Forno tubolare
Forno a Tubo Split a 4 Zone 1200°C con Controllo Touch Screen, Tubo in Quarzo ad Alta Purezza e Flange di Tenuta Sottovuoto
Numero articolo: TU-45
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Panoramica del Prodotto
Questo sofisticato sistema di trattamento termico è progettato per offrire una precisione ineguagliabile nella ricerca sui materiali ad alta temperatura e nella produzione industriale. Utilizzando un'architettura di riscaldamento unica a quattro zone, l'attrezzatura consente agli operatori di scegliere tra la creazione di una perfetta zona a temperatura costante uniforme o l'instaurazione di un gradiente termico su misura. Questa versatilità è essenziale per la sintesi avanzata dei materiali, dove sono richiesti profili di temperatura specifici per guidare reazioni chimiche, facilitare la crescita di cristalli o gestire transizioni di fase con dettagli meticolosi. Il design a forno split migliora ulteriormente l'efficienza operativa, consentendo un raffreddamento rapido e un facile accesso al tubo di lavorazione in quarzo, rendendolo una risorsa indispensabile per ambienti di laboratorio ad alto rendimento.
Progettato per cicli di R&D impegnativi e per la produzione su scala pilota, questa unità eccelle nei processi di diffusione dei semiconduttori, sinterizzazione delle ceramiche e trattamenti termici specializzati di ricottura. La sua robusta costruzione e i materiali di isolamento avanzati garantiscono che possa mantenere temperature di picco di 1200°C proteggendo al contempo i sensibili ambienti di laboratorio e l'elettronica circostante dalla dissipazione di calore. Industrie che spaziano dall'aerospaziale e dalla tecnologia delle batterie alla chimica allo stato solido si affidano a questo sistema per la sua capacità di fornire risultati ripetibili in condizioni di vuoto o atmosfera controllata. L'integrazione di quarzo ad alta purezza e tenute sottovuoto di precisione fornisce un ambiente pulito e privo di contaminanti anche per i campioni analitici più sensibili.
L'affidabilità è la pietra angolare dell'ingegneria di questo sistema termico. Ogni componente, dall'isolamento in allumina fibrosa ad alta purezza alle ventole di raffreddamento resistenti, è selezionato per garantire l'integrità strutturale e la longevità delle prestazioni in condizioni di funzionamento continuo. L'involucro in acciaio a doppio strato rimane freddo al tatto anche durante i cicli di riscaldamento di picco, dando priorità alla sicurezza dell'operatore e alla durata dell'attrezzatura. Combinando l'automazione touch screen all'avanguardia con l'affidabilità tradizionale del forno split, questo sistema offre una soluzione di livello professionale per i ricercatori che richiedono sia la potenza della lavorazione ad alta temperatura che la finezza della gestione termica multi-zona.
Caratteristiche Principali
- Riscaldamento a Quattro Zone Controllate Indipendentemente: Il sistema presenta quattro zone di riscaldamento distinte disposte in una configurazione 150mm-300mm-300mm-150mm, consentendo la creazione di gradienti termici precisi o una lunghezza totale riscaldata di 900mm per la lavorazione di grandi lotti.
- Interfaccia Touch Screen Avanzata: Un pannello touch ad alta risoluzione centralizzato integra quattro controller PID, consentendo una programmazione fluida a 30 segmenti per le velocità di riscaldamento, i tempi di permanenza e le curve di raffreddamento con una precisione di ±1°C.
- Ingegneria Split-Furnace per l'Efficienza: Il design a scocca split con cerniera consente l'apertura rapida della camera, facilitando un raffreddamento più veloce del campione dopo la lavorazione e semplificando l'installazione o la rimozione del tubo in quarzo e delle attrezzature interne.
- Tenuta Sottovuoto ad Alte Prestazioni: Dotato di un sistema di flange sottovuoto di livello professionale con valvola ad ago integrata, manometro meccanico e valvola a sfera, l'unità supporta livelli di vuoto fino a 10-4 torr con sistemi di pompaggio appropriati.
