Forno a tubo allungato a due zone di temperatura per il trattamento termico industriale e la ricerca nella scienza dei materiali

Forno tubolare

Forno a tubo allungato a due zone di temperatura per il trattamento termico industriale e la ricerca nella scienza dei materiali

Numero articolo: TU-GS09

Temperatura massima: 1200°C Elemento riscaldante: Swedish Kanthal A1 Precisione di controllo: ±1°C
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Panoramica del prodotto

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Questo sistema di trattamento termico allungato ad alte prestazioni è progettato per soddisfare le rigorose esigenze della moderna scienza dei materiali e della ricerca e sviluppo industriale. Utilizzando una configurazione a doppia zona di temperatura, l'apparecchiatura offre ai ricercatori la flessibilità di stabilire gradienti di temperatura precisi o di mantenere zone di riscaldamento uniforme estese. Il valore fondamentale di questa unità risiede nella sua capacità di fornire cicli termici costanti e ripetibili, essenziali per la sintesi di materiali avanzati e l'ottimizzazione dei protocolli di trattamento termico industriale.

Progettato per la versatilità, il sistema è un punto fermo nei laboratori che si concentrano su deposizione chimica da vapore (CVD), sinterizzazione e processi di ricottura nei settori dei semiconduttori, aerospaziale ed energetico. Il suo design allungato consente la lavorazione di campioni più lunghi o l'implementazione di reazioni termiche multistadio all'interno di un unico ambiente controllato. Questa apparecchiatura eccelle nel fornire un'atmosfera stabile, sia che operi in condizioni ambientali, sottovuoto o con composizioni di gas specifiche, rendendola uno strumento indispensabile per trasformazioni materiali complesse.

L'affidabilità è al centro della costruzione di questa unità. Dotato di elementi riscaldanti di alta qualità e materiali isolanti ad alta purezza, il sistema è costruito per resistere al funzionamento continuo a temperature elevate senza degradazione. Il robusto design strutturale, combinato con avanzate protezioni elettroniche, garantisce che l'apparecchiatura rimanga una risorsa affidabile in ambienti di R&S ad alto rischio. Gli acquirenti possono avere piena fiducia nelle prestazioni del sistema, supportate da un'ingegneria di precisione e da un impegno per la longevità operativa in condizioni industriali impegnative.

Caratteristiche principali

  • Elementi riscaldanti premium svedesi Kanthal A1: Il sistema utilizza filo di resistenza Kanthal A1 importato, in grado di raggiungere temperature superficiali di 1420℃. A differenza delle leghe standard nazionali, questi elementi hanno una resistenza uniforme, prevenendo punti caldi localizzati e garantendo un campo di temperatura bilanciato che non si sfalderà né produrrà scorie nel tempo.
  • Camera in fibra policristallina di allumina avanzata: La camera del forno è costruita utilizzando fibra di allumina ad alta purezza, formata tramite aspirazione sottovuoto e stampaggio a filtro. Questa tecnologia di ispirazione giapponese si traduce in un isolamento leggero e a bassa massa termica che offre un'eccezionale efficienza energetica e rapidi tassi di risposta al riscaldamento/raffreddamento.
  • Ingegneria del campo termico ottimizzata: La spaziatura e il passo degli elementi riscaldanti sono disposti con precisione secondo simulazioni software termiche. Impiegando il riscaldamento su quattro lati, l'apparecchiatura ottiene una superiore uniformità di temperatura, fondamentale per reazioni chimiche sensibili e cambiamenti di fase dei materiali.
  • Regolazione intelligente della temperatura PID: Dotato di un sofisticato controller programmabile a 30 segmenti, il sistema offre una regolazione PID intelligente con una precisione di ±1℃. Include funzioni come la protezione contro le interruzioni di corrente, assicurando che il programma riprenda dal punto di interruzione invece di riavviarsi dalla temperatura ambiente.
  • Sistemi integrati di sicurezza e protezione: Per la sicurezza dell'operatore e dell'apparecchiatura, l'unità include un interruttore automatico di alimentazione all'apertura del coperchio, protezione da sovratemperatura e salvaguardie per guasto della termocoppia. Un interruttore d'aria integrato e un protettore contro le perdite forniscono strati secondari di sicurezza elettrica durante le operazioni ad alta corrente.
  • Monitoraggio e controllo remoto completi: Il sistema include un'interfaccia di comunicazione RS485 standard e un software dedicato. Ciò consente agli utenti di controllare i parametri da un computer, osservare le curve PV (Valore di Processo) e SV (Valore Impostato) in tempo reale e registrare i dati storici per il controllo qualità e la documentazione accademica.
  • Esterno in acciaio inossidabile resistente: Il guscio esterno è rifinito con una superficie in acciaio inossidabile brillante di alta qualità. Questa scelta di materiale previene ruggine e corrosione negli ambienti di laboratorio, mantenendo l'aspetto professionale e l'integrità strutturale dell'unità nel corso degli anni di utilizzo.
  • Versatile compatibilità con atmosfera e vuoto: L'apparecchiatura è progettata per funzionare con vari sistemi di vuoto e configurazioni di alimentazione del gas. Dalle semplici pompe meccaniche ai sistemi molecolari ad alto vuoto e ai regolatori di flusso di massa, l'unità si adatta ai requisiti atmosferici specifici del processo dell'utente.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio chiave
Processi CVD / PECVD Crescita di nanotubi di carbonio, grafene e film sottili utilizzando precursori in fase gassosa. Controllo preciso del flusso di gas e del gradiente di temperatura per una deposizione uniforme.
Sinterizzazione ceramica Densificazione ad alta temperatura di ceramiche strutturali ed elettroniche avanzate. Il riscaldamento uniforme previene le crepe e garantisce una densità del materiale costante.
Ricerca sui materiali per batterie Calcinazione e sintesi di materiali catodici/anodici in atmosfere controllate. Stabilità termica a lungo termine per prestazioni elettrochimiche costanti.
Ricottura dei metalli Distensione delle tensioni e affinamento della struttura del grano di leghe speciali e parti semilavorate. Controllo accurato della velocità di raffreddamento per ottenere le proprietà meccaniche desiderate.
Doping dei semiconduttori Diffusione di droganti in wafer di silicio o altri substrati semiconduttori. L'ambiente della camera ad alta purezza previene la contaminazione di wafer sensibili.
Test dei catalizzatori Valutazione dell'attività catalitica e della stabilità termica in un ambiente a tubo a flusso continuo. Capacità di simulare condizioni di reattore industriale reali con alta precisione.
Degasaggio sottovuoto Rimozione di gas intrappolati da componenti metallici o in vetro per migliorare la purezza. Il robusto design della flangia per vuoto mantiene l'integrità dell'alto vuoto alla temperatura.

