Forno a Tubo in Allumina a Tre Zone con Flange a Vuoto Sistema CVD ad Alto Gradiente Termico 1700°C

Forno tubolare

Forno a Tubo in Allumina a Tre Zone con Flange a Vuoto Sistema CVD ad Alto Gradiente Termico 1700°C

Numero articolo: TU-79

Temperatura Massima di Esercizio: 1700°C (Zona Centrale) / 1400°C (Zone Laterali) Configurazione della Zona di Riscaldamento: Tre Zone Indipendenti, Lunghezza Totale 25" (630mm) Capacità di Vuoto: Fino a 10-4 Torr con Pompa Turbo
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Panoramica del Prodotto

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Questo forno a tubo ad alte prestazioni a tre zone rappresenta un apice nel trattamento termico di laboratorio, progettato specificamente per ricercatori e ingegneri industriali che richiedono un controllo preciso su profili di temperatura complessi. Integrando tre zone di riscaldamento indipendenti all'interno di un singolo ambiente a tubo in allumina ad alta purezza, questo sistema consente la creazione di gradienti termici sofisticati essenziali per la crescita cristallina, la deposizione chimica da vapore (CVD) e la sintesi avanzata di materiali. Il valore fondamentale dell'attrezzatura risiede nella sua capacità di mantenere temperature disparate in un'area di lavoro continua, fornendo una piattaforma versatile sia per trattamenti termici standard che per protocolli di ricerca altamente specializzati.

I casi d'uso primari per questa unità spaziano nella ricerca elettronica, aerospaziale ed energetica, dove i materiali funzionali devono essere preparati in condizioni atmosferiche rigorose. L'architettura a tre zone è particolarmente efficace per la crescita di film epitassiali e la sintesi di nanofili, dove l'evaporazione del precursore e la deposizione sul substrato devono avvenire a temperature diverse, mantenute con precisione. I settori target includono la produzione di semiconduttori, lo sviluppo di ceramiche avanzate e le strutture di ricerca metallurgica che richiedono precisione e ripetibilità assolute nei loro cicli termici.

Progettato per ambienti industriali e di laboratorio impegnativi, il sistema presenta un robusto alloggiamento in acciaio a doppio strato e un raffreddamento ad aria avanzato per garantire un involucro esterno sicuro e a bassa temperatura anche durante operazioni prolungate ad alta temperatura. L'affidabilità è integrata in ogni componente, dall'isolamento in allumina fibrosa ad alta purezza alla configurazione di riscaldamento a doppio elemento che bilancia le esigenze tecniche del calore estremo al centro con una stabilità controllata alla periferia. Questa attrezzatura offre la coerenza richiesta per esperimenti di lunga durata, fornendo agli utenti la certezza che i loro dati critici e i risultati sui materiali siano protetti da una termotecnica superiore.

Caratteristiche Principali

  • Controllo Temperatura Indipendente a Tre Zone: Il sistema utilizza tre microprocessori digitali separati per gestire ciascuna zona in modo indipendente, consentendo la creazione di gradienti termici precisi. Questa capacità è fondamentale per processi in cui i precursori devono essere vaporizzati in una zona e depositati in un'altra a una temperatura diversa.
  • Architettura di Riscaldamento a Doppio Elemento: La zona centrale è alimentata da elementi riscaldanti Super-1800 in Molibdeno Disilicuro (MoSi2) che raggiungono i 1700°C, mentre le due zone laterali utilizzano elementi in Carburo di Silicio (SiC) per un funzionamento stabile fino a 1400°C. Questo design ibrido ottimizza l'efficienza energetica e le prestazioni di riscaldamento su tutta la lunghezza riscaldata di 25 pollici.
  • Logica di Controllo PID Avanzata: Ciascuno dei tre controller presenta 30 segmenti programmabili, offrendo capacità di auto-sintonizzazione e protezione sofisticata per termocoppie surriscaldate o rotte. Ciò garantisce velocità di riscaldamento lineari e tempi di stabilizzazione stabili, minimizzando lo shock termico su campioni delicati.
  • Ambiente a Tubo in Allumina ad Alta Purezza: Costruito con un tubo in allumina al 99,8% di purezza, l'attrezzatura fornisce un'atmosfera eccezionalmente inerte per la lavorazione. Questo materiale ad alta densità previene la contaminazione e resiste all'attacco chimico da precursori aggressivi durante le operazioni CVD ad alta temperatura.
  • Integrità Superiore del Vuoto e dell'Atmosfera: Dotato di flange di tenuta a vuoto in acciaio inossidabile che includono valvole integrate e manometri, questa unità può raggiungere livelli di vuoto fino a 10-4 Torr se accoppiata a una pompa turbo. Il design a doppia guarnizione garantisce prestazioni stagne per la lavorazione sotto gas inerti o riducenti.
  • Isolamento Termico Ingegnerizzato: Il forno utilizza isolamento in allumina fibrosa ad alta purezza, che offre bassa conduttività termica e basso accumulo di calore. Questo design consente cicli di riscaldamento e raffreddamento più rapidi riducendo significativamente il consumo energetico necessario per mantenere la stabilità ad alta temperatura.
  • Sistemi di Sicurezza e Raffreddamento Robusti: Una cassa in acciaio a doppio strato con doppi ventilatori di raffreddamento integrati mantiene una temperatura superficiale esterna sicura. Questo design protegge il personale di laboratorio e i componenti elettronici interni, estendendo significativamente la durata operativa dei sistemi di controllo.
  • Integrazione Termocoppia Multi-Zona: Il sistema impiega una termocoppia di tipo B per la zona centrale ad alta temperatura e due termocoppie di tipo S per le zone laterali. Questa configurazione offre i massimi livelli di precisione di misurazione e feedback reattivo per i controller PID.
  • Opzioni Personalizzabili per l'Immissione di Gas: I raccordi standard per tubi a innesto possono essere aggiornati ad adattatori KF25 o raccordi per tubi Swagelok, consentendo un'integrazione perfetta con sistemi ad alto vuoto o collettori di distribuzione gas ad alta pressione per la crescita avanzata di film sottili.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio Chiave
Crescita di Film Epitassiali (CVD) Vaporizzazione dei precursori in una zona a monte e loro deposizione su un substrato nella zona centrale ad alta temperatura. Controllo di precisione sullo spessore del film e sulla struttura molecolare.
Sintesi di Nanofili Facilitazione della crescita dell'Ossido di Gallio (Ga2O3) dove la lega del catalizzatore e la crescita assiale richiedono stadi termici distinti. Regolarità morfologica ottimizzata e proprietà elettroniche migliorate.
Sinterizzazione a Gradiente Termico Sottoporre campioni ceramici o metallici a variazioni di temperatura controllate lungo la loro lunghezza. Consente lo studio delle transizioni di fase e della cinetica di diffusione in una singola esecuzione.
Invecchiamento di Componenti Elettronici Test della durata di materiali per semiconduttori ad alta potenza sotto calore estremo e localizzato. Test di alta affidabilità che simulano ambienti reali ad alto stress.
Calcinazione di Polveri Lavorazione di catalizzatori chimici o materiali per batterie sotto vuoto ad alta purezza o gas inerte. Previene l'ossidazione e garantisce prodotti finali ad alta purezza per applicazioni di accumulo energetico.
Ricottura e Tempra Sollievo dalle tensioni nelle leghe metalliche di precisione in un ambiente controllato per migliorare le proprietà meccaniche. Elimina le tensioni interne senza compromettere la finitura superficiale o la purezza.
Mappatura del Diagramma di Fase Determinazione rapida delle proprietà dei materiali dipendenti dalla temperatura utilizzando la flessibile architettura a 3 zone. Riduzione significativa del tempo di R&S per la scoperta di nuovi materiali funzionali.

