Forno a muffola
Forno a muffola a quattro canali ad alto rendimento, 1500°C max, controllo indipendente della temperatura, sistema di sinterizzazione per la ricerca sui materiali
Numero articolo: TU-CT17
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Panoramica del prodotto



Questo sistema di trattamento termico ad alto rendimento rappresenta un progresso significativo nella ricerca sulla scienza dei materiali e nei test di qualità industriali. Progettato come soluzione di riscaldamento a quattro moduli, consente ai ricercatori di eseguire quattro profili termici distinti simultaneamente all'interno di un unico ingombro compatto. Integrando quattro camere di riscaldamento indipendenti in una struttura unificata, l'apparecchiatura risolve il principale collo di bottiglia della produttività di laboratorio: la natura sequenziale dei processi dei forni tradizionali. Questa unità è progettata per fornire una temperatura operativa massima di 1500°C, rendendola uno strumento essenziale per la sinterizzazione ad alta temperatura, l'esplorazione dei diagrammi di fase e lo sviluppo di leghe complesse.
Il sistema è specificamente adattato per ambienti in cui l'efficienza e la precisione sono fondamentali, come laboratori universitari, istituti di ricerca avanzata e dipartimenti di R&S aziendali. Che si tratti di esplorare i diagrammi di fase di materiali di nuova generazione o di condurre rigorosi controlli di qualità su componenti industriali su piccola scala, questa apparecchiatura offre la flessibilità necessaria per testare più variabili in parallelo. Il suo design privilegia sia la rapida acquisizione di dati che l'applicazione coerente dello stress termico, garantendo che ogni campione sia trattato in condizioni esatte e ripetibili.
L'affidabilità è la pietra angolare di questa unità di trattamento termico. Costruito con materiali di prima qualità, tra cui fibra di allumina ad alta purezza e robusti elementi riscaldanti in carburo di silicio, il sistema è progettato per il funzionamento continuo in ambienti difficili. La costruzione a doppio guscio e i protocolli di raffreddamento integrati proteggono l'integrità dell'elettronica e garantiscono un ambiente esterno sicuro. I team di approvvigionamento possono investire con fiducia, sapendo che questo sistema è ottimizzato per un basso consumo energetico e una stabilità operativa a lungo termine, riducendo il costo totale di proprietà e massimizzando i risultati della ricerca.
Caratteristiche principali
- Controllo indipendente a quattro canali: Il sistema dispone di quattro moduli di riscaldamento separati, ciascuno dotato del proprio sistema di controllo della temperatura dedicato. Ciò consente l'elaborazione simultanea di quattro diversi campioni a quattro diverse temperature, quadruplicando efficacemente la produttività di un forno da laboratorio standard.
- Ingegneria ad alto rendimento: Consentendo l'elaborazione in parallelo, questa unità riduce significativamente il tempo richiesto per la caratterizzazione dei materiali e la mappatura dei diagrammi di fase. È una soluzione ideale per i ricercatori che devono osservare il comportamento dei materiali attraverso un gradiente di temperature in un'unica sessione.
- Controllo intelligente PID avanzato: Ogni canale utilizza un sofisticato sistema di controllo automatico della temperatura PID con un'interfaccia programmabile a 50 stadi. Ciò garantisce una precisione entro ±1°C, consentendo cicli complessi di rampa, mantenimento e raffreddamento su misura per specifici requisiti di materiale.
- Isolamento termico superiore: Le camere sono costruite in fibra di allumina ad alta purezza e rivestite con uno strato di allumina specializzato. Questo design riduce al minimo la perdita di calore, migliora l'efficienza di riscaldamento ed estende la durata dei componenti interni prevenendo la contaminazione chimica incrociata.
- Robusti elementi in carburo di silicio: Gli elementi riscaldanti in SiC di alta qualità sono posizionati strategicamente per fornire una distribuzione uniforme del calore. Questi elementi sono scelti per la loro durata e capacità di mantenere le prestazioni a temperature che raggiungono i 1500°C per periodi prolungati.
- Architettura di sicurezza avanzata: L'apparecchiatura è costruita con una struttura a doppio guscio che include un sistema di raffreddamento ad aria integrato. Questo raffreddamento attivo mantiene una bassa temperatura superficiale, proteggendo il personale di laboratorio e l'elettronica sensibile circostante dal calore radiante.
- Connettività digitale e registrazione: Dotato di una porta di comunicazione standard, il sistema può essere interfacciato con software esterni per la registrazione dei dati in tempo reale e la gestione dei profili. Ciò facilita la rigorosa documentazione richiesta per la pubblicazione scientifica moderna e la certificazione industriale.
