Forno RTP
Forno a tubo per trattamento termico rapido (RTP) a riscaldamento IR a due zone con tubo in quarzo da 4 pollici di diametro interno e portacampioni scorrevoli
Numero articolo: TU-RT28
Spedizione: Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.
Panoramica del prodotto
Questo sistema di trattamento termico rapido (RTP) ad alte prestazioni è progettato per applicazioni avanzate di scienza dei materiali che richiedono rampe termiche estreme e un controllo atmosferico preciso. Utilizzando la tecnologia di riscaldamento a infrarossi (IR) a onde corte, l'apparecchiatura facilita velocità di riscaldamento fino a 50°C/s, rendendola uno strumento essenziale per i laboratori focalizzati sulla sintesi di materiali bidimensionali, film sottili superconduttori e ricottura di semiconduttori. La configurazione a doppia zona consente una gestione indipendente della temperatura in due aree distinte, permettendo reazioni in fase vapore complesse in cui i gradienti di temperatura sono critici per il successo.
Progettato specificamente per la deposizione ibrida fisica-chimica da vapore (HPCVD), questo sistema fornisce una piattaforma sofisticata per i ricercatori per evaporare sorgenti solide in una zona mantenendo un ambiente di deposizione controllato nella seconda. L'inclusione di doppi portacampioni scorrevoli migliora drasticamente l'efficienza operativa, consentendo il rapido caricamento, recupero e tempra dei campioni senza interrompere l'equilibrio termico del nucleo del forno. Questa unità rappresenta un salto significativo nella produttività e nella coerenza del trattamento termico per ambienti di R&S esigenti.
Costruita con un involucro in acciaio a doppio strato e raffreddamento ad aria integrato, l'apparecchiatura garantisce una temperatura superficiale esterna sicura anche durante cicli ad alta intensità. L'affidabilità è integrata in ogni componente, dal tubo di processo in quarzo fuso ad alta purezza alle guide scorrevoli rettificate di precisione. Questo forno è costruito per resistere ai rigori della ricerca industriale continua, fornendo risultati coerenti e ripetibili in migliaia di ore di funzionamento in ambienti sottovuoto o con gas inerte.
Caratteristiche principali
- Riscaldamento IR a onde corte ultra-rapido: Utilizzando sedici tubi riscaldanti alogeni da 1,5 kW, questo sistema raggiunge una velocità di riscaldamento massima di 50°C/s. Ciò consente una ricottura termica rapida e un controllo preciso sulle trasformazioni dei materiali guidate dalla cinetica, impossibili con i normali elementi riscaldanti resistivi.
- Controllo indipendente a doppia zona: Due zone di riscaldamento da 195 mm sono gestite da controller SCR separati ad alta precisione. Ciò consente la creazione di gradienti termici ripidi o zone isotermiche perfettamente uniformi su una lunghezza totale di 390 mm, offrendo la massima flessibilità per i processi HPCVD e di trasporto di vapore.
- Trasporto campioni scorrevole di precisione: L'unità è dotata di doppie guide scorrevoli in acciaio cromato, che supportano due portacampioni. Questo meccanismo consente agli operatori di spostare i campioni nella zona calda nel momento esatto richiesto per il riscaldamento flash o di estrarli nella zona ambiente per una tempra rapida.
- Gestione avanzata della temperatura PID: Ogni zona è dotata di un controller digitale che offre 30 segmenti programmabili. Ciò consente l'automazione di complessi profili di riscaldamento, mantenimento e raffreddamento con una precisione di ±1°C, garantendo il massimo livello di ripetibilità nella crescita di film sottili sensibili.
- Architettura robusta per vuoto e gas: Il forno è dotato di flange in acciaio inossidabile raffreddate ad acqua, porte per vuoto KF25 e valvole a spillo per una precisa regolazione atmosferica. Può raggiungere livelli di vuoto fino a 10^-4 Torr con una pompa molecolare, rendendolo adatto a processi ad alta purezza sensibili all'ossigeno.
