Forno tubolare
Forno a tubo allungato a due zone di temperatura per il trattamento termico industriale e la ricerca nella scienza dei materiali
Numero articolo: TU-GS09
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Panoramica del prodotto

Questo sistema di trattamento termico allungato ad alte prestazioni è progettato per soddisfare le rigorose esigenze della moderna scienza dei materiali e della ricerca e sviluppo industriale. Utilizzando una configurazione a doppia zona di temperatura, l'apparecchiatura offre ai ricercatori la flessibilità di stabilire gradienti di temperatura precisi o di mantenere zone di riscaldamento uniforme estese. Il valore fondamentale di questa unità risiede nella sua capacità di fornire cicli termici costanti e ripetibili, essenziali per la sintesi di materiali avanzati e l'ottimizzazione dei protocolli di trattamento termico industriale.
Progettato per la versatilità, il sistema è un punto fermo nei laboratori che si concentrano su deposizione chimica da vapore (CVD), sinterizzazione e processi di ricottura nei settori dei semiconduttori, aerospaziale ed energetico. Il suo design allungato consente la lavorazione di campioni più lunghi o l'implementazione di reazioni termiche multistadio all'interno di un unico ambiente controllato. Questa apparecchiatura eccelle nel fornire un'atmosfera stabile, sia che operi in condizioni ambientali, sottovuoto o con composizioni di gas specifiche, rendendola uno strumento indispensabile per trasformazioni materiali complesse.
L'affidabilità è al centro della costruzione di questa unità. Dotato di elementi riscaldanti di alta qualità e materiali isolanti ad alta purezza, il sistema è costruito per resistere al funzionamento continuo a temperature elevate senza degradazione. Il robusto design strutturale, combinato con avanzate protezioni elettroniche, garantisce che l'apparecchiatura rimanga una risorsa affidabile in ambienti di R&S ad alto rischio. Gli acquirenti possono avere piena fiducia nelle prestazioni del sistema, supportate da un'ingegneria di precisione e da un impegno per la longevità operativa in condizioni industriali impegnative.
Caratteristiche principali
- Elementi riscaldanti premium svedesi Kanthal A1: Il sistema utilizza filo di resistenza Kanthal A1 importato, in grado di raggiungere temperature superficiali di 1420℃. A differenza delle leghe standard nazionali, questi elementi hanno una resistenza uniforme, prevenendo punti caldi localizzati e garantendo un campo di temperatura bilanciato che non si sfalderà né produrrà scorie nel tempo.
- Camera in fibra policristallina di allumina avanzata: La camera del forno è costruita utilizzando fibra di allumina ad alta purezza, formata tramite aspirazione sottovuoto e stampaggio a filtro. Questa tecnologia di ispirazione giapponese si traduce in un isolamento leggero e a bassa massa termica che offre un'eccezionale efficienza energetica e rapidi tassi di risposta al riscaldamento/raffreddamento.
- Ingegneria del campo termico ottimizzata: La spaziatura e il passo degli elementi riscaldanti sono disposti con precisione secondo simulazioni software termiche. Impiegando il riscaldamento su quattro lati, l'apparecchiatura ottiene una superiore uniformità di temperatura, fondamentale per reazioni chimiche sensibili e cambiamenti di fase dei materiali.
- Regolazione intelligente della temperatura PID: Dotato di un sofisticato controller programmabile a 30 segmenti, il sistema offre una regolazione PID intelligente con una precisione di ±1℃. Include funzioni come la protezione contro le interruzioni di corrente, assicurando che il programma riprenda dal punto di interruzione invece di riavviarsi dalla temperatura ambiente.
- Sistemi integrati di sicurezza e protezione: Per la sicurezza dell'operatore e dell'apparecchiatura, l'unità include un interruttore automatico di alimentazione all'apertura del coperchio, protezione da sovratemperatura e salvaguardie per guasto della termocoppia. Un interruttore d'aria integrato e un protettore contro le perdite forniscono strati secondari di sicurezza elettrica durante le operazioni ad alta corrente.
- Monitoraggio e controllo remoto completi: Il sistema include un'interfaccia di comunicazione RS485 standard e un software dedicato. Ciò consente agli utenti di controllare i parametri da un computer, osservare le curve PV (Valore di Processo) e SV (Valore Impostato) in tempo reale e registrare i dati storici per il controllo qualità e la documentazione accademica.
- Esterno in acciaio inossidabile resistente: Il guscio esterno è rifinito con una superficie in acciaio inossidabile brillante di alta qualità. Questa scelta di materiale previene ruggine e corrosione negli ambienti di laboratorio, mantenendo l'aspetto professionale e l'integrità strutturale dell'unità nel corso degli anni di utilizzo.