- Isolamento Termico Superiore: Utilizzando un isolamento in allumina fibrosa ad alta purezza, il sistema minimizza il consumo energetico e previene la dispersione di calore, garantendo che il guscio esterno rimanga a una temperatura sicura mantenendo al contempo la stabilità termica interna.
- Array di Termocoppie di Precisione: Quattro termocoppie di tipo K sono strategicamente incorporate all'interno delle zone per fornire un feedback di temperatura in tempo reale e ad alta precisione direttamente ai controller PID per la regolazione istantanea dei profili termici.
- Protocolli di Sicurezza Avanzati: L'attrezzatura include protezione integrata contro il surriscaldamento e un sistema di allarme per termocoppia rotta, che spegne automaticamente il riscaldamento per prevenire danni all'hardware o perdite sperimentali durante il funzionamento non presidiato.
- Compatibilità Versatile dei Tubi: Il sistema è progettato per accogliere più diametri di tubi in quarzo, da 80mm a 130mm, fornendo ai ricercatori la flessibilità di scalare le dimensioni dei campioni senza investire in sistemi di forno completamente nuovi.
- Sistema di Raffreddamento ad Aria Forzata: Una cassa in acciaio a doppio strato integrata con ventole di raffreddamento ad alta efficienza energetica garantisce un flusso d'aria continuo tra il guscio interno ed esterno, prolungando significativamente la durata dei componenti elettronici.
- Connettività PC Industriale: Dotato di una porta di comunicazione RS485 e software dedicato, il sistema consente il monitoraggio remoto, la registrazione dei dati e il controllo basato su PC di cicli termici complessi per tracciabilità completa.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio Chiave |
|---|---|---|
| Diffusione di Semiconduttori | Introduzione di droganti in wafer di silicio utilizzando precisi gradienti termici lungo il tubo di lavorazione. | Garantisce profondità di giunzione e caratteristiche elettriche uniformi su tutto il lotto. |
| R&D su Batterie a Stato Solido | Sinterizzazione di materiali elettrolitici e rivestimenti di elettrodi in atmosfere controllate o sotto vuoto. | Previene l'ossidazione e garantisce un'elevata conducibilità ionica nei componenti sensibili delle batterie. |
| Processi CVD / PECVD | Utilizzo come reattore termico per la Deposizione Chimica da Vapore di film sottili, nanotubi o nanofili. | Il riscaldamento multi-zona stabile consente un controllo preciso sulle reazioni in fase gassosa e sullo spessore del film. |
| Ricottura di Leghe Metalliche | Rilascio delle tensioni interne in componenti metallici di precisione per aerospaziale o di grado medico. | Le velocità di raffreddamento controllate e l'ambiente sotto vuoto prevengono la decarburazione superficiale e la formazione di ossidi. |
| Cocottura di Ceramiche | Lavorazione ad alta temperatura di condensatori ceramici multistrato o materiali piezoelettrici. | La zona a temperatura costante di 300mm garantisce un restringimento e una densità strutturale uniformi. |
| Crescita di Cristalli | Utilizzo della capacità di gradiente a quattro zone per promuovere i metodi di crescita Bridgman o Czochralski. | I gradienti termici personalizzabili consentono un controllo rigoroso dell'interfaccia solido-liquido per cristalli ad alta purezza. |
| Sinterizzazione in Atmosfera | Riscaldamento di ceramiche ossidiche in azoto, argon o gas formatore per raggiungere la densità teorica. | Le flange sottovuoto di alta qualità e le valvole ad ago consentono una gestione precisa del flusso di gas e della purezza. |
| Test di Catalizzatori | Valutazione delle prestazioni di catalizzatori industriali a temperature elevate in varie condizioni di flusso. | La robusta struttura del tubo in quarzo resiste ad ambienti con gas corrosivi e a cicli termici rapidi. |
Specifiche Tecniche
Parametri Generali del Sistema