- Design salvaspazio: Nonostante disponga di quattro zone di riscaldamento indipendenti, il sistema mantiene un ingombro compatto. Ciò consente ai laboratori con spazio limitato di espandere le proprie capacità di trattamento termico senza la necessità di molteplici unità autonome su larga scala.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Mappatura diagrammi di fase | Test simultaneo di composizioni di leghe a quattro punti di temperatura discreti. | Rapida identificazione delle transizioni di fase e dei punti eutettici. |
| Sintesi allo stato solido | Elaborazione di polveri ceramiche e ossidi metallici in lotti paralleli. | Ottimizzazione più rapida delle condizioni di reazione chimica e dei tempi di sintesi. |
| Test di garanzia qualità | Verifica in lotti di componenti industriali sotto stress ad alta temperatura. | Controllo della coerenza ad alto rendimento per materiali di grado produttivo. |
| Ceramiche avanzate | Sinterizzazione di ceramiche strutturali con tempi di mantenimento e temperature variabili. | Accelera lo sviluppo di parti ceramiche ad alta densità e prestazioni elevate. |
| Ricerca metallurgica | Esplorazione delle risposte al trattamento termico di nuove superleghe e compositi. | Analisi parallela della crescita del grano e degli effetti di rinvenimento su più campioni. |
| R&S semiconduttori | Trattamento termico di campioni di wafer su piccola scala e materiali dielettrici. | Controllo preciso sui budget termici per componenti elettronici sensibili. |
| Dentale e medico | Sinterizzazione di zirconia e altri impianti biomedici in piccoli lotti. | Alta precisione e ambiente privo di contaminazioni per articoli di grado medico. |
Specifiche tecniche
| Categoria specifica | Dettaglio parametro | Valore / Descrizione (TU-CT17) |
|---|---|---|
| Identificativo modello | Numero articolo prodotto | TU-CT17 |
| Struttura forno | Layout | Quattro moduli forno a muffola piccoli indipendenti |
| Design guscio | Costruzione | Doppio guscio con sistema di raffreddamento ad aria integrato |
| Materiale camera | Isolamento | Fibra di allumina ad alta purezza con rivestimento protettivo in allumina |
| Elettrico | Tensione | AC 220V, 50/60 Hz (Bifase) |
| Potenza | Potenza nominale totale | 10 kW |
| Velocità riscaldamento | Velocità massima | ≤ 10℃/min |
| Dimensioni camera | Dimensioni per canale | 120mm x 120mm x 120mm (x4 canali) |
| Elementi riscaldanti | Tipo | Carburo di silicio (SiC) di alta qualità |
| Termocoppia | Tipo sensore | Termocoppia tipo S |
| Intervallo temperatura | Lavoro continuo | 1300℃ |
| Intervallo temperatura | Massimo (<30 min) | 1400℃ |
| Intervallo temperatura | Picco opzionale | 1500℃ (disponibile su richiesta) |
| Controllo temperatura | Metodo di controllo | Controllo automatico PID con 50 stadi programmabili |
| Interfaccia | Interazione utente | Modulo di controllo temperatura touchscreen per canale |
| Precisione | Precisione standard | ± 1℃ |
| Precisione | Alta precisione opzionale | Fino a ± 0.1℃ (sistema di controllo europeo) |
| Comunicazione | Porta dati | Porta di comunicazione PC DB9 predefinita |
| Software | Gestione dati | Sistema opzionale basato su Labview (MTS01) per la tracciatura dati |
Perché scegliere TU-CT17
Scegliere questo sistema ad alto rendimento significa investire in uno strumento progettato per l'ambiente di R&S moderno e frenetico. Mentre i forni tradizionali creano un collo di bottiglia elaborando un campione alla volta, questa configurazione a quattro canali consente una raccolta dati massiccia in una frazione del tempo, accelerando direttamente le tappe fondamentali della ricerca e i cicli di sviluppo del prodotto. Ogni unità è costruita secondo rigorosi standard industriali, garantendo che la precisione che vedi il primo giorno sia la precisione che sperimenterai anni dopo.
- Affidabilità comprovata: Ogni componente, dalle termocoppie di tipo S agli elementi riscaldanti in SiC, è selezionato per la sua capacità di resistere al ciclaggio termico continuo senza degradazione.
- Ingegneria di precisione: Con opzioni di precisione della temperatura che raggiungono ±0.1℃, questo forno fornisce il livello di controllo richiesto per le caratterizzazioni dei materiali più sensibili.
- Efficienza al primo posto: Il raffreddamento integrato e l'isolamento ad alta purezza assicurano che l'energia sia utilizzata efficacemente per riscaldare i campioni, non l'ambiente di laboratorio.
- Soluzioni personalizzabili: Offriamo una gamma di aggiornamenti, inclusi controller europei ad alta precisione e software di gestione dati completi, per soddisfare le esigenze specifiche della tua struttura.
Per richieste di approvvigionamento o per discutere di come questo sistema a quattro canali possa essere personalizzato per i requisiti specifici del tuo laboratorio, contatta il nostro team di vendita tecnica per un preventivo formale o una consulenza sulla configurazione personalizzata.
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