerca sui superconduttori e i processi di deposizione di vapore ad alta velocità di precisione.