- Versatile compatibilità con atmosfera e vuoto: L'apparecchiatura è progettata per funzionare con vari sistemi di vuoto e configurazioni di alimentazione del gas. Dalle semplici pompe meccaniche ai sistemi molecolari ad alto vuoto e ai regolatori di flusso di massa, l'unità si adatta ai requisiti atmosferici specifici del processo dell'utente.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Processi CVD / PECVD | Crescita di nanotubi di carbonio, grafene e film sottili utilizzando precursori in fase gassosa. | Controllo preciso del flusso di gas e del gradiente di temperatura per una deposizione uniforme. |
| Sinterizzazione ceramica | Densificazione ad alta temperatura di ceramiche strutturali ed elettroniche avanzate. | Il riscaldamento uniforme previene le crepe e garantisce una densità del materiale costante. |
| Ricerca sui materiali per batterie | Calcinazione e sintesi di materiali catodici/anodici in atmosfere controllate. | Stabilità termica a lungo termine per prestazioni elettrochimiche costanti. |
| Ricottura dei metalli | Distensione delle tensioni e affinamento della struttura del grano di leghe speciali e parti semilavorate. | Controllo accurato della velocità di raffreddamento per ottenere le proprietà meccaniche desiderate. |
| Doping dei semiconduttori | Diffusione di droganti in wafer di silicio o altri substrati semiconduttori. | L'ambiente della camera ad alta purezza previene la contaminazione di wafer sensibili. |
| Test dei catalizzatori | Valutazione dell'attività catalitica e della stabilità termica in un ambiente a tubo a flusso continuo. | Capacità di simulare condizioni di reattore industriale reali con alta precisione. |
| Degasaggio sottovuoto | Rimozione di gas intrappolati da componenti metallici o in vetro per migliorare la purezza. | Il robusto design della flangia per vuoto mantiene l'integrità dell'alto vuoto alla temperatura. |
Specifiche tecniche
| Parametro | TU-GS09-I | TU-GS09-II | TU-GS09-III |
|---|---|---|---|
| Temperatura massima | 1200 ℃ | 1200 ℃ | 1200 ℃ |
| Temperatura nominale | 1100 ℃ | 1100 ℃ | 1100 ℃ |
| Dimensioni tubo (DE x Lunghezza) | Φ50 x 1200 mm | Φ60 x 1000 mm | Φ80 x 1000 mm |
| Lunghezza di riscaldamento | 250 mm | 250 mm | 250 mm |
| Lunghezza temp. costante | 250 mm | 250 mm | 250 mm |
| Potenza di riscaldamento | 4.0 KW | 4.0 KW | 4.0 KW |
| Tensione / Fase | 220V / Monofase | 220V / Monofase | 220V / Monofase |
| Dimensioni complessive (mm) | 800 x 290 x 415 | 610 x 370 x 515 | 610 x 370 x 550 |
| Elemento riscaldante | Kanthal A1 (Svezia) | Kanthal A1 (Svezia) | Kanthal A1 (Svezia) |
| Precisione di controllo | ± 1 ℃ | ± 1 ℃ | ± 1 ℃ |
| Velocità di riscaldamento | ≤ 30 ℃/min | ≤ 30 ℃/min | ≤ 30 ℃/min |
| Tipo di termocoppia | Tipo K | Tipo K | Tipo K |
| Materiale della camera | Fibra di allumina | Fibra di allumina | Fibra di allumina |
| SCR / Trigger | SEMIKRON / Spostamento di fase | SEMIKRON / Spostamento di fase | SEMIKRON / Spostamento di fase |
| Temperatura superficiale | ≤ 45 ℃ | ≤ 45 ℃ | ≤ 45 ℃ |
Sistemi e moduli opzionali
| Tipo di sistema | Opzioni / Componenti disponibili |
|---|---|
| Sistemi sottovuoto | Monostadio (10Pa), Bistadio (1Pa), VS-0.1 (0.1Pa), Molecolare ad alto vuoto (10⁻³ Pa), Pompa a pressione costante |
| Alimentazione gas | Gorgogliatore di gas, Sistema di erogazione con misuratore di portata di massa (MFC), Evaporatore di liquidi |
| Controller | Shimaden FP93 (Giappone), Eurotherm (Regno Unito), Interfaccia touch screen integrata |
| Manometri per vuoto | Manometro capacitivo Inficon (Regno Unito) (PCG550/PCG554) per misurazioni di gas ad alta precisione |
| Conformità | Scheda elettrica e componenti certificati UL (Opzionale) |
Perché scegliere TU-GS09
- Qualità superiore dei componenti: Integrando elementi svedesi Kanthal A1, garantiamo una durata di 2 anni sui componenti di riscaldamento, offrendo un'affidabilità significativamente superiore rispetto ai concorrenti che utilizzano leghe standard ferro-cromo-alluminio.
- Gestione precisa della temperatura: Il nostro utilizzo della tecnologia di modellazione termica giapponese per la progettazione della camera garantisce un campo di temperatura perfettamente bilanciato, riducendo le variabili sperimentali e migliorando la resa del prodotto.
- Robusta ingegneria di sicurezza: Ogni unità è dotata di funzioni di sicurezza multistrato, inclusa la protezione all'apertura del coperchio e la protezione contro le rotture accidentali, dando priorità alla sicurezza del personale di laboratorio e delle strutture.
- Personalizzazione flessibile del sistema: Che tu richieda capacità di alto vuoto, controllo del gas a flusso di massa o componenti elettronici certificati UL per la conformità internazionale, il sistema può essere adattato ai tuoi specifici requisiti di processo.
- Intelligenza dati integrata: Con la comunicazione 485 standard e la registrazione dei dati in tempo reale, questo forno passa da un semplice strumento di riscaldamento a uno strumento di ricerca intelligente, fornendo una tracciabilità completa per i tuoi processi termici.
Investire in questo forno a tubo allungato garantisce che il tuo laboratorio sia dotato di una soluzione di trattamento termico premium che bilancia precisione, sicurezza e coerenza operativa a lungo termine. Contatta oggi stesso il nostro team di vendita tecnica per una configurazione personalizzata o un preventivo formale su misura per i tuoi specifici obiettivi di ricerca.
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