- Interfaccia PC e controllo integrati: Un modulo di controllo MTS-02 è incluso come standard, consentendo agli utenti di gestire i profili di temperatura, registrare dati in tempo reale e monitorare le prestazioni termiche tramite PC. Questa integrazione digitale è essenziale per i moderni ambienti di laboratorio basati sui dati.
- Sicurezza e raffreddamento migliorati: L'alloggiamento in acciaio a doppio strato è dotato di raffreddamento ad aria attivo per mantenere l'involucro esterno al di sotto dei 60°C. La protezione integrata contro il sovratemperatura e la protezione contro la rottura della termocoppia consentono un funzionamento incustodito in totale tranquillità.
- Percorso del materiale ad alta purezza: Il tubo di processo è costruito in quarzo fuso ad alta purezza, con un diametro esterno di 110 mm e un diametro interno di 106 mm. Ciò fornisce un ambiente pulito per la lavorazione dei materiali consentendo al contempo il monitoraggio visivo della reazione durante i cicli ad alta temperatura.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Crescita di materiali HPCVD | Utilizzo di una zona per l'evaporazione della sorgente solida e della seconda per la deposizione del substrato. | Controllo preciso sul flusso del precursore e sulla temperatura di crescita. |
| Sintesi di materiali 2D | Crescita di grafene, MoS2 e altri TMD utilizzando cicli termici rapidi. | Dimensione del grano e qualità del cristallo ottimizzate tramite rampe veloci. |
| Ricerca sui superconduttori | Elaborazione di film sottili superconduttori e materiali sfusi. | Le alte velocità di riscaldamento facilitano specifiche trasformazioni di fase. |
| Ricottura termica rapida | Trattamento post-deposizione di wafer semiconduttori e film sottili. | Riduce al minimo la diffusione dei droganti attivando le proprietà elettriche. |
| Trattamento termico flash | Esposizione istantanea dei campioni ad alte temperature utilizzando il sistema a binario scorrevole. | Cattura fasi metastabili attraverso shock termici rapidi. |
| Deposizione da vapore | Deposizione chimica da vapore di rivestimenti avanzati e strati funzionali. | Eccellente uniformità e adesione attraverso la dinamica dei gas controllata. |
| R&S rivestimenti ottici | Stabilizzazione termica di film sottili ottici multistrato. | L'ambiente termico stabile previene la delaminazione degli strati. |
Specifiche tecniche
| Parametro | Dettagli specifiche per TU-RT28 |
|---|---|
| Zone di riscaldamento | Due zone indipendenti, 195 mm ciascuna (390 mm totali) |
| Temperatura massima | 900°C (< 10 min), 800°C (< 30 min), 600°C (Continuo) |
| Elementi riscaldanti | 16 pz tubi IR a onde corte alogeni da 1,5 kW (materiale di consumo) |
| Potenza totale | AC 208-240V monofase; Max 24 kW (richiesta alimentazione 100A) |
| Velocità di riscaldamento max | Da TA a 800°C: 50°C/s; da 800°C a 900°C: 10°C/s |
| Velocità di raffreddamento max | 117°C/min (atmosferica); 60°C/min (200 mTorr) |
| Tubo di processo | Quarzo fuso ad alta purezza: Φ110 (DE) × Φ106 (DI) × 740 (L) mm |
| Sistema a binario scorrevole | Doppie guide in acciaio cromato, lunghezza 400 mm con due portacampioni |
| Controllo temperatura | Doppi controller PID, 30 segmenti programmabili, controllo potenza SCR |
| Precisione temperatura | ±1°C |
| Termocoppia | Due tipo K, 1/4" diametro x 24" lunghezza |
| Flange per vuoto | SS raffreddate ad acqua; Sinistra: passante 1/4"; Destra: KF25 con valvola a saracinesca |
| Livello di vuoto | 10^-2 Torr (pompa meccanica); 10^-4 Torr (pompa molecolare) |
| Requisiti di raffreddamento | Flusso d'acqua ≥ 10L/min; Temp < 25°C; Pressione > 25 PSI |
| Comunicazione PC | Porta RS485 con modulo MTS-02; compatibile LabView |
| Dimensioni | Progettato per banco di laboratorio o integrazione su supporto |
| Conformità | Certificazione CE; NRTL (UL61010) o CSA disponibili su richiesta |
Perché scegliere questo sistema RTP
Scegliere questa apparecchiatura significa investire in una piattaforma progettata per la frontiera della scienza dei materiali. La combinazione di riscaldamento IR ultra-rapido e precisione a doppia zona consente flussi di lavoro sperimentali che i forni resistivi tradizionali semplicemente non possono gestire. La nostra ingegneria si concentra sulla minimizzazione del ritardo termico e sulla massimizzazione della produttività, garantendo che la tua ricerca sia limitata solo dalla tua immaginazione, non dal tuo hardware.
