Forno tubolare
Forno a tubo a tre zone da 1200°C, diametro esterno massimo 6 pollici, con tubo e flangia
Numero articolo: TU-37
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Panoramica del prodotto


Questo sistema di trattamento termico ad alte prestazioni è progettato per soddisfare le rigorose esigenze della scienza dei materiali e della produzione industriale. Caratterizzato da una configurazione di riscaldamento a tre zone e una generosa capacità di diametro esterno di 150 mm (6"), l'apparecchiatura fornisce una piattaforma versatile per il trattamento di campioni su larga scala, inclusa la ricottura di wafer da 4 pollici. Utilizzando tre zone di riscaldamento controllate indipendentemente, gli utenti possono ottenere un'eccezionale uniformità di temperatura o creare gradienti termici precisi, rendendo questa unità uno strumento indispensabile per cicli di trattamento termico complessi che richiedono un rigoroso controllo atmosferico e stabilità termica.
Il sistema è progettato per un'ampia gamma di applicazioni nei settori dei semiconduttori, aerospaziale e della ceramica avanzata. Che venga utilizzato per la deposizione chimica da vapore (CVD), la sinterizzazione di materiali ad alta purezza o l'ossidazione controllata di componenti metallici, l'apparecchiatura offre risultati ripetibili e affidabili. La sua costruzione robusta e la sofisticata interfaccia di controllo consentono una perfetta integrazione in laboratori di ricerca e sviluppo e linee di produzione pilota, dove la precisione e la scalabilità sono fondamentali per lo sviluppo della prossima generazione di materiali ad alta temperatura.
Costruito pensando all'affidabilità operativa a lungo termine, questo forno utilizza un isolamento di prima qualità e una gestione avanzata dell'energia per mantenere prestazioni costanti in condizioni difficili. L'integrazione di un isolamento in fibra di allumina ad alta purezza garantisce l'efficienza termica riducendo al minimo la dispersione di calore, ottenendo un sistema efficiente dal punto di vista energetico e altamente reattivo alle regolazioni della temperatura. I responsabili di laboratorio e i team di approvvigionamento possono fare affidamento su questa apparecchiatura per fornire un ambiente termico stabile, garantendo che esperimenti critici e lotti di produzione siano protetti da fluttuazioni termiche e contaminazioni.
Caratteristiche principali
- Controllo indipendente a tre zone: Il sistema dispone di tre zone di riscaldamento distinte che consentono la creazione di un'area a temperatura uniforme estesa o di un gradiente termico personalizzato. Questa configurazione è essenziale per i processi che richiedono profili di temperatura specifici lungo la lunghezza del tubo di processo, come la crescita dei cristalli o la ricottura di grandi lotti.
- Interfaccia touch screen avanzata: Un pannello touch ad alta risoluzione da 7 pollici fornisce un hub di controllo intuitivo per l'intero sistema. Gli utenti possono beneficiare della funzionalità di avvio/arresto con un solo clic, del monitoraggio dei dati in tempo reale e della possibilità di pre-memorizzare programmi di temperatura complessi, riducendo significativamente il potenziale di errori di configurazione manuale.
- Regolazione PID della temperatura di precisione: Dotata di un sofisticato controller PID e funzioni di auto-tuning, l'unità mantiene una precisione della temperatura di +/- 0,2 °C. Questo livello di precisione è fondamentale per il trattamento di materiali sensibili in cui anche piccole deviazioni possono influire sull'integrità strutturale o sulle proprietà elettriche del campione.
- Isolamento in fibra di Al2O3 ad alta purezza: La camera del forno è rivestita con un isolamento in fibra di allumina ad alta purezza a risparmio energetico, ulteriormente migliorato da un rivestimento in ossido di alluminio. Questa combinazione non solo estende la durata degli elementi riscaldanti, ma garantisce anche velocità di riscaldamento rapide e un contenimento termico superiore.
- Capacità di lavorazione di grande diametro: Progettato per ospitare tubi al quarzo fino a 150 mm (6") di diametro, questo sistema è ideale per la lavorazione di wafer da 4 pollici e campioni di materiale sfuso più grandi. La flessibilità di utilizzare vari diametri di tubo (da 80 mm a 150 mm) tramite adattatori lo rende una risorsa altamente adattabile alle mutevoli esigenze di ricerca.
- Registrazione dati completa: Il sistema di controllo integrato registra automaticamente i dati di processo, memorizzando la cronologia fino a un mese. Questa funzione facilita un'analisi post-processo approfondita e la documentazione del controllo qualità, vitale per le certificazioni industriali e la riproducibilità della ricerca.
- Robusta sigillatura per vuoto e atmosfera: Sono disponibili flange di tenuta in acciaio inossidabile di alta qualità per supportare la lavorazione sotto vuoto o in ambienti a gas controllato. Ciò consente all'apparecchiatura di gestire diverse chimiche e prevenire l'ossidazione durante i cicli ad alta temperatura.
- Ingegneria orientata alla sicurezza: I meccanismi di protezione integrati per il surriscaldamento e il guasto della termocoppia sono standard, offrendo tranquillità durante le operazioni di lunga durata. Il design del sistema enfatizza il funzionamento sicuro con protocolli specifici per la gestione della pressione e la regolazione del flusso di gas.
- Prestazioni dell'isolamento del tubo solido: Il design dell'isolamento del tubo solido fornisce una zona di temperatura più uniforme rispetto ai design standard a tubo diviso, garantendo che il calore radiante sia distribuito uniformemente attorno all'intera circonferenza del tubo di processo.