Specifiche tecniche

Parametro TU-GS09-I TU-GS09-II TU-GS09-III
Temperatura massima 1200 ℃ 1200 ℃ 1200 ℃
Temperatura nominale 1100 ℃ 1100 ℃ 1100 ℃
Dimensioni tubo (DE x Lunghezza) Φ50 x 1200 mm Φ60 x 1000 mm Φ80 x 1000 mm
Lunghezza di riscaldamento 250 mm 250 mm 250 mm
Lunghezza temp. costante 250 mm 250 mm 250 mm
Potenza di riscaldamento 4.0 KW 4.0 KW 4.0 KW
Tensione / Fase 220V / Monofase 220V / Monofase 220V / Monofase
Dimensioni complessive (mm) 800 x 290 x 415 610 x 370 x 515 610 x 370 x 550
Elemento riscaldante Kanthal A1 (Svezia) Kanthal A1 (Svezia) Kanthal A1 (Svezia)
Precisione di controllo ± 1 ℃ ± 1 ℃ ± 1 ℃
Velocità di riscaldamento ≤ 30 ℃/min ≤ 30 ℃/min ≤ 30 ℃/min
Tipo di termocoppia Tipo K Tipo K Tipo K
Materiale della camera Fibra di allumina Fibra di allumina Fibra di allumina
SCR / Trigger SEMIKRON / Spostamento di fase SEMIKRON / Spostamento di fase SEMIKRON / Spostamento di fase
Temperatura superficiale ≤ 45 ℃ ≤ 45 ℃ ≤ 45 ℃

Sistemi e moduli opzionali

Tipo di sistema Opzioni / Componenti disponibili
Sistemi sottovuoto Monostadio (10Pa), Bistadio (1Pa), VS-0.1 (0.1Pa), Molecolare ad alto vuoto (10⁻³ Pa), Pompa a pressione costante
Alimentazione gas Gorgogliatore di gas, Sistema di erogazione con misuratore di portata di massa (MFC), Evaporatore di liquidi
Controller Shimaden FP93 (Giappone), Eurotherm (Regno Unito), Interfaccia touch screen integrata
Manometri per vuoto Manometro capacitivo Inficon (Regno Unito) (PCG550/PCG554) per misurazioni di gas ad alta precisione
Conformità Scheda elettrica e componenti certificati UL (Opzionale)

Perché scegliere TU-GS09

  • Qualità superiore dei componenti: Integrando elementi svedesi Kanthal A1, garantiamo una durata di 2 anni sui componenti di riscaldamento, offrendo un'affidabilità significativamente superiore rispetto ai concorrenti che utilizzano leghe standard ferro-cromo-alluminio.
  • Gestione precisa della temperatura: Il nostro utilizzo della tecnologia di modellazione termica giapponese per la progettazione della camera garantisce un campo di temperatura perfettamente bilanciato, riducendo le variabili sperimentali e migliorando la resa del prodotto.
  • Robusta ingegneria di sicurezza: Ogni unità è dotata di funzioni di sicurezza multistrato, inclusa la protezione all'apertura del coperchio e la protezione contro le rotture accidentali, dando priorità alla sicurezza del personale di laboratorio e delle strutture.
  • Personalizzazione flessibile del sistema: Che tu richieda capacità di alto vuoto, controllo del gas a flusso di massa o componenti elettronici certificati UL per la conformità internazionale, il sistema può essere adattato ai tuoi specifici requisiti di processo.
  • Intelligenza dati integrata: Con la comunicazione 485 standard e la registrazione dei dati in tempo reale, questo forno passa da un semplice strumento di riscaldamento a uno strumento di ricerca intelligente, fornendo una tracciabilità completa per i tuoi processi termici.

Investire in questo forno a tubo allungato garantisce che il tuo laboratorio sia dotato di una soluzione di trattamento termico premium che bilancia precisione, sicurezza e coerenza operativa a lungo termine. Contatta oggi stesso il nostro team di vendita tecnica per una configurazione personalizzata o un preventivo formale su misura per i tuoi specifici obiettivi di ricerca.

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