- Velocità termica senza pari: La velocità di rampa di 50°C/s consente test ad alta produttività e l'esplorazione di diagrammi di fase sensibili alla temperatura che richiedono una tempra rapida.
- Progettato con precisione per HPCVD: A differenza delle unità a zona singola, questo sistema è ottimizzato per la deposizione ibrida fisica-chimica da vapore, offrendoti la possibilità di isolare l'evaporazione della sorgente dalla deposizione del substrato.
- Versatilità operativa: Che operi sotto alto vuoto o gas inerte, il sistema offre prestazioni costanti. Il sistema di portacampioni scorrevole è un elemento di differenziazione critico, riducendo l'esposizione del campione a gradienti termici indesiderati.
- Affidabilità comprovata: Costruita con SCR di grado industriale premium, lampade IR a onde corte e quarzo ad alta purezza, questa unità è progettata per una lunga durata in ambienti di R&S esigenti.
- Soluzioni di controllo scalabili: Dall'operazione manuale alla completa integrazione LabView basata su PC, il sistema cresce con i requisiti di gestione dei dati del tuo laboratorio.
Questo sistema è lo standard di riferimento per il trattamento termico rapido nella moderna ricerca sui materiali. Contatta oggi stesso il nostro team di vendita tecnica per un preventivo completo o per discutere di come possiamo personalizzare questo sistema per le tue specifiche esigenze di deposizione da vapore o ricottura.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Prodotti correlati
Forno a tubo scorrevole per trattamento termico rapido (RTP) con tubo in quarzo da 4 pollici OD e riscaldamento IR a 900°C
Ottimizza la sintesi dei materiali con questo forno a tubo RTP scorrevole con temperatura massima di 900°C. Progettato per un rapido riscaldamento IR a 50°C/s e raffreddamento automatizzato, offre un controllo preciso per applicazioni di ricerca su grafene, nanotubi di carbonio e celle solari a perovskite.
Forno a Tubo ad Alta Temperatura 1500°C con Flange Scorrevoli e OD 50mm per Processi Termici Rapidi, Riscaldamento e Raffreddamento Veloce
Ottieni processi termici rapidi con questo forno a tubo da 1500°C max dotato di flange scorrevoli manuali per riscaldamento e raffreddamento accelerati. Progettato per la ricerca in scienza dei materiali, questo sistema ad alta precisione offre prestazioni sottovuoto eccezionali e monitoraggio a doppio controllore per applicazioni di laboratorio impegnative.
Forno a Tubo RTP Scorrevole da 900 ºC Max con Riscaldamento IR Rapido e Tubo in Quarzo da 4 Pollici OD
Massimizza l'efficienza della R&S con questo forno a tubo RTP scorrevole da 900°C, dotato di riscaldamento IR rapido, velocità di rampa fino a 50°C/s e raffreddamento automatizzato per la crescita di grafene, sintesi di CNT e ricottura avanzata di wafer semiconduttori in condizioni di vuoto o atmosferiche.
Forno a tubo a doppia zona allungato ad alta temperatura per la ricerca sui materiali e il trattamento termico industriale
Migliora la tua ricerca sui materiali con questo forno a tubo a doppia zona allungato ad alte prestazioni. Dotato di elementi svedesi Kanthal A1 e controllo PID avanzato, garantisce un'eccezionale uniformità termica fino a 1200°C per applicazioni di ricerca e sviluppo industriali e di laboratorio nell'ingegneria moderna.