- Flessibilità dei segmenti programmabili: Con 50 segmenti programmabili, il sistema supporta rampe di riscaldamento e raffreddamento altamente complesse. Ciò consente una simulazione precisa dei cicli termici industriali e la capacità di eseguire un raffreddamento lento e controllato per prevenire shock termici nei materiali fragili.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio principale |
|---|---|---|
| Ricottura semiconduttori | Trattamento ad alta temperatura di wafer di silicio da 4 pollici per riparare i danni al reticolo o attivare i droganti. | L'uniformità superiore previene l'imbarcamento del wafer e garantisce proprietà elettriche costanti. |
| Deposizione chimica da vapore | Utilizzo del controllo a tre zone per creare un gradiente di temperatura per il trasporto del precursore e la deposizione del film. | L'ambiente ad alta purezza e il controllo preciso del flusso portano a una crescita di film sottili di alta qualità. |
| Sintesi dei materiali | Lavorazione di ceramiche avanzate e polveri a temperature fino a 1200°C in condizioni inerti o sottovuoto. | Il controllo multi-zona consente una precisa trasformazione di fase e gestione della crescita dei grani. |
| Test di componenti aerospaziali | Cicli termici di piccoli componenti di turbine o rivestimenti a barriera termica in condizioni atmosferiche simulate. | Test di stress termico affidabili e ripetibili per componenti ad alta affidabilità. |
| Produzione di nanotubi di carbonio | Controllo preciso della temperatura e del flusso di gas per la crescita di nanotubi di carbonio su vari substrati. | Il riscaldamento specifico per zona ottimizza la reazione catalitica e aumenta la resa. |
| Calcinazione e sinterizzazione | Lavorazione ad alta temperatura di minerali o corpi ceramici verdi per rimuovere i volatili e densificare il materiale. | Il grande diametro del tubo consente una lavorazione ad alto rendimento per la produzione su scala pilota. |
| Ricerca sui materiali per batterie | Trattamento termico di materiali catodici e anodici in atmosfera controllata per ottimizzare le prestazioni elettrochimiche. | La precisione di +/- 0,2°C garantisce la precisione stechiometrica nel prodotto finale. |
| Brasatura sottovuoto | Unione di componenti metallici o ceramici in un ambiente sottovuoto privo di contaminazioni. | La compatibilità con l'alto vuoto previene l'ossidazione e garantisce giunti forti e puliti. |
Specifiche tecniche
| Parametro | Specifiche per TU-37 |
|---|---|
| Identificativo modello | Serie TU-37 |
| Temperatura massima | 1200 °C (< 30 minuti) |
| Temperatura di lavoro continua | 1100 °C |
| Velocità di riscaldamento | Massimo 10 °C / minuto |
| Configurazione zona di riscaldamento | 3 zone: Zona 1 (152,5 mm), Zona 2 (315 mm), Zona 3 (152,5 mm) |
| Lunghezza totale zona di riscaldamento | 700 mm |
| Zona a temperatura costante (±2°C) | ~ 420 mm (quando tutte le zone sono impostate alla stessa temperatura) |
| Zona a temperatura costante (±5°C) | ~ 620 mm (quando tutte le zone sono impostate alla stessa temperatura) |
| Precisione della temperatura | ± 0,2 °C |
| Tipo di controller | Pannello PID con touch screen da 7", 50 segmenti programmabili |
| Tipo di termocoppia | Tipo K |
| Diametro tubo di processo | Opzionale: 80, 100, 130, 150 mm DE |
| Capacità di vuoto | 50 m-torr (pompa meccanica) / 10^-6 torr (turbopompa) |
| Materiale isolante | Isolamento in fibra di Al2O3 ad alta purezza con rivestimento in ossido |
| Alimentazione | AC 220V, 50/60 Hz, monofase |
| Potenza nominale totale | 12 kW |
| Supporto atmosfera | Flange in acciaio inossidabile a tenuta stagna con ingresso/uscita gas |
| Esportazione dati | Registrazione automatica (archiviazione 1 mese) / Software PC opzionale |
Perché scegliere TU-37
- Precisione termica senza pari: La serie TU-37 sfrutta una sofisticata architettura a 3 zone che elimina il calo termico tipico dei sistemi a zona singola, fornendo una massiccia zona uniforme di 420 mm per processi industriali critici.
- Qualità costruttiva di grado industriale: Dall'isolamento in fibra di Al2O3 ad alta purezza alle flange in acciaio inossidabile per impieghi gravosi, ogni componente del sistema è selezionato per la sua capacità di resistere al funzionamento continuo in ambienti di ricerca e sviluppo impegnativi.
- Capacità di elaborazione scalabile: L'esclusiva capacità di ospitare tubi da 6 pollici (150 mm) consente ai ricercatori di passare agevolmente dai test su piccola scala alla produzione di wafer da 4 pollici senza cambiare piattaforma di apparecchiature.
- Controllo digitale incentrato sull'utente: L'interfaccia touch screen e la registrazione automatica dei dati riducono la curva di apprendimento operativa, garantendo al contempo che tutti i parametri di processo siano meticolosamente documentati per la conformità e l'assicurazione della qualità.
- Versatile flessibilità atmosferica: Che il processo richieda alto vuoto, flusso di gas inerte o una gestione specifica della pressione, le opzioni di flangia e pompaggio adattabili del sistema forniscono una soluzione a prova di futuro per diversi percorsi di ricerca.
Il nostro team di ingegneri è pronto ad aiutarti a configurare la soluzione di trattamento termico perfetta per le tue esigenze specifiche. Contattaci oggi per una consulenza tecnica o un preventivo formale sul sistema TU-37.
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