Specifiche Tecniche

Caratteristica Dettagli Specifiche (TU-79)
Serie Modello Prodotto TU-79
Tensione AC 208-240V Monofase, 50/60 Hz
Consumo Energetico 10 KW (Richiede interruttore aria da 75A)
Caratteristiche Zona 1 Lunghezza 7.5" (190 mm); 4 elementi SiC; 400 - 1400°C (fino a 1500°C per <1 ora)
Caratteristiche Zona 2 (Centrale) Lunghezza 10.0" (250 mm); 6 elementi MoSi2; 800 - 1700°C
Caratteristiche Zona 3 Lunghezza 7.5" (190 mm); 4 elementi SiC; 400 - 1400°C (fino a 1500°C per <1 ora)
Lunghezza Totale Zona Riscaldamento 25" (630 mm) totale inclusi due separatori refrattari
Zona a Temperatura Costante Lunghezza 200 mm con accuratezza di ± 1°C (con tutti i controller sincronizzati)
Velocità di Riscaldamento Massima ≤ 10°C/min (zone laterali); ≤ 5°C/min (zona centrale)
Materiale e Dimensioni Tubo Allumina Purezza 99.8%; Opzioni OD: 60mm, 80mm, o 100mm; Lunghezza 1200mm
Tenuta a Vuoto Flange in acciaio inossidabile con valvole e manometri; Guarnizioni doppie incluse
Limite Pressione Vuoto Fino a 10-4 Torr con pompa turbo (Uso limitato a <1500°C per vuoto)
Controller Temperatura Tre controller PID digitali, 30 segmenti, auto-sintonizzazione, accuratezza ± 1°C
Tipi di Termocoppia Una Tipo B (Centro), Due Tipo S (Lati); Lunghezza inserimento 210mm
Sicurezza e Conformità Certificato CE; NRTL/CSA disponibile su richiesta
Struttura Acciaio a doppio strato con due ventilatori di raffreddamento ad alta velocità

Perché Sceglierci

  • Termotecnica Sofisticata: Utilizzando una combinazione unica di elementi riscaldanti MoSi2 e SiC, questo forno offre un range operativo più ampio e gradienti termici più stabili rispetto ai sistemi standard a elemento singolo.
  • Controllo dell'Atmosfera Ineguagliabile: L'inclusione di tubi in allumina ad alta purezza e flange a vuoto in acciaio inossidabile di precisione garantisce un ambiente privo di contaminanti per i processi di deposizione chimica da vapore e semiconduttori più sensibili.
  • Affidabilità di Grado Industriale: Con una costruzione in acciaio a doppia parete e componenti elettronici certificati CE, questo sistema è costruito per resistere alle difficoltà del lavoro continuo di R&S ad alta temperatura senza degrado.
  • Precisione e Programmabilità: Ciascuna delle tre zone è gestita da controller PID a 30 segmenti separati, consentendo ricette complesse e multi-stadio che possono essere sincronizzate o programmate per delta termici distinti.
  • Personalizzabile e a Prova di Futuro: THERMUNITS offre ampie opzioni di aggiornamento inclusi controller ad alta precisione di fabbricazione europea, gestione software basata su LabVIEW e raccordi specializzati per l'immissione di gas per soddisfare le esigenze di ricerca in evoluzione.

Il nostro team di ingegneria tecnica è pronto ad aiutarvi a configurare la configurazione del forno ideale per le vostre specifiche esigenze di ricerca; vi preghiamo di contattarci oggi per un preventivo dettagliato o per discutere modifiche personalizzate al sistema.

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