Forno a tubo a riscaldamento rapido a doppia zona Sistema a vuoto e atmosfera ad alta temperatura
Questo forno a tubo a riscaldamento rapido a doppia zona ad alte prestazioni offre una temperatura massima di 1200°C con velocità di rampa rapide di 100°C al minuto, controllo PID di precisione e capacità di atmosfera sotto vuoto per la ricerca avanzata sui materiali, la sinterizzazione e le applicazioni di deposizione chimica da vapore.
Forno a tubo allungato a due zone di temperatura per il trattamento termico industriale e la ricerca nella scienza dei materiali
Questo forno a tubo allungato a due zone di temperatura è dotato di elementi svedesi Kanthal A1 e di un avanzato controllo PID per una ricerca sui materiali di precisione. Con opzioni per vuoto e atmosfera, offre una superiore uniformità termica e affidabilità per le impegnative applicazioni di trattamento termico nei laboratori industriali.
Forno a tubo rotativo a due zone per rivestimento CVD di polveri e sintesi di materiali core-shell 1100°C
Ottimizza la lavorazione delle polveri con questo forno a tubo rotativo a due zone ad alte prestazioni da 1100°C. Progettato specificamente per il rivestimento CVD e la sintesi core-shell, è dotato di un tubo in quarzo da cinque pollici e pale di miscelazione per garantire un'eccezionale uniformità termica e una produzione costante di lotti di materiale.
Forno a tubo scorrevole automatizzato per riscaldamento e raffreddamento rapido, 2 pollici DE, 1100°C max
Ottimizza la ricerca sui materiali con questo forno a tubo scorrevole automatizzato ad alte prestazioni. Con un riscaldamento e raffreddamento ultra-rapidi di 100°C al minuto, questo sistema da 1100°C garantisce un trattamento termico preciso per semiconduttori, nanotecnologie e applicazioni di ricerca e sviluppo industriale che richiedono cicli termici rapidi.
Forno Tubolare a Doppia Zona 1100°C con Tubo in Quarzo da 11 Pollici e Flange a Vuoto per la Lavorazione di Wafer da 8 Pollici
Questo avanzato forno tubolare a doppia zona ad alta temperatura è progettato con un tubo in quarzo da 11 pollici e una zona riscaldante da 24 pollici per garantire un'eccezionale uniformità termica per il ricottura di wafer da 8 pollici, la sinterizzazione di materiali e attrezzature di ricerca specializzate per la deposizione chimica da vapore per uso industriale e di laboratorio.
Forno a tubo rotante a doppia zona ad alta temperatura 1500°C con riscaldamento in carburo di silicio per la sintesi di materiali avanzati
Ottimizza i processi termici con questo forno a tubo rotante a doppia zona ad alta precisione. Dotato di temperature massime di 1500°C e resistenze in SiC avanzate, garantisce risultati uniformi per la ricerca e sviluppo industriale, la deposizione chimica da vapore (CVD) e applicazioni sofisticate di scienza dei materiali nei laboratori di tutto il mondo.
Forno a tubo a doppia zona ad alta temperatura per la ricerca nella scienza dei materiali e il trattamento termico professionale
Avanzato forno a tubo a doppia zona progettato per il trattamento termico preciso dei materiali, dotato di elementi svedesi Kanthal e sofisticato controllo PID per risultati costanti in applicazioni industriali di R&S e di laboratorio esigenti.
Forno per trattamento termico rapido (RTP) compatto a atmosfera controllata con tubo al quarzo da 4 pollici ID 1100°C
Migliora la ricerca sui semiconduttori con questo forno RTP compatto a atmosfera controllata. Dotato di un tubo al quarzo da 4 pollici e una capacità di 1100°C, offre un riscaldamento di 50°C/secondo per ricottura di precisione, CVD e lavorazione di materiali ad alto rendimento.