| Caratteristica | Dettagli Specifiche (Modello TU-45) |
|---|---|
| Numero Articolo | TU-45 |
| Struttura Forno | Cassa in acciaio a doppio strato con ventole di raffreddamento ad aria forzata |
| Materiale Isolante | Isolamento in allumina fibrosa ad alta purezza (risparmio energetico) |
| Temperatura Massima | 1200 °C (per < 1 ora) |
| Temperatura di Lavoro Continua | 1100 °C |
| Velocità Massima di Riscaldamento | ≤ 20 °C / minuto |
| Precisione della Temperatura | ± 1 °C |
| Tipo di Termocoppia | 4 set di termocoppie di tipo K |
Configurazione Multi-Zona
| Metriche Zona Riscaldata | Misura |
|---|---|
| Lunghezza Totale Zona Riscaldante | 900 mm |
| Lunghezze Individuali delle Zone | Zona 1: 150mm | Zona 2: 300mm | Zona 3: 300mm | Zona 4: 150mm |
| Zona a Temperatura Costante | 300 mm entro ± 2 °C (tutte le zone allo stesso set point) |
| Metodo di Controllo | Controllo PID indipendente per ogni zona tramite touch screen |
Alimentazione e Requisiti Elettrici
| Parametro | Requisito |
|---|---|
| Tensione di Ingresso | AC 208-240V Monofase, 50/60 Hz |
| Consumo Energetico Massimo | 7 KW |
| Protezione del Circuito | Richiesto interruttore da 50A |
| Interfaccia di Comunicazione | Porta RS485 (Software incluso) |
Tubo di Lavorazione e Opzioni Varianti
| Modello Base | Materiale Tubo | Dimensioni Tubo (OD x ID x Lunghezza) | Compatibilità Flange |
|---|---|---|---|
| TU-45-80 | Quarzo ad Alta Purezza | 80 mm x 74 mm x 1400 mm | Sottovuoto con raccordo da 1/4" |
| TU-45-100 | Quarzo ad Alta Purezza | 100 mm x 94 mm x 1400 mm | Sottovuoto con raccordo da 1/4" |
| TU-45-130 | Quarzo ad Alta Purezza | 130 mm x 124 mm x 1400 mm | Sottovuoto con raccordo da 1/4" |
Controllo Sottovuoto e Atmosferico
| Caratteristica | Specifica |
|---|---|
| Livello di Vuoto (Turbopompa) | Fino a 10-4 torr |
| Livello di Vuoto (Meccanica) | Fino a 10-2 torr |
| Porte Sottovuoto | Porta KF25 disponibile su richiesta |
| Limite Pressione Gas | < 0,2 bar (Funzionamento standard) |
| Portata Massima Gas | < 200 SCCM (per proteggere il quarzo dallo shock termico) |
| Accessori Inclusi | Valvola ad ago, manometro meccanico, valvola a sfera, blocchi tubo ceramico |
Perché Sceglierci
- Flessibilità Termica Ineguagliabile: La configurazione a quattro zone fornisce un livello di controllo che i forni standard a zona singola non possono eguagliare, consentendo una sintesi a gradiente complessa e una uniformità superiore su un volume maggiore.
- Controllo Touch Intuitivo: Consolidando quattro controller indipendenti in un'unica interfaccia touch screen, riduciamo l'errore dell'operatore e semplifichiamo la gestione di complessi profili termici a 30 segmenti.
- Ingegneria Sottovuoto Professionale: A differenza dei forni da laboratorio standard, questo sistema è ottimizzato per l'integrità ad alto vuoto, con flange lavorate con precisione e quarzo di alta qualità che soddisfano gli standard della lavorazione industriale dei semiconduttori.
- Design Safety-First: La costruzione a doppio guscio e il raffreddamento ad aria intensivo sono progettati per la sicurezza in ambienti di laboratorio ad alto traffico, garantendo che le alte temperature interne non rappresentino un rischio per il personale o altre attrezzature.
- Durabilità da Investimento: Costruito con isolamento in allumina ad alta purezza ed elementi riscaldanti di prima qualità, questo sistema è progettato per anni di prestazioni costanti in ambienti di R&D impegnativi, offrendo un elevato ritorno sull'investimento grazie all'affidabilità.
Questo sistema termico ad alte prestazioni a quattro zone rappresenta l'apice della tecnologia di trattamento termico da laboratorio. Contatta THERMUNITS oggi stesso per richiedere un preventivo o per discutere una configurazione personalizzata adatta alle tue specifiche esigenze nella scienza dei materiali.
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