Forno a tubo rotativo inclinabile ad alta temperatura con controllo del flusso di massa integrato e riscaldamento multizona
Questo forno a tubo rotativo inclinabile ad alte prestazioni offre una lavorazione continua dei materiali con controllo preciso della temperatura e integrazione di gas multicanale. Progettato per la ricerca e sviluppo industriale, garantisce un trattamento termico uniforme per la sintesi di materiali avanzati e applicazioni di test metallurgici su larga scala.
Forno a tubo diviso a due zone da 1500°C con flangia sottovuoto e tubo in allumina da 80 mm
Forno a tubo diviso a due zone ad alte prestazioni da 1500°C, dotato di tubo in allumina da 80 mm, elementi riscaldanti in SiC e controllo PID preciso. Ideale per la ricerca e sviluppo sui materiali, la deposizione chimica da vapore (CVD) e il trattamento termico con capacità di vuoto e atmosfere multiple per applicazioni avanzate di ricerca in laboratorio industriale.
Forno a tubo a doppia zona di temperatura e doppio coperchio per CVD ad alta temperatura e ricottura sottovuoto
Forno a tubo professionale a doppia zona di temperatura ad alta temperatura, dotato di elementi riscaldanti Kanthal A1 e controllo PID avanzato per applicazioni di ricerca e industriali. Questo sistema offre un trattamento termico preciso per CVD, ricottura sottovuoto e sinterizzazione di materiali con un'affidabilità senza pari.
Forno rotativo a tubo da 900°C con tubo in lega 310S da 8 pollici e riscaldamento multizona opzionale per la calcinazione di materiali industriali
L'avanzato forno rotativo a tubo da 900°C è dotato di un tubo in lega 310S da 8 pollici e riscaldamento multizona opzionale. Questo sistema industriale offre un trattamento termico preciso per i materiali catodici delle batterie, garantendo una produzione ad alta resa con risultati di calcinazione costanti per laboratori di ricerca e sviluppo e impianti produttivi.
Forno a tubo rotante a doppia temperatura con rotazione di precisione e inclinazione regolabile per la ricerca avanzata sui materiali
Forno a tubo rotante a doppia temperatura ad alte prestazioni, dotato di elementi Kanthal A1 e rotazione di precisione per un trattamento uniforme dei materiali. Ideale per applicazioni CVD e di R&S che richiedono un controllo termico affidabile e un'inclinazione regolabile in esigenti ambienti di laboratorio industriale.
Forno a tubo scorrevole a doppia zona di temperatura da 1200°C per la crescita di materiali 2D e sintesi TCVD
Ottimizza la sintesi avanzata di materiali 2D utilizzando questo sistema a doppio forno da 1200°C, dotato di zona di riscaldamento scorrevole per un raffreddamento ultra-rapido, controllo indipendente della temperatura PID e lavorazione in quarzo ad alta purezza, progettato per la deposizione chimica da vapore termica di precisione e R&S.
Forno a tubo diviso a tre zone ad alta temperatura, 1200°C max, lunghezza di riscaldamento 35,4 pollici, diametro interno tubo 8 pollici
Questo forno a tubo diviso a tre zone ad alte prestazioni presenta una zona di riscaldamento di 35,4 pollici e un tubo di 8 pollici di diametro per processi termici avanzati. Raggiunge temperature di picco di 1200°C con gestione indipendente delle zone per una uniformità superiore in atmosfere sottovuoto o gassose.
Forno a Tubo in Quarzo a Doppia Zona con Diametro 80mm, Temperatura Massima 1200°C, Miscelatore Gas a 3 Canali e Sistema a Pompa a Vuoto
Questo avanzato forno a tubo in quarzo a doppia zona presenta un tubo di 80 mm di diametro, un sistema integrato di miscelazione gas a tre canali e un sistema a vuoto ad alte prestazioni. Perfetto per CVD e ricerca sui materiali, offre una lavorazione termica precisa a 1200°C e capacità di monitoraggio del vuoto anti-corrosione.